JPH0373272A - 内周形砥石およびその洗浄方法 - Google Patents
内周形砥石およびその洗浄方法Info
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- JPH0373272A JPH0373272A JP1207840A JP20784089A JPH0373272A JP H0373272 A JPH0373272 A JP H0373272A JP 1207840 A JP1207840 A JP 1207840A JP 20784089 A JP20784089 A JP 20784089A JP H0373272 A JPH0373272 A JP H0373272A
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 title abstract description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 84
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D5/00—Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting only by their periphery; Bushings or mountings therefor
- B24D5/12—Cut-off wheels
- B24D5/126—Cut-off wheels having an internal cutting edge
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
- B24B53/007—Cleaning of grinding wheels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
氷雨発明は、刃先層を環状基板の内周部に形成してなる
内周形砥石の改良およびその洗浄方法に関する。
内周形砥石の改良およびその洗浄方法に関する。
従来の技術
インゴット状の半導体材料を切断してウェハを形成する
ウェハ加工技術においては、切断時の取り代が少なく、
平行度および面荒さが保証されることが重要な要件とな
るため、内周形砥石による切断作業が行われる。
ウェハ加工技術においては、切断時の取り代が少なく、
平行度および面荒さが保証されることが重要な要件とな
るため、内周形砥石による切断作業が行われる。
現在、ウェハ加工用の内周形砥石としては、厚さ100
〜150μmのステンレス等からなる環状基板の内周部
に、ニッケル等の電着ボンドを結合剤とし、ダイヤモン
ド砥粒を用いて、厚さ約250〜300μm1幅約2〜
5mmの刃先層を形成した内周形砥石が用いられている
。
〜150μmのステンレス等からなる環状基板の内周部
に、ニッケル等の電着ボンドを結合剤とし、ダイヤモン
ド砥粒を用いて、厚さ約250〜300μm1幅約2〜
5mmの刃先層を形成した内周形砥石が用いられている
。
第5図および第6図は従来の内周形砥石の構成の概略を
示す図であり、従来の内周形砥石100においては、切
断作業時に生成する切粉の排出・洗浄を容易とすべく、
環状基板101の内周部に形成された刃先層102にお
ける厚みを内周部102aから外周部102bに向けて
徐々に薄く形成していた。
示す図であり、従来の内周形砥石100においては、切
断作業時に生成する切粉の排出・洗浄を容易とすべく、
環状基板101の内周部に形成された刃先層102にお
ける厚みを内周部102aから外周部102bに向けて
徐々に薄く形成していた。
そして、ウェハ加工時にはこの内周形砥石100を立て
型切断機等に装着し、刃先層102に向けて研削剤を吐
出させつつ切断作業を行なうこととなるが、シリコン等
の脆性半導体材料(以下、ワークという)を切断して生
成される切粉は粒径1μm以下の流動しにくい鋭角形状
の微細粒子となり、しかも、刃先層102に向けて吐出
される研削剤が高速回転する内周形砥石100によって
外周方向に向けて飛散されるため、前記構成では十分な
排出・洗浄効果を発揮することが出来ず、刃先層102
