JPH0372595B2 - - Google Patents

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JPH0372595B2
JPH0372595B2 JP59014101A JP1410184A JPH0372595B2 JP H0372595 B2 JPH0372595 B2 JP H0372595B2 JP 59014101 A JP59014101 A JP 59014101A JP 1410184 A JP1410184 A JP 1410184A JP H0372595 B2 JPH0372595 B2 JP H0372595B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
composition
thermal expansion
magnetic
basic composition
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59014101A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60161372A (ja
Inventor
Nobuo Saito
Takashi Higo
Tomohito Ishihara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP59014101A priority Critical patent/JPS60161372A/ja
Publication of JPS60161372A publication Critical patent/JPS60161372A/ja
Publication of JPH0372595B2 publication Critical patent/JPH0372595B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は電子計算機、パソコンやオーデイオに
用いられる各種磁気ヘツド用スライダー、テープ
ガイド、レーザーミラー、薄膜基板などを形成す
る磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物に関する
ものである。 磁気ヘツドを製作する場合、フエライトと非磁
性セラミツクをガラスでボンデイングする。この
場合フエライトと非磁性セラミツクの熱膨張係数
が相異するとガラスにクラツクが発生したり、製
品に歪が発生し好ましくない。また非磁性セラミ
ツクに空孔が多く存在すると磁気ヘツドの場合、
その上をテープやデイスクが送行する時、コーテ
イングされた磁性粉が空孔に付着し、この磁性粉
によりテープやデイスクの表面が損傷する為空孔
の小さいことが要求される。 ちなみに従来は、此種の非磁性セラミツク組成
物としてチタン酸バリウムを基本組成とするもの
或いはチタン酸カルシウムを基本組成とするもの
を用いている。ところが前者、即ちチタン酸バリ
ウムを基本組成とする非磁性セラミツク組成物は
熱膨張係数が90〜100×10-7/℃でNi−Znフエラ
イトを主成分とする磁気ヘツド用コア(熱膨張係
数90〜100×10-7/℃)に合わすことができるも
のの、Mn−Znフエライトを主成分とする磁気ヘ
ツド用コア(熱膨張係数100〜125×10-7/℃)と
対応して使用することができない不具合を有す
る。仮に熱膨張係数を上げる工夫を施すにしても
BaOは熱膨張係数を高くする寄与率が極めて低
く熱膨張係数を高くすることができない。また後
者、即ちチタン酸カルシウムを主成分とする非磁
性セラミツク組成物は熱膨張係数が100〜125×
10-7/℃でMn−Znフエライトを主成分とする磁
気ヘツド用コアと対応して使用することができる
ものの、CaO(カルシア)はTiO2(チタニア)モ
ル比1に対して1以上加えると焼結性が悪くなる
ばかりでなく、適度な機械的強度が出なくなる不
具合を有する。 本発明は、上記不具合を解消して空孔が小さく
少いという特徴だけでなく、熱膨張係数を80〜
125×10-7/℃まで任意に変化可能でNi−Znフエ
ライトのみならずMn−Znフエライトからなる磁
気ヘツド用コア等のフエライト磁性体に対応して
使用でき、レーザーミラーや薄膜基板への応用も
でき、加工性も頗る良好な磁気ヘツド用非磁性セ
ラミツク組成物を提供せんとするものである。 その目的を達成する為の基本的な構成は、
TiO2が40〜80重量%で、かつMgOが60〜20重量
%の含有物を基本組成とし、この基本組成100重
量%に対してCaO、Al2O3、SiO2、BaO、
MnO2、SrO、粘土の各成分の任意の混合物を添
加剤として0.2〜10重量%添加したものである。 以下、本発明の実施例を説明する。 基本組成はTiO2とMgOとの混合物であり、そ
の混合比はTiO2が40〜80重量%でMgOが60〜20
重量%よりなるものであり、この基本組成に対し
て添加剤を0.2〜10重量%を添加する。添加剤は、
CaO、Al2O3、SiO2、BaO、MnO2、SrO、粘土
の各成分の任意の混合物であり、この添加剤を上
記基本組成100重量%に対して0.2〜10重量%添加
する。粘土はAl2O3、SiO2その他の混合物である
ので、粘土を添加剤として単独で使用する場合も
上記の各成分の任意の混合物として取り扱う。 ここで本発明の基本組成においてTiO2(チタニ
ア)を40〜80重量%とする理由は40重量%以下
(試料11)では組成物そのものの焼結性が悪くな
つて別表のように硬度、機械的強度が低下し、ま
た80重量%を越える(試料13)と必然的にMgO
が20重量%以下となり熱膨張係数が小さくなるか
らである。また更に添加助剤を基本組成に対して
0.2〜10重量%添加する理由は空孔の発生率の低
下、機械的強度の調整、焼結性の向上を図る為で
ある。 以下、実施例について詳述する。 試料、即ち、TiO2が40〜80重量%、MgOが60
〜20重量%からなる基本組成に対して、CaO、
Al2O3、SiO2、BaO、MnO2、SrO、粘土の各成
分の任意の混合物よりなる添加剤を合量0.2〜10
重量%添加配合してからポツトミルを用いて混合
