JPH037294A - 有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
有機ケイ素化合物の製造方法Info
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機ケイ素化合物の製造方法及びそれによっ
て得られる新規な有機ケイ素化合物に関するものである
。
て得られる新規な有機ケイ素化合物に関するものである
。
アルケニルシラン類は、そのC=C二重結合を利用して
種々の構造のシラン類に誘導できるばかりでなく、ビニ
ルシラン独特の反応として立体特異的なオレフィンの合
成、α、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物、立体特異
的なアルコールやα−オキシカルボニル化合物の合成に
利用できる等、有機合成中間体、生理活性物質原料等と
して極めて有用な物質である。アルキルシラン類も有機
合成中間体、生理活性物質原料等に用いられる有用な物
質である。
種々の構造のシラン類に誘導できるばかりでなく、ビニ
ルシラン独特の反応として立体特異的なオレフィンの合
成、α、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物、立体特異
的なアルコールやα−オキシカルボニル化合物の合成に
利用できる等、有機合成中間体、生理活性物質原料等と
して極めて有用な物質である。アルキルシラン類も有機
合成中間体、生理活性物質原料等に用いられる有用な物
質である。
これらの用途については、5ynthesis、197
9,761;E、1.Co1vin著“Silicon
in Organic 5ynthesis、”Bu
tterworths(1981):V、P、Webe
r著“Silicon Reagents for O
rganic 5ynthesis”Springer
(1983)等に紹介されている。
9,761;E、1.Co1vin著“Silicon
in Organic 5ynthesis、”Bu
tterworths(1981):V、P、Webe
r著“Silicon Reagents for O
rganic 5ynthesis”Springer
(1983)等に紹介されている。
また、ビス(シリル)アルカン類は、有機合成中間体、
生理活性物質等に用いられるほか、高分子化してポリカ
ルボシランとすることにより、光分解性ポリマー、耐酸
素プラズマ性の高いレジスト材料、シリコンカーバイド
前駆体等として用いられる有用な物質である。
生理活性物質等に用いられるほか、高分子化してポリカ
ルボシランとすることにより、光分解性ポリマー、耐酸
素プラズマ性の高いレジスト材料、シリコンカーバイド
前駆体等として用いられる有用な物質である。
従来、アルケニルシラン類は、以下の4通りの方法で製
造されていた。
造されていた。
(1)アセチレン類をヒドロシラン類で、触媒存在下、
ヒドロシリル化する方法。
ヒドロシリル化する方法。
(2)アセチレン類を金属アセチリドとし、ハロシラン
類と反応させてシリルアセチレンとした後、還元する方
法。
類と反応させてシリルアセチレンとした後、還元する方
法。
(3)ハロゲン化アルケニルをアルケニル金属化合物と
した後、ハロシランと反応させる方法。
した後、ハロシランと反応させる方法。
(4)ハロゲン化アルケニルを、シリルアルカリ金属と
反応させる方法。
反応させる方法。
また、アルキルシラン類は、以下の2通りの方法で製造
されていた。
されていた。
(5)オレフィン類をヒドロシラン類で、触媒存在下、
ヒドロシリル化する方法。
ヒドロシリル化する方法。
(6)アルキル金属化合物とハロシラン類とを反応させ
る方法。
る方法。
さらに、ビス(シリル)アルカン類は以下の2通りの方
法で製造されていた。
法で製造されていた。
(7)アセチレン性不飽和結合C=Cを有する化合物と
5L−5L結合を有する化合物を触媒の存在下で反応さ
せて、いったん5L−C=C−5L結合を有する化合物
となした後、そのC=C結合を水素化する方法。
5L−5L結合を有する化合物を触媒の存在下で反応さ
せて、いったん5L−C=C−5L結合を有する化合物
となした後、そのC=C結合を水素化する方法。
(8) (1)から(4)の方法で製造されるビニルシ
ラン類とヒドロシラン類を触媒の存在下で反応させる方
法。
ラン類とヒドロシラン類を触媒の存在下で反応させる方
法。
しかし、これらの従来方法は、いずれも問題点を有して
満足すべき方法ではなかった。即ち、(1)、(2)及
び(7)の方法は、原料として用いるアセチレン類が一
般に高価である上、その一部のものは爆発性であるため
、工業的実施には大きな困難が伴う。また(1)、(5
)及び(8)の方法で用いるヒドロシラン類も一般には
高価であり、工業的に有利とは言えない。さらに(2)
、(3)、 (4)、(6)の方法で用いられるアルカ
リ金属、マグネシウム試薬等は高価であり、使用に危険
を伴うばかりでなく、その反応性が高いために、製造し
得る化合物の官能基の保護の面で重大な問題点を有して
いる。
満足すべき方法ではなかった。即ち、(1)、(2)及
び(7)の方法は、原料として用いるアセチレン類が一
般に高価である上、その一部のものは爆発性であるため
、工業的実施には大きな困難が伴う。また(1)、(5
)及び(8)の方法で用いるヒドロシラン類も一般には
高価であり、工業的に有利とは言えない。さらに(2)
、(3)、 (4)、(6)の方法で用いられるアルカ
リ金属、マグネシウム試薬等は高価であり、使用に危険
を伴うばかりでなく、その反応性が高いために、製造し
得る化合物の官能基の保護の面で重大な問題点を有して
いる。
また、(2)、(3)、(4)、(6)、(7)及び(
8)の方法は、いずれも迂遠な多段階反応である。
8)の方法は、いずれも迂遠な多段階反応である。
本発明は入手及び取扱いが容易なオレフィン性化合物と
、取扱い容易なジシラン化合物とから、−段で、Si−
C−C−3L結合、 C=C−5L結合及び/又はCH
−CI−3L結合を有する有機ケイ素化合物を製造し得
る方法及びそれによって得られる新規な有機ケイ素化合
物を提供することをその課題とする。
、取扱い容易なジシラン化合物とから、−段で、Si−
C−C−3L結合、 C=C−5L結合及び/又はCH
−CI−3L結合を有する有機ケイ素化合物を製造し得
る方法及びそれによって得られる新規な有機ケイ素化合
物を提供することをその課題とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた
結果、種々のオレフィン性化合物が白金含有触媒の存在
下で特定のジシラン化合物と容易に反応するという新規
な事実を見出し、この知見をもとに本発明を完成するに
至った。
結果、種々のオレフィン性化合物が白金含有触媒の存在
下で特定のジシラン化合物と容易に反応するという新規
な事実を見出し、この知見をもとに本発明を完成するに
至った。
即ち、本発明によれば、5L−C−C−5L結合、C=
C−5L結合及び/又はCH−C)l−3L結合を有す
る有機ケイ素化合物を製造するにあたり、オレフィン性
化合物と、−数式 %式% (式中、R’、Rs、R’、R’、R’及ヒR9ハ、
7)Lキ)I、r基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−
ジアルキルアミノ基、フ素、臭素又は塩素を表わし、そ
れらの置換基は相互に結合して環状構造を形成してもよ
い) で表わされるジシラン化合物とを、白金含有触媒の存在
下で反応させることを特徴とする方法が提供される。
C−5L結合及び/又はCH−C)l−3L結合を有す
る有機ケイ素化合物を製造するにあたり、オレフィン性
化合物と、−数式 %式% (式中、R’、Rs、R’、R’、R’及ヒR9ハ、
7)Lキ)I、r基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−
ジアルキルアミノ基、フ素、臭素又は塩素を表わし、そ
れらの置換基は相互に結合して環状構造を形成してもよ
い) で表わされるジシラン化合物とを、白金含有触媒の存在
下で反応させることを特徴とする方法が提供される。
また、本発明によれば、前記方法によって得られる新規
な有機ケイ素化合物が提供される。
な有機ケイ素化合物が提供される。
本発明で用いるオレフィン性化合物としては、エチレン
や、各種エチレン置換体が用いられ、例えば、次の一般