、特に、切断効率に多大な影響を与える内周部102a
に目詰りが生じて切断性能が低下し、かつ、ワークに無
理な応力が作用するためにワーク表面の加工変質層が厚
くなるという欠点がある。
型切断機等に装着し、刃先層102に向けて研削剤を吐
出させつつ切断作業を行なうこととなるが、シリコン等
の脆性半導体材料(以下、ワークという)を切断して生
成される切粉は粒径1μm以下の流動しにくい鋭角形状
の微細粒子となり、しかも、刃先層102に向けて吐出
される研削剤が高速回転する内周形砥石100によって
外周方向に向けて飛散されるため、前記構成では十分な
排出・洗浄効果を発揮することが出来ず、刃先層102
、特に、切断効率に多大な影響を与える内周部102a
に目詰りが生じて切断性能が低下し、かつ、ワークに無
理な応力が作用するためにワーク表面の加工変質層が厚
くなるという欠点がある。
内周部102aに目詰りが生じて切削抵抗が増加すると
刃先層102が側方に振られてその側部がワークに接触
するため、ワークの切断面が不用意に削られて平行度お
よび面荒さが損なわれ、また、刃先層102の側方から
作用する外力によって環状基板101自体が徐々に変形
し、刃先層102は−゛層ワークの切断面に接触し易い
状態となる。
刃先層102が側方に振られてその側部がワークに接触
するため、ワークの切断面が不用意に削られて平行度お
よび面荒さが損なわれ、また、刃先層102の側方から
作用する外力によって環状基板101自体が徐々に変形
し、刃先層102は−゛層ワークの切断面に接触し易い
状態となる。
この様な悪循環により増長された環状基板101の変形
により刃先層102の実質的な厚さが増大してワークの
取り代が増大し、ワークの切断面における平行度および
面荒さが損なわれると共に、加工変質層も次第に増大し
、切断されたウェハの品質が著しく低下する。
により刃先層102の実質的な厚さが増大してワークの
取り代が増大し、ワークの切断面における平行度および
面荒さが損なわれると共に、加工変質層も次第に増大し
、切断されたウェハの品質が著しく低下する。
従来技術におけるこの種の欠点はワーク(インゴット)
の大口径化に伴い一層深刻化し、現段階においては、環
状基板101の変形をモニターして適宜日直しを加える
等の方法で対処しようとしているが十分な成果は上がっ
ておらず、また、頻繁な目直し作業のために切断効率自
体が低下し、砥石の寿命も短くなるといった欠点がある
。
の大口径化に伴い一層深刻化し、現段階においては、環
状基板101の変形をモニターして適宜日直しを加える
等の方法で対処しようとしているが十分な成果は上がっ
ておらず、また、頻繁な目直し作業のために切断効率自
体が低下し、砥石の寿命も短くなるといった欠点がある
。
発明が解決しようとする課題
本両発明は、前記従来技術の欠点を解消すべく成された
ものであり、僅かな取り代で時間的に効率よくウェハを
切出すことができ、しかも、ウェハの平行度や面荒さ等
を高品質に維持でき、かつ、砥石の寿命をも長持ちさせ
ることのできる内周形砥石およびその洗浄方法を提供す
ることを目的とする。
ものであり、僅かな取り代で時間的に効率よくウェハを
切出すことができ、しかも、ウェハの平行度や面荒さ等
を高品質に維持でき、かつ、砥石の寿命をも長持ちさせ
ることのできる内周形砥石およびその洗浄方法を提供す
ることを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明の内周形砥石は、環状基板の内周部に形成された
刃先層の両側部に凹状欠切部を配設すると共に、前記刃
先層の外周部における両側部の砥粒の突出量を内周部に
おける砥粒の突出量よりも減少させたことを特徴とする
構成を有する。
刃先層の両側部に凹状欠切部を配設すると共に、前記刃
先層の外周部における両側部の砥粒の突出量を内周部に
おける砥粒の突出量よりも減少させたことを特徴とする
構成を有する。
本発明の内周形砥石の洗浄方法は、本発明の内周形砥石
に対し、前記刃先層の両側部に配設された凹状欠切部に
滞積した切粉を、刃先層に向けて吐出される研削液と噴
出気体とで吹き飛ばして排出することを特徴とする。
に対し、前記刃先層の両側部に配設された凹状欠切部に
