JPH0310209B2 - - Google Patents
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- JPH0310209B2 JPH0310209B2 JP58162197A JP16219783A JPH0310209B2 JP H0310209 B2 JPH0310209 B2 JP H0310209B2 JP 58162197 A JP58162197 A JP 58162197A JP 16219783 A JP16219783 A JP 16219783A JP H0310209 B2 JPH0310209 B2 JP H0310209B2
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- thin film
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は基板に蒸着された薄膜の皮膜強度を高
くする範膜磁気ヘツド用基板に関する。 従来例の構成とその問題点 従来、TiC系のセラミツクはその高い耐摩耗性
により広く普及している。特にTiC−Al2O3系セ
ラミツクは、薄膜用ベース基板として最近特に注
目されている。しかしながら、これら基板の鏡面
研摩面に磁性材料（特にフエライト系）を蒸着し
た場合、蒸着した皮膜強度が弱いという欠点があ
つた。原因としては、TiC−Al2O3と磁性材料と
の反応性が低いためである。 発明の目的 本発明は従来の欠点を除去し、蒸着した皮膜強
度を高めると共に、機械特性（特に加工時のチツ
ピング）を向上させることが可能な薄膜磁気ヘツ
ド用基板を得るにある。 発明の構成 本発明の薄膜磁気ヘツド用基板を、表面にFe
系磁気ヘツドコアが形成される薄膜磁気ヘツド用
基板であつて、TiC，Al2O3の両者合計70〜98重
量％と、Fe2O3又はFe2O3を主成分とし、NiO，
CoO，ZnOの１種以上よりなる磁性材料30〜２重
量％から成り、前記TiCは50重量％を超えず、焼
結助成剤10重量％以下を含有させ、前記焼結助成
剤が、アルカリ土類酸化物及びSiO2の１種以上
より成るよう構成したものである。 実施例の説明 本発明を実施例に基づいて説明する。 試料の調整工程としては市販の工業用原料（純
度99％以上）のTiC，Al2O3，BaCO3，MgO，
CaCO3，SiO2，Fe2O3，NiO，CoO，MnO，
ZnO粉末を準備し、第１表に示す組成比に薄膜磁
気ヘツド用基板組成物（以下単に組成物という。）
を配合する。
くする範膜磁気ヘツド用基板に関する。 従来例の構成とその問題点 従来、TiC系のセラミツクはその高い耐摩耗性
により広く普及している。特にTiC−Al2O3系セ
ラミツクは、薄膜用ベース基板として最近特に注
目されている。しかしながら、これら基板の鏡面
研摩面に磁性材料（特にフエライト系）を蒸着し
た場合、蒸着した皮膜強度が弱いという欠点があ
つた。原因としては、TiC−Al2O3と磁性材料と
の反応性が低いためである。 発明の目的 本発明は従来の欠点を除去し、蒸着した皮膜強
度を高めると共に、機械特性（特に加工時のチツ
ピング）を向上させることが可能な薄膜磁気ヘツ
ド用基板を得るにある。 発明の構成 本発明の薄膜磁気ヘツド用基板を、表面にFe
系磁気ヘツドコアが形成される薄膜磁気ヘツド用
基板であつて、TiC，Al2O3の両者合計70〜98重
量％と、Fe2O3又はFe2O3を主成分とし、NiO，
CoO，ZnOの１種以上よりなる磁性材料30〜２重
量％から成り、前記TiCは50重量％を超えず、焼
結助成剤10重量％以下を含有させ、前記焼結助成
剤が、アルカリ土類酸化物及びSiO2の１種以上
より成るよう構成したものである。 実施例の説明 本発明を実施例に基づいて説明する。 試料の調整工程としては市販の工業用原料（純
度99％以上）のTiC，Al2O3，BaCO3，MgO，
CaCO3，SiO2，Fe2O3，NiO，CoO，MnO，
ZnO粉末を準備し、第１表に示す組成比に薄膜磁
気ヘツド用基板組成物（以下単に組成物という。）
を配合する。
【表】
前記組成物をステンレスポツト、ステンレスボ
ールを用い24時間混合し、乾燥し乾燥体とした。 前記乾燥体に精製水を加え50mm×50mm×10mmの