式で表わされるものが挙げられる。
や、各種エチレン置換体が用いられ、例えば、次の一般
式で表わされるものが挙げられる。
R”R2C=CHR’ (1)前
記式中、R1,R”及びR3は水素、アルキル基、シク
ロアルキル基、脂肪族複素環基、アラルキル基、アリー
ル基、芳香族複素環基、アルコキシカルボニル基、シア
ノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボニル基、アルコ
キシ基、N、N−ジアルキルアミノ基、N−アルキル−
N−アシルアミノ基又はN、N−ジアシルアミノ基であ
る。また、それらの置換基は。
記式中、R1,R”及びR3は水素、アルキル基、シク
ロアルキル基、脂肪族複素環基、アラルキル基、アリー
ル基、芳香族複素環基、アルコキシカルボニル基、シア
ノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボニル基、アルコ
キシ基、N、N−ジアルキルアミノ基、N−アルキル−
N−アシルアミノ基又はN、N−ジアシルアミノ基であ
る。また、それらの置換基は。
相互に結合して環状構造を形成してもよい。
このようなオレフィン性化合物としては、例えば、エチ
レン、プロピレン、シス−2−フテン、1−ヘキセン、
t−ブチルエチレン、シクロペンテン、ノルボルネン、
ビニルシクロヘキサン、2−ビニルテトラヒドロピラン
、α−メチレン−γ−ブチロラクトン、アリルベンゼン
、スチレン、4−ビニルピリジン、アクリル酸エチル、
アクリロニトリル、N、N−ジメチルアクリルアミド、
メチルビニルエーテル、 N−(1−シクロへキセニル
)−ピロリジン、 N−メチル−N−ビニルアセトアミ
ド、N−ビニルフタルイミド等が挙げられる。
レン、プロピレン、シス−2−フテン、1−ヘキセン、
t−ブチルエチレン、シクロペンテン、ノルボルネン、
ビニルシクロヘキサン、2−ビニルテトラヒドロピラン
、α−メチレン−γ−ブチロラクトン、アリルベンゼン
、スチレン、4−ビニルピリジン、アクリル酸エチル、
アクリロニトリル、N、N−ジメチルアクリルアミド、
メチルビニルエーテル、 N−(1−シクロへキセニル
)−ピロリジン、 N−メチル−N−ビニルアセトアミ
ド、N−ビニルフタルイミド等が挙げられる。
本発明でもうひとつの原料として用いるジシラン化合物
は、ケイ素原子に結合する全ての水素が置換された各種
のジシラン化合物が用いられる。
は、ケイ素原子に結合する全ての水素が置換された各種
のジシラン化合物が用いられる。
例えば、次の一般式で表わされるものが挙げられる。
R’R’R’S i−8i R’R”R’
(II)前記式中、R’、R’、R’、R’、R”及ヒ
R’ハ、 7/I/キ/L/基、シクロアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基
、N、N−ジアルキルアミノ基、フ素、臭素又は塩素で
ある。また、それらの置換基は相互に結合して環状構造
を形成してもよい。
(II)前記式中、R’、R’、R’、R’、R”及ヒ
R’ハ、 7/I/キ/L/基、シクロアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基
、N、N−ジアルキルアミノ基、フ素、臭素又は塩素で
ある。また、それらの置換基は相互に結合して環状構造
を形成してもよい。
このようなジシラン化合物としては、例えば、ヘキサメ
チルジシラン、ヘキサエチルジシラン、テトラメチルジ
フェニルジシラン、テトラフエニルジメチルジシラン、
ジフルオロテトラメチルジシラン、ジグロロテトラメチ
ルジシラン、トリクロロトリメチルジシラン、テトラク
ロロジメチルジシラン、ジメトキシテトラメチルジシラ
ン、ヘキサクロロジシラン、テトラメトキシジメチルジ
シラン、テトラフルオロジメチルジシラン等を挙げるこ
とができる。これらの化合物は、混合物として用いるこ
ともできる。
チルジシラン、ヘキサエチルジシラン、テトラメチルジ
フェニルジシラン、テトラフエニルジメチルジシラン、
ジフルオロテトラメチルジシラン、ジグロロテトラメチ
ルジシラン、トリクロロトリメチルジシラン、テトラク
ロロジメチルジシラン、ジメトキシテトラメチルジシラ
ン、ヘキサクロロジシラン、テトラメトキシジメチルジ
シラン、テトラフルオロジメチルジシラン等を挙げるこ
とができる。これらの化合物は、混合物として用いるこ
ともできる。
本発明の方法におけるオレフィン性化合物とジシラン化
合物の比率には、特に制限はないが、収率等を考慮すれ
ば、オレフィン性化合物ニジシラン化合物のモル比で、
100:1〜1:10程度の範囲が好ましい。
合物の比率には、特に制限はないが、収率等を考慮すれ
ば、オレフィン性化合物ニジシラン化合物のモル比で、
100:1〜1:10程度の範囲が好ましい。
本発明においては、触媒として白金含有触媒を用いる。
白金含有触媒としては、従来公知の各種のものを使用す
ることができ、例えば配位子を有する白金錯体、白金の
塩、活性炭等の担体担持白金等を用いることができる。
ることができ、例えば配位子を有する白金錯体、白金の
塩、活性炭等の担体担持白金等を用いることができる。
これらの白金触媒の具体例を示すと、例えば、テトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)白金、テトラキス(ジメ
チルフェニルホスフィン)白金、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)白金、エチレンビス(トリフェニル
ホスフィン)白金、クロロヒドリドビス(トリエチルホ
スフィン)白金、ジクロロ(テトラメチルエチレンジア
ミン)白金、ジブロモビス(トリメチルホスファイト)
白金、ジクロロビス(ベンゾニトリル)白金、ビス(シ
クロオクタジエン)白金、ジクロロ(シクロオクタジエ
ン)白金、ビス(ベンジリデンアセトン)白金、Zei
se塩、塩化白金、塩化白金酸及びその塩、白金黒、白
金カーボンなどが挙げられる。これらの白金錯体、塩等
は配位子と共存させて用いてもよい。
ス(トリフェニルホスフィン)白金、テトラキス(ジメ
チルフェニルホスフィン)白金、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)白金、エチレンビス(トリフェニル
ホスフィン)白金、クロロヒドリドビス(トリエチルホ
スフィン)白金、ジクロロ(テトラメチルエチレンジア
ミン)白金、ジブロモビス(トリメチルホスファイト)
白金、ジクロロビス(ベンゾニトリル)白金、ビス(シ
クロオクタジエン)白金、ジクロロ(シクロオクタジエ
ン)白金、ビス(ベンジリデンアセトン)白金、Zei
se塩、塩化白金、塩化白金酸及びその塩、白金黒、白
金カーボンなどが挙げられる。これらの白金錯体、塩等
は配位子と共存させて用いてもよい。
白金含有触媒の使用量は、いわゆる触媒量でよく、一般
には、ジシラン化合物に対するモル比で。
には、ジシラン化合物に対するモル比で。
o、ooo◇1〜0.5の範囲で使用される。
本発明の反応は、0℃以上、好ましくは50℃〜250
℃の反応温度で実施される。また、本発明の反応は、溶
媒の存在下又は不存在下で実施することができるが、溶
媒を用いる場合は、通常用いられる溶媒、例えば、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサン等の各種の有機溶媒を用いる
ことができる。
℃の反応温度で実施される。また、本発明の反応は、溶
媒の存在下又は不存在下で実施することができるが、溶
媒を用いる場合は、通常用いられる溶媒、例えば、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサン等の各種の有機溶媒を用いる
ことができる。
本発明において、ジシラン化合物として、アルコキシ基
、フッ素、臭素又は塩素がケイ素原子に結合した構造の
ものを用いる場合には、前記の反応で得られた生成物は
、さらに、アルキルリチウム、アリールリチウム又はグ
リニヤール試薬で処理することができ、これによって対
応するアルキル化又はアリール化された有機ケイ素化合
物を得ることができる。アルキルリチウムやアリールリ
チウムとしては、好ましくは、メチルリチウム及びフェ
ニルリチウムが用いられる。また、グリニヤール試薬と
しては1次の一般式で示されるものが用いられる。
、フッ素、臭素又は塩素がケイ素原子に結合した構造の