滞積した切粉を、刃先層に向けて吐出される研削液と噴
出気体とで吹き飛ばして排出することを特徴とする。
作用
本発明の内周形砥石を立て型切断機等に装着して切断作
業を行う。
業を行う。
環状基板の内周部に形成された刃先層、主に、その内周
部によってワークが切削されて切断が進行する。切削に
よって生成された切粉は、刃先層に向けて、刃先層がワ
ークに入る直前に吐出された研削液と共に該刃先層の両
側部に設けられた凹状欠切部に移動して滞積し、刃先層
内周部の目詰りが防止される。
部によってワークが切削されて切断が進行する。切削に
よって生成された切粉は、刃先層に向けて、刃先層がワ
ークに入る直前に吐出された研削液と共に該刃先層の両
側部に設けられた凹状欠切部に移動して滞積し、刃先層
内周部の目詰りが防止される。
刃先層の両側部に設けられた凹状欠切部に滞積した切粉
と研削液は、刃先層がワークを出た直後に吐出される研
削液と噴出気体とによって吹き飛ばされ、排出される。
と研削液は、刃先層がワークを出た直後に吐出される研
削液と噴出気体とによって吹き飛ばされ、排出される。
また、砥粒の突出量の少ない刃先層外周部における両側
部がワーク切断面を研削し、平滑に仕上げる。
部がワーク切断面を研削し、平滑に仕上げる。
実施例
以下、図面を参照して本両発明の詳細な説明する。
第1図は一実施例の内周形砥石1を示す平面図。
第2図は第1図における断面A−Aを示す横断面図、第
3図は第1図におけるB部を拡大して示す部分拡大図で
あり、該内周形砥石1は、環状基板2の内周部に形成さ
れた刃先層3の両側部3a。
3図は第1図におけるB部を拡大して示す部分拡大図で
あり、該内周形砥石1は、環状基板2の内周部に形成さ
れた刃先層3の両側部3a。
3bに、環状基板2の同心円に沿って配設された多数の
凹状欠切部4を有し、刃先層3の外周部3Cにおける両
側部3a、3bの砥粒5の突出量は内周部3dにおける
砥粒5の突出量よりも少なくされている。
凹状欠切部4を有し、刃先層3の外周部3Cにおける両
側部3a、3bの砥粒5の突出量は内周部3dにおける
砥粒5の突出量よりも少なくされている。
刃先層3の主要部分は電着ボンド層からなる結合剤6お
よびダイヤモンド粒子からなる砥粒5によって形成され
、外周部3cの両側部3a、3bには刃先層3の一部を
形成するニッケルメッキ層7が形成されて砥粒5の突出
量を抑制している。
よびダイヤモンド粒子からなる砥粒5によって形成され
、外周部3cの両側部3a、3bには刃先層3の一部を
形成するニッケルメッキ層7が形成されて砥粒5の突出
量を抑制している。
なお、ニッケルメッキ層7を形成する部位は、外周部3
Cの両側部3a、3bにのみ限定されるものではなく、
内周方向においては、刃先層3における内周部3dの両
側部3a、3bを除き、かつ、両側部3a、3bにおい
て多数の凹状欠切部4に内接する同心円(第3図中、二
点鎖線で示す)との間に幾許かの間隙を残す範囲で、ま
た、外周方向においては特に制限はなく、例えば第2図
に示されるように、環状基板2の同心円に沿って刃先層
3の外周部3Cから更に外周側にまで形成してもよい。
Cの両側部3a、3bにのみ限定されるものではなく、
内周方向においては、刃先層3における内周部3dの両
側部3a、3bを除き、かつ、両側部3a、3bにおい
て多数の凹状欠切部4に内接する同心円(第3図中、二
点鎖線で示す)との間に幾許かの間隙を残す範囲で、ま
た、外周方向においては特に制限はなく、例えば第2図
に示されるように、環状基板2の同心円に沿って刃先層
3の外周部3Cから更に外周側にまで形成してもよい。
また、ニッケルメッキ層7に砥粒5よりも微細な粒子を
混入し、この粒子を、内周部3dにおける砥粒5と混在
させて電着し、該ニッケルメッキ層7から突出した砥粒
5と共に研削剤として用いる場合もある。
混入し、この粒子を、内周部3dにおける砥粒5と混在
させて電着し、該ニッケルメッキ層7から突出した砥粒
5と共に研削剤として用いる場合もある。
また、刃先層内周部の切削により生じる数十μの加工変
質層を除去し平滑にするため、該ニッケルメッキ層7と
砥粒5を含めた刃厚を刃先層内周部より厚くすることに
より、研削効果を一層高める場合もある。更に、凹状欠