粉砕した。 この混合試料を800〜1200℃の範囲内で仮焼し、
それを均一に微粉砕し、更にラバープレスで成形
し、これを1250℃〜1450℃の範囲内の温度で焼結
させた。得られた組成物の性質を測定し、表1に
示し、また比較例としてチタン酸カルシウムを主
成分とする組成物及び組成比の範囲の前記の範囲
より逸脱する組成物を同様に成形し、これを本発
明の組成物との性質の比較検討をあわせて加え表
2に示した。 即ち、表1、2によつて明らかなように、
MgOを20から60重量%(TiO280から40重量%)
まで組成比を変化させることにより(試料1〜
9)、熱膨張係数を80〜125×10-7/℃まで自在に
変化させることが可能であり、しかもどの組成比
においても1500〜1700Kg/cm2範囲の一定した抗折
強度を得ることができ、マイクロ・ヴイツカース
硬度においてもチタン酸カルシウムより低く適度
の強度を維持でき、吸水率も0である。ちなみに
添加剤においてCaOを増量する(試料5)と硬度
が増大し、900Kg/mm2以下に抑える為にCaOは10
重量%以下に添加量を抑えることが最良であるこ
とが理解できる。ちなみに別紙表2に示す比較例
の場合には添加剤を0.1重量%以下(試料14)或
いは抹消する(試料10)と強度が低下すると共に
吸水率が0でなくなり、また、TiO2の混合量を
80重量%よりも増大させてNgOを20重量%より
も減少させると(試料13)と熱膨張係数が著しく
低下し、更にTiO2の混合量を40重量%よりも減
量させてNgO60重量%よりもを増大させる(試
料11)と抗折強度が低下し、吸水率が0でなくな
る等不都合が生じることが解明され、またチタン
酸カルシウムを主成分とするもの(試料15)は硬
度が高すぎ、加工精度が悪いことも立証された。 本発明は以上のように構成したので磁気ヘツド
用スライダーの主成分を形成するNi−Znフエラ
イト・Mn−Znフエライトの熱膨張係数に対応し
て熱膨張係数を自在に変化でき、空孔の発生も少
なく、強度が高いばかりでなく適度の硬度を有す
る有用な磁気ヘツド用の非磁性セラミツク組成物
を供し得る。 また、本発明非磁性セラミツク組成物は、実施
例に示すように125×10-7/℃まで高めることが
できる為、熱膨張率の高い金属を薄膜として形成
する場合に有効であり、組成として硬度も高くな
い為、加工性も良い。本発明非磁性セラミツク組
成物の加工性の良好なることを、さらに別紙表3
をあげて説明する。加工特性の指標である研削抵
抗はその数値が小さいほど加工性が良好であるこ
とを示す。 上記のとおり、本発明者らは、TiO2が40〜80
重量%で、かつMgOが60〜20重量%の含有物を
基本組成とし、この基本組成100重量%に対して
CaO、Al2O3、SiO2、BaO、MnO2、SrO、粘土
の各成分の任意の混合物を添加剤として0.2〜10
重量%添加した非磁性セラミツク組成物を創製す
ることによつて所期の目的を達成することができ
た。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 TiO2が40〜80重量%で、かつMgOが60〜20
    重量%の含有物を基本組成とし、この基本組成
    100重量%に対してCaO、Al2O3、SiO2、BaO、
    MnO2、SrO、粘土の各成分の任意を混合物を添
    加剤として0.2〜10重量%添加したことを特徴と
    する磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物。
JP59014101A 1984-01-28 1984-01-28 磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物 Granted JPS60161372A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59014101A JPS60161372A (ja) 1984-01-28 1984-01-28 磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物

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JP59014101A JPS60161372A (ja) 1984-01-28 1984-01-28 磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物

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Publication Number Publication Date
JPS60161372A JPS60161372A (ja) 1985-08-23
JPH0372595B2 true JPH0372595B2 (ja) 1991-11-19

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JP59014101A Granted JPS60161372A (ja) 1984-01-28 1984-01-28 磁気ヘツド用非磁性セラミツク組成物

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58139322A (ja) * 1982-02-10 1983-08-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気ヘツド止め具用磁器組成物
JPS58143427A (ja) * 1982-02-19 1983-08-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気ヘツド止め具用磁器素体

Also Published As

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JPS60161372A (ja) 1985-08-23

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