ものを用いる場合には、前記の反応で得られた生成物は
、さらに、アルキルリチウム、アリールリチウム又はグ
リニヤール試薬で処理することができ、これによって対
応するアルキル化又はアリール化された有機ケイ素化合
物を得ることができる。アルキルリチウムやアリールリ
チウムとしては、好ましくは、メチルリチウム及びフェ
ニルリチウムが用いられる。また、グリニヤール試薬と
しては1次の一般式で示されるものが用いられる。
MgX
前記式中、Rは各種有機置換基を示す。このものは、前
記の方法で生成された有機ケイ素化合物に結合させる所
望の基に応じて適当に選ばれる。
記の方法で生成された有機ケイ素化合物に結合させる所
望の基に応じて適当に選ばれる。
Xはハロゲン原子である。
反応混合物からの目的生成物の分離精製は。
数的には、蒸留、クロマトグラフィー等の有機化学的に
通常用いられる手段により、容易に達せられる。
通常用いられる手段により、容易に達せられる。
本発明の方法において、オレフィン性化合物としてエチ
レンを用いる場合には、次の一般式で表わされる有機ケ
イ素化合物を得ることができる。
レンを用いる場合には、次の一般式で表わされる有機ケ
イ素化合物を得ることができる。
前記−数式(A)で示される有機ケイ素化合物を例示す
れば、l、2−ビス(トリメチルシリル)エタン、1.
2−ビス(トリエチルシリル)エタン、1.2−ビス(
ジメチルフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(メチ
ルジフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(フルオロ
ジメチルシリル)エタン、l、2−ビス(クロロジメチ
ルシリル)エタン、1−(クロロジメチルシリル)−2
−(ジクロロメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ
ククロメチルシリル)エタン、1.2−ビス(メトキシ
ジメチルシリル)エタン、1,2−ビス(トリクロロシ
リル)エタン、1,2−ビス(ジメトキシメチルシリル
)エタン、1.2−ビス(ジフルオロメチルシリル)エ
タン、1,1,4,4.−テトラメチル−1,4−ジシ
ランクロへブタン等を挙げることができる。
れば、l、2−ビス(トリメチルシリル)エタン、1.
2−ビス(トリエチルシリル)エタン、1.2−ビス(
ジメチルフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(メチ
ルジフェニルシリル)エタン、1,2−ビス(フルオロ
ジメチルシリル)エタン、l、2−ビス(クロロジメチ
ルシリル)エタン、1−(クロロジメチルシリル)−2
−(ジクロロメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジ
ククロメチルシリル)エタン、1.2−ビス(メトキシ
ジメチルシリル)エタン、1,2−ビス(トリクロロシ
リル)エタン、1,2−ビス(ジメトキシメチルシリル
)エタン、1.2−ビス(ジフルオロメチルシリル)エ
タン、1,1,4,4.−テトラメチル−1,4−ジシ
ランクロへブタン等を挙げることができる。
また1本発明において、オレフィン性化合物としてエチ
レン置換体を用いる場合には、次の一般式で表わされる
アルケニルシラン化合物を得ることができる。
レン置換体を用いる場合には、次の一般式で表わされる
アルケニルシラン化合物を得ることができる。
R”R”C=CR3(S i R’R’R’)
(B)前記式中、RL 、R2、R3は、水素原子、
アルキル基。
(B)前記式中、RL 、R2、R3は、水素原子、
アルキル基。
シクロアルキル基、脂肪族複素環基、アラルキル基、ア
リール基、芳香族複素環基、アルコキシカルボニル基、
シアノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボニル基、ア
ルコキシ基、N、N−ジアルキルアミノ基、N−アルキ
ル−N−アシルアミノ基又はN、N−ジアシルアミノ基
である。これらの置換基は相互に結合して環状構造を形
成してもよい。R’ 、R’ 、R’は。
リール基、芳香族複素環基、アルコキシカルボニル基、
シアノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボニル基、ア
ルコキシ基、N、N−ジアルキルアミノ基、N−アルキ
ル−N−アシルアミノ基又はN、N−ジアシルアミノ基
である。これらの置換基は相互に結合して環状構造を形
成してもよい。R’ 、R’ 、R’は。
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキ
ルアミノ基、フッ素、臭素又は塩素である。
ル基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキ
ルアミノ基、フッ素、臭素又は塩素である。
さらに、本発明によれば、次の一般式(C)で表わされ
るアルキルシラン化合物及び/又は−数式(D)で表わ
されるビス(シリル)アルカン化合物を得ることができ
る。
るアルキルシラン化合物及び/又は−数式(D)で表わ
されるビス(シリル)アルカン化合物を得ることができ
る。
RlR”CHCHR3(SiR’R’R’)
(C)(式中、 R1,R”、R3,R’、R
’、R’lt、式(A)ト同シ)R”R2O(S i
R’R’R’)CHR3(S i R’R5R’)
(D)(式中、R1,R”、R’、R’、Rs、R
’Lt式(A)ト同り、テアリ、R’、R”、R’はア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキル
アミノ基、フッ素、臭素又は塩素であり、R4,R5,
R@は相互に結合して環状構造を形成してもよい。) これらのアルケニルシラン化合物、アルキルシラン化合
物、ビス(シリル)アルカン化合物を例示すれば、1−
プロペニルフルオロジメチルシラン、1−へキシルフル
オロジメチルシラン、3,3−ジメチル−1−ブテニル
トリメチルシラン、2−シクロヘキシルビニルトリメチ
ルシラン、 2−(2−(hす(N、N−ジメチルアミ
ノ)シリル)エチルコテトラヒドロピラン、α−トリメ
チルシリルメチリデン−γ−ブチロラクトン、スチリル
トリメチルシラン、4−ピリジルエチニルトリエチルシ
ラン、2−(トリメトキシシリル)アクリル酸メチル、
2−(フエニルジメチルシリル)アクリロニトリル22
−トリメチルシリル−N、N−ジメチルアクリルアミド
、プロピルトリメトキシシラン、n−へキシルフルオロ
ジメチルシラン、2−シクロヘキシルエチルトリメチル
シラン、3−フェニルプロピルトリアセトキシシラン、
3.3−ジメチルブチルトリメチルシラン、メチル(2
−トリメトキシシリルエチル)エーテル、N−(2−ト
リメチルシリル−1−シクロへキセニルーピロリジン、
N−(2−トリメチルシリルエチル)アセトアミド、
N−(2−フエニルジメチルシリルエチニル)フタルイ
ミド、1,2−ビス(トリメトキシシリル)プロパン、
2゜3−ビス(クロロジメチルシリル)ブタン、■、2
−ビス(クロロジメチルシリル)シクロペンタン、2,
3−ビス(クロロフェニルメチルシリル)ノルボルナン
等をあげることができる。
(C)(式中、 R1,R”、R3,R’、R
’、R’lt、式(A)ト同シ)R”R2O(S i
R’R’R’)CHR3(S i R’R5R’)
(D)(式中、R1,R”、R’、R’、Rs、R
’Lt式(A)ト同り、テアリ、R’、R”、R’はア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキル
アミノ基、フッ素、臭素又は塩素であり、R4,R5,
R@は相互に結合して環状構造を形成してもよい。) これらのアルケニルシラン化合物、アルキルシラン化合
物、ビス(シリル)アルカン化合物を例示すれば、1−
プロペニルフルオロジメチルシラン、1−へキシルフル
オロジメチルシラン、3,3−ジメチル−1−ブテニル
トリメチルシラン、2−シクロヘキシルビニルトリメチ
ルシラン、 2−(2−(hす(N、N−ジメチルアミ
ノ)シリル)エチルコテトラヒドロピラン、α−トリメ
チルシリルメチリデン−γ−ブチロラクトン、スチリル
トリメチルシラン、4−ピリジルエチニルトリエチルシ
ラン、2−(トリメトキシシリル)アクリル酸メチル、
2−(フエニルジメチルシリル)アクリロニトリル22
−トリメチルシリル−N、N−ジメチルアクリルアミド