切部4は環状基板2上の相異なる同心円の各々に沿って
複数列に配設してもよく、この場合、最小の径を有する
同心円に沿って配設された凹状欠切部4を除けば、前記
ニッケルメッキ層7により凹状欠切部4周囲の刃先層3
が完全に被覆されても差支えない。また、凹状欠切部4
の形状は丸形に限らず、略楕円、略台形、略平行四辺形
(正方形および長方形を含む)等の適宜形状、および、
これら各形状の組合せ等を任意に選択することができる
(第4図参照)。
質層を除去し平滑にするため、該ニッケルメッキ層7と
砥粒5を含めた刃厚を刃先層内周部より厚くすることに
より、研削効果を一層高める場合もある。更に、凹状欠
切部4は環状基板2上の相異なる同心円の各々に沿って
複数列に配設してもよく、この場合、最小の径を有する
同心円に沿って配設された凹状欠切部4を除けば、前記
ニッケルメッキ層7により凹状欠切部4周囲の刃先層3
が完全に被覆されても差支えない。また、凹状欠切部4
の形状は丸形に限らず、略楕円、略台形、略平行四辺形
(正方形および長方形を含む)等の適宜形状、および、
これら各形状の組合せ等を任意に選択することができる
(第4図参照)。
また、凹状欠切部4の大きさや配設する列数および各列
における配設数等を任意に選択できるのは勿論であるが
、機械的強度の面から考えると、刃先層3の表裏、即ち
、両側部3a、3bの対応する位置に、同一の形状と大
きさを有する凹状欠切部4を配設することが望ましい。
における配設数等を任意に選択できるのは勿論であるが
、機械的強度の面から考えると、刃先層3の表裏、即ち
、両側部3a、3bの対応する位置に、同一の形状と大
きさを有する凹状欠切部4を配設することが望ましい。
このような構成を有する内周形砥石lにおいて、前記ニ
ッケルメッキ層7は環状基板2における内周部の機械的
強度を増強し、内周形砥石1を立て型切断機等の装置に
装着する時に加える張力によって環状基板2の内周部に
生じる周方向の応力(張力)が増大されるので、刃先層
3の剛性が増して安定した切断作業を行うことができる
。これに加え、同心円に沿って配設された凹状欠切部4
間の刃先層、特に、結合剤6の部分は、内周部3dに作
用する切削抵抗等の外力に対し該内周部3dを梁状に保
持するので、切断作業時に生じるビビリや環状基板2の
変形を防止し、取り代の増大を抑制する。
ッケルメッキ層7は環状基板2における内周部の機械的
強度を増強し、内周形砥石1を立て型切断機等の装置に
装着する時に加える張力によって環状基板2の内周部に
生じる周方向の応力(張力)が増大されるので、刃先層
3の剛性が増して安定した切断作業を行うことができる
。これに加え、同心円に沿って配設された凹状欠切部4
間の刃先層、特に、結合剤6の部分は、内周部3dに作
用する切削抵抗等の外力に対し該内周部3dを梁状に保
持するので、切断作業時に生じるビビリや環状基板2の
変形を防止し、取り代の増大を抑制する。
切断作業は環状基板2の内周部に形成された刃先層3の
先端部、即ち、砥粒5の突出量の大きな内周部3dによ
って行われ、切削によって生成された切粉は、切削を行
った内周部3dの部分がワーク内に在る間に、内周部3
dにおける結合剤6とワーク切断面との間隙、即ち、砥
粒5の突出量の大きさに基づいて形成された間隙を縫っ
て、刃先層3に向けて吐出される研削液と共に該刃先層
3の両側部3a、3bに設けられた凹状欠切部4に移動
して滞積するので、切断作業を行う内周部3dでの目詰
りが防止される。また、ニッケルメッキ層7を有する外
周部3cは内周部3dに比べてワーク切断面との間隙が
小さいため、外周部3cとワーク切断面との間に切粉が
侵入してワーク切断面を傷付けることもない。
先端部、即ち、砥粒5の突出量の大きな内周部3dによ
って行われ、切削によって生成された切粉は、切削を行
った内周部3dの部分がワーク内に在る間に、内周部3
dにおける結合剤6とワーク切断面との間隙、即ち、砥
粒5の突出量の大きさに基づいて形成された間隙を縫っ
て、刃先層3に向けて吐出される研削液と共に該刃先層
3の両側部3a、3bに設けられた凹状欠切部4に移動
して滞積するので、切断作業を行う内周部3dでの目詰
りが防止される。また、ニッケルメッキ層7を有する外