角形に1t／cm2の加圧力で成形し、これらの成形体
を水素ガス気流中、1600℃〜1700℃の温度で２時
間焼結した。前記焼結体をアルゴンガス中1500℃
−2000atmにて熱間静水圧プレス（HIP）し、そ
の後N2中1000〜1100℃にてアニール処理をした。
このようにして得られたTiC−Al2O3基板に
Fe2O3系磁気材料をスパツタ蒸着させる。 前記基板について第２表のような各諸特性を調
べた。
ールを用い24時間混合し、乾燥し乾燥体とした。 前記乾燥体に精製水を加え50mm×50mm×10mmの
角形に1t／cm2の加圧力で成形し、これらの成形体
を水素ガス気流中、1600℃〜1700℃の温度で２時
間焼結した。前記焼結体をアルゴンガス中1500℃
−2000atmにて熱間静水圧プレス（HIP）し、そ
の後N2中1000〜1100℃にてアニール処理をした。
このようにして得られたTiC−Al2O3基板に
Fe2O3系磁気材料をスパツタ蒸着させる。 前記基板について第２表のような各諸特性を調
べた。
【表】
【表】
第１表、第２表より明らかなように本発明範囲
内の実施例はサンプルNo.１〜No.８、No.10であり、
他は範囲外の比較例である。本発明範囲内の試料
は、用途に適した機械的特性、皮膜強度などを示
している。またNo.９、No.11〜No.14は範囲外であ
り、皮膜強度、熱衝撃性が悪いものである。 なお、前記範囲において、TiC量が50重量％を
超えると焼結性が著しく低下する。TiC，Al2O3
の合計が70重量％未満では添加物相の結晶粒界へ
の偏析が起こり、熱衝撃性の低下及び機械強度の
低下をもたらす。98重量％を超えると、TiC−
Al2O3間の焼結助成分が少なくなり、焼結性の低
下をおこす。磁性材料が２重量％未満では皮膜強
度は添加しない場合に比較して差は発生しない。
30重量％を超えると、皮膜強度の増加がないばか
りか、磁性材料相の偏析がおこり、熱衝撃性が低
下するとともに、皮膜の磁気特性に悪影響を与え
る。また焼結助成剤が10重量部を超えると、機械
強度が低下するとともに、機械加工時のチツピン
グ発生率増加や、異相析出による熱衝撃性の低下
をきたす。 ここで焼結助成剤としてSiO2，CaCO3を用い
たが、BaCO3，MgOなどTiC−Al2O3，Al2O3−
Al2O3間の焼結を促進させる成分であれば特に限
定はしない。 また磁性材料としてFe2O3などを用いたが、薄
膜に用いる材料でも同等の結果が得られる。ただ
し、金属を薄膜にする場合は、前記金属の酸化物
を添加する。金属成分のまま添加すると、前記金
属が偏析し、磁気ヘツドの磁気特性に悪影響を与
える。 発明の効果 本発明の薄膜磁気ヘツド用基板は、基板中に
Fe2O3が入つているので、Fe系（Fe・Al−Si，
Fe−Ni，Fe2O3等）の磁気ヘツドコアであれば
どのようなものでも結合強度が大きくなる。 この理由として、基板中に存在しているFe原
子と、磁気ヘツドコア中に存在しているFe原子
とが密接に結合することが考えられる。 したがつて、本発明の基板では、Fe系の磁気
ヘツドコアであればよく、必ずしも基板と磁気ヘ
ツドコアの磁性材料を同一物にする必要はない。 本発明により磁気材料皮膜と薄膜磁気ヘツド用
基板間の結合強度が30〜70％アツプするものであ
る。
内の実施例はサンプルNo.１〜No.８、No.10であり、
他は範囲外の比較例である。本発明範囲内の試料
は、用途に適した機械的特性、皮膜強度などを示
している。またNo.９、No.11〜No.14は範囲外であ
り、皮膜強度、熱衝撃性が悪いものである。 なお、前記範囲において、TiC量が50重量％を
超えると焼結性が著しく低下する。TiC，Al2O3
の合計が70重量％未満では添加物相の結晶粒界へ
の偏析が起こり、熱衝撃性の低下及び機械強度の
低下をもたらす。98重量％を超えると、TiC−
Al2O3間の焼結助成分が少なくなり、焼結性の低
下をおこす。磁性材料が２重量％未満では皮膜強
度は添加しない場合に比較して差は発生しない。
30重量％を超えると、皮膜強度の増加がないばか
りか、磁性材料相の偏析がおこり、熱衝撃性が低
下するとともに、皮膜の磁気特性に悪影響を与え
る。また焼結助成剤が10重量部を超えると、機械
強度が低下するとともに、機械加工時のチツピン