、プロピルトリメトキシシラン、n−へキシルフルオロ
ジメチルシラン、2−シクロヘキシルエチルトリメチル
シラン、3−フェニルプロピルトリアセトキシシラン、
3.3−ジメチルブチルトリメチルシラン、メチル(2
−トリメトキシシリルエチル)エーテル、N−(2−ト
リメチルシリル−1−シクロへキセニルーピロリジン、
N−(2−トリメチルシリルエチル)アセトアミド、
N−(2−フエニルジメチルシリルエチニル)フタルイ
ミド、1,2−ビス(トリメトキシシリル)プロパン、
2゜3−ビス(クロロジメチルシリル)ブタン、■、2
−ビス(クロロジメチルシリル)シクロペンタン、2,
3−ビス(クロロフェニルメチルシリル)ノルボルナン
等をあげることができる。
本発明の方法によれば、次の一般式で表わされる新規な
有機ケイ素化合物を得ることができる。
有機ケイ素化合物を得ることができる。
A”、A”、、S i CH2CH,S i A3oA
’3. (III)前記式中、A1及びA3は
アルキル基であり、相互に結合して環状構造を形成して
もよい。A2及びA4はアルコキシ基又はアリール基で
ある。I及びnは0又は1〜3の整数である。
’3. (III)前記式中、A1及びA3は
アルキル基であり、相互に結合して環状構造を形成して
もよい。A2及びA4はアルコキシ基又はアリール基で
ある。I及びnは0又は1〜3の整数である。
また、本発明によれば、次の一般式で表わされる新規な
有機化合物を得ることができる。
有機化合物を得ることができる。
前記式中、A’ 、A’ 、A’ 、A’ 、A’及ヒ
A” ハフ /L/ キ/L/基、シクロアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ
基、 N、N−ジアルキルアミノ基、フッ素、臭素又は
塩素である。また、それらの置換基は相互に結合して環
状構造を形成してもよい、^はアルキレン基又はシクロ
アルキレン基である。アルキレン基の炭素数は2〜3で
あるのが好ましい。シクロアルキレン基には、シクロペ
ンテンやシクロヘキセン等のシクロアルケンの他、ノル
ボルネン等のビシクロ化合物から誘導されたものが包含
される。
A” ハフ /L/ キ/L/基、シクロアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ
基、 N、N−ジアルキルアミノ基、フッ素、臭素又は
塩素である。また、それらの置換基は相互に結合して環
状構造を形成してもよい、^はアルキレン基又はシクロ
アルキレン基である。アルキレン基の炭素数は2〜3で
あるのが好ましい。シクロアルキレン基には、シクロペ
ンテンやシクロヘキセン等のシクロアルケンの他、ノル
ボルネン等のビシクロ化合物から誘導されたものが包含
される。
さらに、本発明によれば、次の一般式で表わされる有機
ケイ素化合物を得ることができる。
ケイ素化合物を得ることができる。
A’A’A’ S 1−CHA”−CH,,−8iA”
Δ’A” (V)% 記式中、 As+AG+A7
+A” +A′及びA” it、 7 /l/ キ/L
/基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、
アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキルアミ
ノ基、フッ素、臭素又は塩素である。それらの置換基は
相互に結合して環状構造を形成してもよい。A11はア
ルキル基、シクロアルキル基、脂肪族複素環基、アラル
キル基、アリール基、芳香族複素環基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボ
ニル基、アルコキシ基、 N、N−ジアルキルアミノ基
、N−アルキル−N−アシルアミノ基又はN、N−ジア
シルアミノ基である。
Δ’A” (V)% 記式中、 As+AG+A7
+A” +A′及びA” it、 7 /l/ キ/L
/基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、
アルコキシ基、アシロキシ基、N、N−ジアルキルアミ
ノ基、フッ素、臭素又は塩素である。それらの置換基は
相互に結合して環状構造を形成してもよい。A11はア
ルキル基、シクロアルキル基、脂肪族複素環基、アラル
キル基、アリール基、芳香族複素環基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、N、N−ジアルキルアミノカルボ
ニル基、アルコキシ基、 N、N−ジアルキルアミノ基
、N−アルキル−N−アシルアミノ基又はN、N−ジア
シルアミノ基である。
前記した、置換基において、アルキル基や、アルコキシ
基等の鎖状の置換基では、その炭素原子数は好ましくは
1−8である。またアリール基には、置換又は未置換の
フェニル基やナフチル基が包含される。
基等の鎖状の置換基では、その炭素原子数は好ましくは
1−8である。またアリール基には、置換又は未置換の
フェニル基やナフチル基が包含される。
本発明の方法によれば、入手及び取扱いの容易なオレフ
ィン性化合物を、取扱い容易なジシラン化合物と反応さ
せるだけで、従来法では製造困難であった各種の有機ケ
イ素化合物を容易に製造することができ、しかもその分
離精製も容易である。
ィン性化合物を、取扱い容易なジシラン化合物と反応さ
せるだけで、従来法では製造困難であった各種の有機ケ
イ素化合物を容易に製造することができ、しかもその分
離精製も容易である。
また、本発明により得られる前記−数式(rV)で表わ
される有機ケイ素化合物、例えば、ビス(クロロジアル
キルシリル)ノルボルナンや、ビス(タロルジアルキル
シリル)シクロペンタン等は、数式 で表わされる繰返し構造単位を有する弾性高分子の製造
用原料として好適のものである。
される有機ケイ素化合物、例えば、ビス(クロロジアル
キルシリル)ノルボルナンや、ビス(タロルジアルキル
シリル)シクロペンタン等は、数式 で表わされる繰返し構造単位を有する弾性高分子の製造
用原料として好適のものである。
次に1本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
オートクレーブに、1,1,2.2−テトラメチル−1
,2−ジフェニルジシランin++++ol、テトラキ
ス(トリフニルホスフィン)白金0.04+*mol、
ベンゼン3−を入れ、エチレンを5気圧圧入した。オー
トクレーブを150℃の油浴につけ、内部を磁気がくは
んしながら22時間反応を行った。オートクレーブを冷
却後、未反応エチレンを排気し、反応液をガスクロマト
グラフィーにより分析した結果、1.2−ビス(ジメチ
ルフェニルシリル)エタン0.22膳朧0■の生成が確
認された0反応液を減圧蒸留することにより、0.13
mmolの1,2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エ
タンを得た。このものは文献未載の新規化合物であり、
その物性値は以下の通りである。沸点=90’C10,
I Torr、 1HNNR(CDCQ、):δ 0,
23 (s、 12)!、SiC[(、)、0.65(
s、4H,CH2)、 7.2−7.6ppm(m、1
01(、C,H,);MS(70eV):++/Z(相
対強度)298(M”、7.2)、283(17,6)
、197(10,8)、135(100);元素分析値
:C,72,53%、H,8,82%s CzsHzs
si2としての計算値二〇。
,2−ジフェニルジシランin++++ol、テトラキ
ス(トリフニルホスフィン)白金0.04+*mol、
ベンゼン3−を入れ、エチレンを5気圧圧入した。オー
トクレーブを150℃の油浴につけ、内部を磁気がくは
んしながら22時間反応を行った。オートクレーブを冷
却後、未反応エチレンを排気し、反応液をガスクロマト
グラフィーにより分析した結果、1.2−ビス(ジメチ
ルフェニルシリル)エタン0.22膳朧0■の生成が確
認された0反応液を減圧蒸留することにより、0.13
mmolの1,2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エ
タンを得た。このものは文献未載の新規化合物であり、
その物性値は以下の通りである。沸点=90’C10,
I Torr、 1HNNR(CDCQ、):δ 0,
23 (s、 12)!、SiC[(、)、0.65(
s、4H,CH2)、 7.2−7.6ppm(m、1