周部3cは内周部3dに比べてワーク切断面との間隙が
小さいため、外周部3cとワーク切断面との間に切粉が
侵入してワーク切断面を傷付けることもない。
一方、刃先層3の外周部3cにおける両側部3a、、3
bでの砥粒5の突出量は内周部3dにおける砥粒5の突
出量よりも少ないので、ワーク切断面に対する過剰な切
削は防止され、ワーク切断面が十分な平行度および面荒
さを維持して仕上げられると共に、不当な切削抵抗によ
る外力が刃先層3に作用することもなく、刃先層3や環
状基板2の変形、および、ワークにおける加工変質層の
増大も未然に防止される。従って、従来のように不当な
切削抵抗で砥粒5の脱落や結合剤6の磨耗が生じたり、
また、刃先層3の変形を修正するために頻繁なドレッシ
ングを行う必要もなくなり、砥石の寿命が長くなる。
bでの砥粒5の突出量は内周部3dにおける砥粒5の突
出量よりも少ないので、ワーク切断面に対する過剰な切
削は防止され、ワーク切断面が十分な平行度および面荒
さを維持して仕上げられると共に、不当な切削抵抗によ
る外力が刃先層3に作用することもなく、刃先層3や環
状基板2の変形、および、ワークにおける加工変質層の
増大も未然に防止される。従って、従来のように不当な
切削抵抗で砥粒5の脱落や結合剤6の磨耗が生じたり、
また、刃先層3の変形を修正するために頻繁なドレッシ
ングを行う必要もなくなり、砥石の寿命が長くなる。
更に、本実施例の内周形砥石1に対しては、本発明の方
法に基づく砥石の洗浄方法が適用される。
法に基づく砥石の洗浄方法が適用される。
即ち、内周形砥石1による切断作業においては刃先層3
に向けて研削液を吐出すると共に、刃先層3に高速の噴
出気体を吹き付けることにより、凹状欠切部4に滞積し
た切粉を研削液と共に吹き飛ばして排出する。この場合
、凹状欠切部4を配設した刃先層3の各面に対し斜め上
方から気体を吹き付けるようにすれば、より確実に切粉
を排出することができる。前記したように、切断過程で
生成された切粉は切削を行った内周部3dの部分がワー
ク内に在る間に結合剤6とワーク切断面との間隙を縫っ
て凹状欠切部4に移動して滞積し、この内周部3dの部
分がワークから離反した直後、吐出される研削液と高速
の噴出気体とがほぼ同じ位置から同時に吹き付けられる
ことによって凹状欠切部4から排出され、この内周部3
d部分の凹状欠切部4はワークとの接触点付近で再度研
削液を満たされてワークを切削することとなる。
に向けて研削液を吐出すると共に、刃先層3に高速の噴
出気体を吹き付けることにより、凹状欠切部4に滞積し
た切粉を研削液と共に吹き飛ばして排出する。この場合
、凹状欠切部4を配設した刃先層3の各面に対し斜め上
方から気体を吹き付けるようにすれば、より確実に切粉
を排出することができる。前記したように、切断過程で
生成された切粉は切削を行った内周部3dの部分がワー
ク内に在る間に結合剤6とワーク切断面との間隙を縫っ
て凹状欠切部4に移動して滞積し、この内周部3dの部
分がワークから離反した直後、吐出される研削液と高速
の噴出気体とがほぼ同じ位置から同時に吹き付けられる
ことによって凹状欠切部4から排出され、この内周部3
d部分の凹状欠切部4はワークとの接触点付近で再度研
削液を満たされてワークを切削することとなる。
この洗浄方法によれば、内周部3dとワーク切断面との
間に十分な切削液が供給されて冷却効果が増大し、しか
も、凹状欠切部4からの切粉の排出効果が一層促進され
るので、内周形砥石1の構成において凹状欠切部4の開
口面積をより小さくして多数の凹状欠切部4をより内周
側に配設することができ、これに伴ってニッケルメッキ
層7をより内周側にまで形成することができるので、刃
先層3の剛性を一層高めた構成が可能となる。
間に十分な切削液が供給されて冷却効果が増大し、しか
も、凹状欠切部4からの切粉の排出効果が一層促進され
るので、内周形砥石1の構成において凹状欠切部4の開
口面積をより小さくして多数の凹状欠切部4をより内周
側に配設することができ、これに伴ってニッケルメッキ
層7をより内周側にまで形成することができるので、刃
先層3の剛性を一層高めた構成が可能となる。
発明の効果
本発明の内周形砥石によれば、砥粒の突出量の大きな内
周部の刃先層によって切断作業が行われると共に、切削