グ発生率増加や、異相析出による熱衝撃性の低下
をきたす。 ここで焼結助成剤としてSiO2，CaCO3を用い
たが、BaCO3，MgOなどTiC−Al2O3，Al2O3−
Al2O3間の焼結を促進させる成分であれば特に限
定はしない。 また磁性材料としてFe2O3などを用いたが、薄
膜に用いる材料でも同等の結果が得られる。ただ
し、金属を薄膜にする場合は、前記金属の酸化物
を添加する。金属成分のまま添加すると、前記金
属が偏析し、磁気ヘツドの磁気特性に悪影響を与
える。 発明の効果 本発明の薄膜磁気ヘツド用基板は、基板中に
Fe2O3が入つているので、Fe系（Fe・Al−Si，
Fe−Ni，Fe2O3等）の磁気ヘツドコアであれば
どのようなものでも結合強度が大きくなる。 この理由として、基板中に存在しているFe原
子と、磁気ヘツドコア中に存在しているFe原子
とが密接に結合することが考えられる。 したがつて、本発明の基板では、Fe系の磁気
ヘツドコアであればよく、必ずしも基板と磁気ヘ
ツドコアの磁性材料を同一物にする必要はない。 本発明により磁気材料皮膜と薄膜磁気ヘツド用
基板間の結合強度が30〜70％アツプするものであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 表面にFe系磁気ヘツドコアが形成される薄
膜磁気ヘツド用基板であつて、TiC，Al2O3の両
者合計70〜98重量％と、Fe2O3又はFe2O3を主成
分とし、NiO，CoO，ZnOの１種以上よりなる磁
性材料30〜２重量％から成り、前記TiCは50重量
％を超えず、焼結助成剤10重量％以下を含有する
薄膜磁気ヘツド用基板。 ２ 前記焼結助成剤が、アルカリ土類酸化物及び
SiO2の１種以上よりなることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘツド用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162197A JPS6054410A (ja) | 1983-09-03 | 1983-09-03 | 薄膜磁気ヘッド用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162197A JPS6054410A (ja) | 1983-09-03 | 1983-09-03 | 薄膜磁気ヘッド用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6054410A JPS6054410A (ja) | 1985-03-28 |
| JPH0310209B2 true JPH0310209B2 (ja) | 1991-02-13 |
Family
ID=15749833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58162197A Granted JPS6054410A (ja) | 1983-09-03 | 1983-09-03 | 薄膜磁気ヘッド用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054410A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5060097A (en) * | 1989-01-06 | 1991-10-22 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc file including a slider which exhibits reduced deformation during operation |
| JP2549095Y2 (ja) * | 1991-06-18 | 1997-09-24 | 株式会社サンエー化研 | 金魚等の水棲生物入り袋 |
-
1983
- 1983-09-03 JP JP58162197A patent/JPS6054410A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6054410A (ja) | 1985-03-28 |
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