01(、C,H,);MS(70eV):++/Z(相
対強度)298(M”、7.2)、283(17,6)
、197(10,8)、135(100);元素分析値
:C,72,53%、H,8,82%s CzsHzs
si2としての計算値二〇。
72.41%、H,8,78L
実施例2
反応温度を165℃、反応時間を21時間とした以外は
、実施例1と同様に反μsを行った結果、1,2−ビス
(ジメチルフェニルシリル)エタン0.38+mmol
が生成した6 実施例3 触媒をテトラキス(メチルジフェニルホスフィン)白金
とし1反応温度を170℃とした以外は、実施例1と同
様に反応を行った結果、1,2−ビス(ジメチルフェニ
ルシリル)エタン0.29mmolを得た。
、実施例1と同様に反μsを行った結果、1,2−ビス
(ジメチルフェニルシリル)エタン0.38+mmol
が生成した6 実施例3 触媒をテトラキス(メチルジフェニルホスフィン)白金
とし1反応温度を170℃とした以外は、実施例1と同
様に反応を行った結果、1,2−ビス(ジメチルフェニ
ルシリル)エタン0.29mmolを得た。
実施例4
反応温度を200℃とした以外は、実施例3と同様に反
応を行った結果、1,2−ビス(ジメチルフェニルシリ
ル 実施例5 1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2
−テトラメチルジシラン1.mmolを用いた以外は、
実施例1と同様に反応を行い、反応液を蒸留して、1,
2−ビス(メトキシジメチルシリル)エタン0.63a
molを得た。
応を行った結果、1,2−ビス(ジメチルフェニルシリ
ル 実施例5 1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2
−テトラメチルジシラン1.mmolを用いた以外は、
実施例1と同様に反応を行い、反応液を蒸留して、1,
2−ビス(メトキシジメチルシリル)エタン0.63a
molを得た。
このものは文献未載の新規化合物で、その物性値は以下
のとおりであった。沸点ニア0℃/12 Torr;’
HNMRCCDCQ、 ) :δ 0.02(s、
12H,SiC1l、)、0.45(s、4H,CHl
)、3.33(s、6H5OCR,);MS(70eV
):m/z(相対強度)206(M”、1.5)、19
1 (22,9)、163(21,5)、105(15
,4)、89(100)、59(56,1);元素分析
値:C246,63%、 )1,10.79%、c、!
1.,52si2としての計算値二C,46,55%;
H,lo、74%。
のとおりであった。沸点ニア0℃/12 Torr;’
HNMRCCDCQ、 ) :δ 0.02(s、
12H,SiC1l、)、0.45(s、4H,CHl
)、3.33(s、6H5OCR,);MS(70eV
):m/z(相対強度)206(M”、1.5)、19
1 (22,9)、163(21,5)、105(15
,4)、89(100)、59(56,1);元素分析
値:C246,63%、 )1,10.79%、c、!
1.,52si2としての計算値二C,46,55%;
H,lo、74%。
実施例6
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに1,2−ジフルオロ−1,1,2,2−
テトラメチルジシラン1mmolを用いた以外は、実施
例1と同様に反応を行い、1,2−ビス(フルオロジメ
チルシリル)エタン0.93mmolを得た。
シランの代りに1,2−ジフルオロ−1,1,2,2−
テトラメチルジシラン1mmolを用いた以外は、実施
例1と同様に反応を行い、1,2−ビス(フルオロジメ
チルシリル)エタン0.93mmolを得た。
実施例7
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに、1,1.2−トリクロロ−1,2,2
−トリメチルジシランと1.1,2.2−テトラクロロ
−1,2−ジメチルジシラんの(3ニア)混合物1.m
a+olを用いた以外は。
シランの代りに、1,1.2−トリクロロ−1,2,2
−トリメチルジシランと1.1,2.2−テトラクロロ
−1,2−ジメチルジシラんの(3ニア)混合物1.m
a+olを用いた以外は。
実施例1と同様に反応を行った結果、■−(クロロジメ
チルシリル)−2−(ジクロロメチルシリル)エタンと
1,2−ビス(ジクロロメチルシリル)エタンの(4:
6)混合物0.69mmolを得た。
チルシリル)−2−(ジクロロメチルシリル)エタンと
1,2−ビス(ジクロロメチルシリル)エタンの(4:
6)混合物0.69mmolを得た。
実施例8
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りにヘキサメチルジシラン111IlO1を
用いた以外は、実施例1と同様に反応を行った結果、1
,2−ビス(トリメチルシリル)エタン0.18mmo
lを得た。
シランの代りにヘキサメチルジシラン111IlO1を
用いた以外は、実施例1と同様に反応を行った結果、1
,2−ビス(トリメチルシリル)エタン0.18mmo
lを得た。
実施例9
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに1,2−ジグロロー]、 、 l 、
2 、2−テトラメチルジシラン1mmolを用いた以
外は、実施例1と同様に反応を行った結果、1.2−ビ
ス(クロロジメチルシリル)エタ:10.60mmol
を得た・実施例1゜ テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金の代りに、
テトラキス(トリエチルホスフィン)白金0.04+u
wol用いたほかは、実施例1と同様に反応を行った結
果、1.2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エタン0
.12mmo1.ジメチルフェニルビニルシラン0、1
0mmo1.エチルジメチルフェニルシラン0.10m
molを得た。
シランの代りに1,2−ジグロロー]、 、 l 、
2 、2−テトラメチルジシラン1mmolを用いた以
外は、実施例1と同様に反応を行った結果、1.2−ビ
ス(クロロジメチルシリル)エタ:10.60mmol
を得た・実施例1゜ テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金の代りに、
テトラキス(トリエチルホスフィン)白金0.04+u
wol用いたほかは、実施例1と同様に反応を行った結
果、1.2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エタン0
.12mmo1.ジメチルフェニルビニルシラン0、1
0mmo1.エチルジメチルフェニルシラン0.10m
molを得た。
実施例11
テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金の代りに、
テトラキス(ジメチルフェニルホスフィン)白金0.0
4+u+olを用いたほかは、実施例1と同様に反応を
行った結果、1.2−ビス(ジメチルフェニルシル)エ
タン0.30mmol、ジメチルフェニルビニルシラン
0.21+wmo1.エチルジメチルフェニルシラン0
.16mmolを得た。
テトラキス(ジメチルフェニルホスフィン)白金0.0
4+u+olを用いたほかは、実施例1と同様に反応を
行った結果、1.2−ビス(ジメチルフェニルシル)エ
タン0.30mmol、ジメチルフェニルビニルシラン
0.21+wmo1.エチルジメチルフェニルシラン0
.16mmolを得た。
実施例12
テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金の代りに、
テトラキス(トリメチルホスフィン)白金0゜04+s
膳o1を用いたほかは、実施例1と同様に反応を行った
結果、■、2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エタン
0.33a+mol、ジメチルフェニルビニルシラン0
.67!11101、エチルジメチルフェニルシラン0
、651m01を得た。
テトラキス(トリメチルホスフィン)白金0゜04+s
膳o1を用いたほかは、実施例1と同様に反応を行った
結果、■、2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エタン