によって生じた切粉は刃先層内周部の凹状欠切部に移動
して滞積するので刃先層内周部での目詰りが防止される
一方、砥粒の突出量の小さな外周部の刃先層によってワ
ーク切断面が十分な平行度および面荒さを維持して平滑
に仕上げられるため、目詰りによる不当な切削抵抗が刃
先層に作用することはなく、刃先層や環状基板の変形、
および、ワークにおける加工変質層の増大が未然に防止
されて、僅かな取り代で効率よく、平行度や面荒さの優
れたウェハを切出すことができ、しかも、刃先層の変形
を修正するための頻繁なドレッシングも不要となるので
砥石の寿命自体が長くなると共に実質的な加工速度が向
上する。
周部の刃先層によって切断作業が行われると共に、切削
によって生じた切粉は刃先層内周部の凹状欠切部に移動
して滞積するので刃先層内周部での目詰りが防止される
一方、砥粒の突出量の小さな外周部の刃先層によってワ
ーク切断面が十分な平行度および面荒さを維持して平滑
に仕上げられるため、目詰りによる不当な切削抵抗が刃
先層に作用することはなく、刃先層や環状基板の変形、
および、ワークにおける加工変質層の増大が未然に防止
されて、僅かな取り代で効率よく、平行度や面荒さの優
れたウェハを切出すことができ、しかも、刃先層の変形
を修正するための頻繁なドレッシングも不要となるので
砥石の寿命自体が長くなると共に実質的な加工速度が向
上する。
また、凹状欠切部に滞積した切粉を刃先層に向けて吐出
される研削液と噴出気体とで吹き飛ばして排出すること
により、凹状欠切部における切粉の排出効果や切削時の
冷却効果が一層向上される。
される研削液と噴出気体とで吹き飛ばして排出すること
により、凹状欠切部における切粉の排出効果や切削時の
冷却効果が一層向上される。
第1図は本発明の一実施例の内周形砥石の概略を示す平
面図、第2図は第1図における断面A−Aを示す横断面
図、第3図は第1図におけるB部を拡大して示す部分拡
大図、第4図は凹状欠切部の形状を例示する図、第5図
は従来の内周形砥石の概略を示す平面図、第6図は第5
図における断面C−Cを示す横断面図である。 ■・・・内周形砥石、2・・・環状基板、3・・−刀先
層、3a、3b・・・側部、3c・・・外周部、3d・
・・内周部、4・・・凹状欠切部、5・・・砥粒、6・
・・結合剤、7・・・ニッケルメッキ層。 102α 102 102t)
面図、第2図は第1図における断面A−Aを示す横断面
図、第3図は第1図におけるB部を拡大して示す部分拡
大図、第4図は凹状欠切部の形状を例示する図、第5図
は従来の内周形砥石の概略を示す平面図、第6図は第5
図における断面C−Cを示す横断面図である。 ■・・・内周形砥石、2・・・環状基板、3・・−刀先
層、3a、3b・・・側部、3c・・・外周部、3d・
・・内周部、4・・・凹状欠切部、5・・・砥粒、6・
・・結合剤、7・・・ニッケルメッキ層。 102α 102 102t)
Claims (2)
- (1)環状基板の内周部に形成された刃先層の両側部に
凹状欠切部を配設すると共に、前記刃先層の外周部にお
ける両側部の砥粒の突出量を内周部における砥粒の突出
量よりも減少させたことを特徴とする内周形砥石。 - (2)特許請求の範囲第1項記載の内周形砥石に対し、
前記刃先層の両側部に配設された凹状欠切部に滞積した
切粉を、刃先層に向けて吐出される研削液と噴出気体と
で吹き飛ばして排出することを特徴とした内周形砥石の
洗浄方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207840A JPH0677900B2 (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | 内周形砥石およびその洗浄方法 |
| US07/538,819 US5095885A (en) | 1989-08-14 | 1990-06-15 | Inside grindstone and washing method thereof |
| GB9015117A GB2234924B (en) | 1989-08-14 | 1990-07-09 | Inside grindstone and washing method thereof |