0.33a+mol、ジメチルフェニルビニルシラン0
.67!11101、エチルジメチルフェニルシラン0
、651m01を得た。
実施例13
テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金の代りに、
エチレンビス(トリフェニルホスフィン)白金0.04
m鵬o1を用いたほかは、実施例1と同様に反応を行な
った結果、■、2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エ
タン0.03+++molを得た。
エチレンビス(トリフェニルホスフィン)白金0.04
m鵬o1を用いたほかは、実施例1と同様に反応を行な
った結果、■、2−ビス(ジメチルフェニルシリル)エ
タン0.03+++molを得た。
実施例14
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに、1,1,2.2−テトラメチル−1,
2−ビス(p−トリフルオロメチルフェニル)ジシラン
la+molを用いた以外は、実施例1と同様に反応を
行ない、■、2−ビス〔ジメチル(p−トリフルオロメ
チルフェニル)シリル〕エタン0.16+m+aolを
得た。
シランの代りに、1,1,2.2−テトラメチル−1,
2−ビス(p−トリフルオロメチルフェニル)ジシラン
la+molを用いた以外は、実施例1と同様に反応を
行ない、■、2−ビス〔ジメチル(p−トリフルオロメ
チルフェニル)シリル〕エタン0.16+m+aolを
得た。
このものは文献未載の新規化合物であり、その物性値は
以下の通りである。融点:58−59℃、 ”HNMR
(CDCfl、 ) :δ 0.20(s、12H,5
ICH3)、0.58(s、4H1co、co、)、7
51(s、 88.C,II4)ppm;MS(70e
V):i+/z(相対強度)434(M”、 6)、4
19(13)、415(8)、333(4)、329(
2)、203(100)、184 (55) ;元素分
析値:C,55,04%、H,5,58%、C211H
24S12 FGとしての計算値C,55,28%、
H,5,57%。
以下の通りである。融点:58−59℃、 ”HNMR
(CDCfl、 ) :δ 0.20(s、12H,5
ICH3)、0.58(s、4H1co、co、)、7
51(s、 88.C,II4)ppm;MS(70e
V):i+/z(相対強度)434(M”、 6)、4
19(13)、415(8)、333(4)、329(
2)、203(100)、184 (55) ;元素分
析値:C,55,04%、H,5,58%、C211H
24S12 FGとしての計算値C,55,28%、
H,5,57%。
実施例15
1.1,2.2−テトラメチル−1,2−ジフェニルジ
シランの代りに1.1,2.2−テトラメチル−1,2
−ビス(p−トリル)ジシランIIl鳳o1を用いた以
外は、実施例1と同様に反応を行い、1,2−ビス〔ジ
メチル(p−トリル)シリルエタン0.04ma+ol
を得た。このものは新規化合物であり、その物性値は次
の通りである。Ms(70eV):m/z(相対強度)
434(M”、 6)、312(6)、311(19)
、225(10)、162(11)、150(16)、
149(100)。
シランの代りに1.1,2.2−テトラメチル−1,2
−ビス(p−トリル)ジシランIIl鳳o1を用いた以
外は、実施例1と同様に反応を行い、1,2−ビス〔ジ
メチル(p−トリル)シリルエタン0.04ma+ol
を得た。このものは新規化合物であり、その物性値は次
の通りである。Ms(70eV):m/z(相対強度)
434(M”、 6)、312(6)、311(19)
、225(10)、162(11)、150(16)、
149(100)。
実施例16
反応温度を100℃とした以外は、実施例6と同様に反
応を行い、1,2−ビス(フルオロジメチル)シリルエ
タン0.98+smolを得た。
応を行い、1,2−ビス(フルオロジメチル)シリルエ
タン0.98+smolを得た。
実施例17
1.2−ジフルオロ−1,1,2,2−テトラメチルジ
シラン8.9mmolを用い、無溶媒で、エチレンを5
0気圧、反応時間を18時間としたほかは、実施例6と
同様に反応を行ない、単蒸留することにより、1,2−
ビス(フルオロジメチルシリル)エタン6.0mmol
を得た。
シラン8.9mmolを用い、無溶媒で、エチレンを5
0気圧、反応時間を18時間としたほかは、実施例6と
同様に反応を行ない、単蒸留することにより、1,2−
ビス(フルオロジメチルシリル)エタン6.0mmol
を得た。
実施例18
反応温度を120℃としたほかは実施例9と同様に反応
を行ない、■、2−ビス(クロロジメチルシリル)エタ
ン0.87mmolを得た。
を行ない、■、2−ビス(クロロジメチルシリル)エタ
ン0.87mmolを得た。
実施例19
反応温度を100℃としたほかは、実施例9と同様に反
応を行ない、1.2−ビス(クロロジメチルシリル)エ
タン0.79111101を得た。
応を行ない、1.2−ビス(クロロジメチルシリル)エ
タン0.79111101を得た。
実施例20
オートクレーブに代えて、常圧エチレンの風船付きフラ
スコを使用した以外は実施例16と同様に反応を行った
。反応混合物をフェニルリチウムの0.6Mエーテル溶
液と共に2時間撹拌し、■、2−ビス(ジメチルフェニ
ルシリル)エタン0.74a+molを得た。
スコを使用した以外は実施例16と同様に反応を行った
。反応混合物をフェニルリチウムの0.6Mエーテル溶
液と共に2時間撹拌し、■、2−ビス(ジメチルフェニ
ルシリル)エタン0.74a+molを得た。
実施例21
耐圧反応器に、1.2−ジフルオロテトラメチルジシラ
ンlsmo1.スチレン5膳mol、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)白金0.04mmol、ベンゼン
3IaI2を入れ、150℃の油浴につけて22時間磁
気撹拌した。反応器を冷却後、開封し、反応液をガスク
ロマトグラフィーにより1分析した結果、β−E−(フ
ルオロジメチルシリル)スチレン、β−2−(フルオロ
ジメチルシリル)スチレン、β−(フルオロジメチルシ
リル)エチルベンゼン、α、β−ビス(フルオロジメチ
ルシリル)エチルベンゼンの生成が確認された。
ンlsmo1.スチレン5膳mol、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)白金0.04mmol、ベンゼン
3IaI2を入れ、150℃の油浴につけて22時間磁
気撹拌した。反応器を冷却後、開封し、反応液をガスク
ロマトグラフィーにより1分析した結果、β−E−(フ
ルオロジメチルシリル)スチレン、β−2−(フルオロ
ジメチルシリル)スチレン、β−(フルオロジメチルシ
リル)エチルベンゼン、α、β−ビス(フルオロジメチ
ルシリル)エチルベンゼンの生成が確認された。
α、β−ビス(フルオロジメチルシリル)エチルベンゼ
ンは、文献に未載の新規化合物であり、その物性値は、
MS(EI) :@/z(相対強度)258(M”、4
)、181(11)、165(5)、 162(25)
、147(36)、139(4)、135(6)、77
(100)、49(14)、47(10)である。
ンは、文献に未載の新規化合物であり、その物性値は、
MS(EI) :@/z(相対強度)258(M”、4
)、181(11)、165(5)、 162(25)
、147(36)、139(4)、135(6)、77
(100)、49(14)、47(10)である。
次に、前記で得た反応液を0.6Mのフェニルリチウム
のエーテル溶液で2時間処理した結果、β−E−(ジメ
チルフェニルシリル)スチレン0.80+lI++ol
、β−2−(ジメチルフェニルシリル)スチレン0.l
1m■O1、β−ジメチルフェニルシリル)エチルベン
ゼン0.10m+mol、α、β−ビス(ジメチルフェ
ニルシリル)エチルベンゼン 0.04+molが得られた。
のエーテル溶液で2時間処理した結果、β−E−(ジメ
チルフェニルシリル)スチレン0.80+lI++ol
、β−2−(ジメチルフェニルシリル)スチレン0.l
1m■O1、β−ジメチルフェニルシリル)エチルベン
ゼン0.10m+mol、α、β−ビス(ジメチルフェ
ニルシリル)エチルベンゼン 0.04+molが得られた。
α、β−ビス(ジメチルフェニルシリル)エチルベンゼ
ンは文献未載の新規化合物で、その物性値は以下の通り
である。
ンは文献未載の新規化合物で、その物性値は以下の通り
である。
MS(EI):m/z(相対強度)374 (M” 、
2)、224(11)、209(3)、197(5)
、 162(26)、147(4)、146(5)、1
35(100)、107(5)、105(6)、43
(9)。
2)、224(11)、209(3)、197(5)
、 162(26)、147(4)、146(5)、1
35(100)、107(5)、105(6)、43
(9)。
実施例22
置換エチレンとして1−ヘキセンを用いたほかは。
実施例21と同様に反応を行った後、0.6Mのフェニ
ルリチウムエーテル溶液と2時間撹拌した結果、1−(
ジメチルフェニルシリル)ヘキサン0.55+wmol
、1−E−(ジメチルフェニルシリル)−1−ヘキセン
0.38膳鳳01.1−Z−(ジメチルフェニルシリル
ン0.18n+mo1. 1,2−ビス(ジメチルフェ
ニルシリルヘキセン0.09+*molを得た。
ルリチウムエーテル溶液と2時間撹拌した結果、1−(
ジメチルフェニルシリル)ヘキサン0.55+wmol
、1−E−(ジメチルフェニルシリル)−1−ヘキセン
0.38膳鳳01.1−Z−(ジメチルフェニルシリル
ン0.18n+mo1. 1,2−ビス(ジメチルフェ
ニルシリルヘキセン0.09+*molを得た。
1、2−ビス(ジメチルフェニルシリル)ヘキサンは文
献未載の新規化合物であり、その物性値は以下の通りで
ある。
献未載の新規化合物であり、その物性値は以下の通りで
ある。
阿5(EI):m/z(相対強度)339(M−15+
、21)、276(9)、203(14)、197(2
1)、189(9)、135(too)、121(18
)、114(11)。
、21)、276(9)、203(14)、197(2
1)、189(9)、135(too)、121(18
)、114(11)。
実施例23
反応温度を100 ’Cとしたほかは実施例21と同様
に反応を行い、フェニルリチウム処理した結果、β−E
−(ジメチルフェニルシリル)スチレン0.48++m
。
に反応を行い、フェニルリチウム処理した結果、β−E
−(ジメチルフェニルシリル)スチレン0.48++m
。
1、β−2−(ジメチルフェニルシリル)スチレン0.
03mmo1. β−(ジメチルフェニルシリル)エ
チルベンゼン0.15IIIlol、α、β−ビス(ジ
メチルフェニルシリル)エチルベンゼン0.04nuw
olが得られた。
03mmo1. β−(ジメチルフェニルシリル)エ
チルベンゼン0.15IIIlol、α、β−ビス(ジ
メチルフェニルシリル)エチルベンゼン0.04nuw
olが得られた。
実施例24
置換エチレンとして、ノルボルネンを用いたほかは、実
施例21と同様に反応を行った結果、2−exO−3−
eXQ−ビス(フルオロジメチルシリル)ノルボルナン
0.26m+nolを得た。
施例21と同様に反応を行った結果、2−exO−3−
eXQ−ビス(フルオロジメチルシリル)ノルボルナン
0.26m+nolを得た。
このものは文献未載の新規化合物であり、その物性値は
以下のとおりである。
以下のとおりである。
MS(EI):m/z(相対強度)233(M−15”
、5)、171(6)、152(25)、137(7)
、124(61)、109(23)、105(13)、
93(13)、99(100)。
、5)、171(6)、152(25)、137(7)
、124(61)、109(23)、105(13)、
93(13)、99(100)。
このものをメチルリチウムで処理することにより、2−
exa−3exo−ビス(トリメチルシリル)ノルボル
ナンを得た。蒸留後の収量0.19mmol。
exa−3exo−ビス(トリメチルシリル)ノルボル
ナンを得た。蒸留後の収量0.19mmol。
このものは文献未載の新規化合物であり、その物性値は
以下のとおりである。Bp80〜90℃/281、高分
解能MS:M”240,1736、C13H2@Si2
としての計算値240.1729. MS(EI);i
/z(相対強度)240(M”、2)、167(11)
、151(3)、131(6)、124(5)、109
(3)、 101(2)、73(100)、 1)1−
NMR(200M)Iz、 C,D、);δ 0.14
(s。
以下のとおりである。Bp80〜90℃/281、高分
解能MS:M”240,1736、C13H2@Si2
としての計算値240.1729. MS(EI);i
/z(相対強度)240(M”、2)、167(11)
、151(3)、131(6)、124(5)、109
(3)、 101(2)、73(100)、 1)1−
NMR(200M)Iz、 C,D、);δ 0.14
(s。
18H,SiCH,)、0.89(d、J=1.7Hz
、2H,SiC1()、1.05−1゜38(m、4)
1.メチレンCH,、エチレンCH(endo))、1
.61−1.73(+w、2H,エチレンCI(exo
))、2.25−2.33(m、2H,橋頭CH)pp
m、 ”CNMR(C,DG):δ 0.5(SiCI
f、)、34.3.36.0.38.4.40.1(ノ
ルボルナン)ppm。
、2H,SiC1()、1.05−1゜38(m、4)
1.メチレンCH,、エチレンCH(endo))、1
.61−1.73(+w、2H,エチレンCI(exo
))、2.25−2.33(m、2H,橋頭CH)pp
m、 ”CNMR(C,DG):δ 0.5(SiCI
f、)、34.3.36.0.38.4.40.1(ノ
ルボルナン)ppm。
実施例25
置換エチレンとして、シクロペンテンを用いたほかは、
実施例21と同様に反応を行なった結果、1.2−ビス
(フルオロジメチルシリル)シクロペンタン0.19+
smol−を得た。
実施例21と同様に反応を行なった結果、1.2−ビス
(フルオロジメチルシリル)シクロペンタン0.19+
smol−を得た。
このものは、文献未載の新規化合物であり、その物性値
は以下のとおりである。MS(EI;m/z(相対強度
):207(M−15,5)、144(2)、129(
13)、 126(28)、1.18(11)、 11
1(11)、9g(13)、85(23)、77(10
0)、66(93)、59(36)、49(21)、4
7(14)。
は以下のとおりである。MS(EI;m/z(相対強度
):207(M−15,5)、144(2)、129(
13)、 126(28)、1.18(11)、 11
1(11)、9g(13)、85(23)、77(10
0)、66(93)、59(36)、49(21)、4
7(14)。
実施例26
置換エチレンとしてアクリル酸エチルを用いたほかは、
実施例21と同様に反応を行なった結果、フルオロジメ
チルシリルアクリル酸エチルo、33mmol、フルオ
ロジメチルシリルプロピオン酸エチル0.19mmol
を得た。
実施例21と同様に反応を行なった結果、フルオロジメ
チルシリルアクリル酸エチルo、33mmol、フルオ
ロジメチルシリルプロピオン酸エチル0.19mmol
を得た。
実施例27
置換エチレンとしてアクリロニトリルを用いたほかは、
実施例21と同様に反応を行なった結果、フルオロジメ
チルシリルアクリロニトリル0.19IIIIO1を得
た。
実施例21と同様に反応を行なった結果、フルオロジメ
チルシリルアクリロニトリル0.19IIIIO1を得
た。
実施例28
オレフィンとしてプロピレンを用いたほかは。
実施例21と同様に反応を行った結果、trans−1
−プロペニルフルオロジメチルシラン0.04mmo1
.プロビルフルオロジシメチシラン0.06mmol、
1,2−ビス(フルオロジメチルシリル)プロパン0.
06nmolが生成した。
−プロペニルフルオロジメチルシラン0.04mmo1
.プロビルフルオロジシメチシラン0.06mmol、
1,2−ビス(フルオロジメチルシリル)プロパン0.
06nmolが生成した。
Claims (8)
- (1)Si−C−C−Si結合、C=C−Si結合及び
/又はCH−CH−Si結合を有する有機ケイ素化合物
を製造するにあたり、オレフィン性化合物と、一般式 R^4R^5R^6Si−SiR^7R^8R^9(式
中、R^4、R^5、R^6、R^7、R^8及びR^
9は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基。 アルコキシ基、アシロキシ基、N,N−ジアルキルアミ
ノ基、フ素、臭素又は塩素を表わし、それらの置換基は
相互に結合して環状構造を形成してもよい) で表わされるジシラン化合物とを、白金含有触媒の存在
下で反応させることを特徴とする方法。 - (2)該オレフィン性化合物が、一般式 R^1R^2C−CHR^3 (式中、R^1、R^2及びR^3は水素、アルキル基
、シクロアルキル基、脂肪族複素環基、アラルキル基、
アリール基、芳香族複素環基、アルコキシカルボニル基
、シアノ基、N,N−ジアルキルアミノカルボニル基、
アルコキシ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アル
キル−N−アシルアミノ基又はN,N−ジアシルアミノ
基を表わし、それらの置換基は相互に結合して環状構造
を形成してもよい)で表わされる請求項1の方法。 - (3)オレフィン性化合物とジシラン化合物とを、モル
比100:1〜1:10で反応させる請求項1又は2の
方法。 - (4)白金含有触媒を、ジシラン化合物1モル当り0.
00001〜0.5モルの割合で用いる請求項1〜3の
いずれかの方法。 - (5)請求項1〜4のいずれかの方法で得られた生成物
を、アルキルリチウム、アリールリチウム又はグリニャ
ール試薬と反応させることを特徴とする方法。 - (6)一般式 A^1_mA^2_3_−_mSiCH_2CH_2S
iA^3_nA^4_3_−_n(式中、A^1及びA
^3はアルキル基であり、相互に結合して環状構造を形
成してもよく、A^2及びA^4はアルコキシ基又はア
リール基であり、m及びnは0又は1〜3の整数である
) で表わされる有機ケイ素化合物。 - (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A^5、A^6、A^7、A^8、A^9及び
A^1^0はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アシロキシ基、N,
N−ジアルキルアミノ基、フッ素、臭素又は塩素であり
、それらの置換基は相互に結合して環状構造を形成して
もよく、Aはアルキレン基又はシクロアルキレン基であ
る) で表わされる有機ケイ素化合物。 - (8)一般式 A^5A^6A^7Si−CHA^1^1−CH_2−
SiA^8A^9A^1^0(式中、A^5、A^6、
A^7、A^8、A^9及びA^1^0はアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコ
キシ基、アシロキシ基、N,N−ジアルキルアミノ基、
フッ素、臭素又は塩素であり、それらの置換基は相互に
結合して環状構造を形成してもよく、A^1^1はアル
キル基、シクロアルキル基、脂肪族複素環基、アラルキ
ル基、アリール基、芳香族複素環基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、N,N−ジアルキルアミノカルボニ
ル基、アルコキシ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N
−アルキル−N−アシルアミノ基又はN,N−ジアシル
アミノ基である) で表わされる有機ケイ素化合物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-7358 | 1989-01-13 | ||
| JP735889 | 1989-01-13 | ||
| JP1-52654 | 1989-03-03 | ||
| JP5265489 | 1989-03-03 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6158424A Division JPH07242676A (ja) | 1989-01-13 | 1994-07-11 | 新規な有機ケイ素化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH037294A true JPH037294A (ja) | 1991-01-14 |
| JPH0717658B2 JPH0717658B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=26341634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006794A Expired - Lifetime JPH0717658B2 (ja) | 1989-01-13 | 1990-01-16 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5151538A (ja) |
| EP (1) | EP0378430B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0717658B2 (ja) |
| DE (1) | DE69016465T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07242676A (ja) * | 1989-01-13 | 1995-09-19 | Agency Of Ind Science & Technol | 新規な有機ケイ素化合物 |
| JP2014076924A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 表面修飾された複合金属酸化物微粒子 |
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| US5413813A (en) * | 1993-11-23 | 1995-05-09 | Enichem S.P.A. | CVD of silicon-based ceramic materials on internal surface of a reactor |
| JP3856088B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2006-12-13 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルノルボルナン化合物の製造方法 |
| US8736014B2 (en) * | 2008-11-14 | 2014-05-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | High mechanical strength additives for porous ultra low-k material |
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Family Cites Families (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPH0643431B2 (ja) * | 1987-02-05 | 1994-06-08 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物 |
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-
1990
- 1990-01-12 EP EP90300353A patent/EP0378430B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-01-12 US US07/464,124 patent/US5151538A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-12 DE DE69016465T patent/DE69016465T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-16 JP JP2006794A patent/JPH0717658B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0717658B2 (ja) | 1995-03-01 |
| EP0378430B1 (en) | 1995-02-01 |
| EP0378430A1 (en) | 1990-07-18 |
| DE69016465T2 (de) | 1995-06-22 |
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