| DE4021991A DE4021991C2 (de) | 1989-08-14 | 1990-07-11 | Innenlochtrennscheibe mit innenliegenden Schleifflächen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207840A JPH0677900B2 (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | 内周形砥石およびその洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0373272A true JPH0373272A (ja) | 1991-03-28 |
| JPH0677900B2 JPH0677900B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=16546395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1207840A Expired - Lifetime JPH0677900B2 (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | 内周形砥石およびその洗浄方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5095885A (ja) |
| JP (1) | JPH0677900B2 (ja) |
| DE (1) | DE4021991C2 (ja) |
| GB (1) | GB2234924B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19842659A1 (de) * | 1998-09-17 | 2000-03-30 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Werkzeug und Verfahren zum Abtrennen von Scheiben von einem Werkstück |
| JP5514744B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2014-06-04 | コーニング インコーポレイテッド | セラミック製品の切断システムおよび方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3491742A (en) * | 1967-05-19 | 1970-01-27 | Shirley I Weiss | Annular cutting blades |
| GB1205547A (en) * | 1968-11-29 | 1970-09-16 | Hinmar Associates Inc | Abrasive cutting tool with notched rim |
| US3765132A (en) * | 1972-04-06 | 1973-10-16 | Carborundum Co | Free cutting internal diamond grinding wheel |
| JPS5932267B2 (ja) * | 1980-04-11 | 1984-08-07 | 株式会社ヤマビシ | 切断刃 |
| US4407263A (en) * | 1981-03-27 | 1983-10-04 | Diamond Giken Co., Ltd. | Cutting blade |
| US4677963A (en) * | 1984-11-14 | 1987-07-07 | Ajamian Hrant K | Annular cutting disc |
| DE3606581A1 (de) * | 1986-02-28 | 1987-09-03 | Nkk Nihon Structure Co | Schleif- oder trennscheibe |
-
1989
- 1989-08-14 JP JP1207840A patent/JPH0677900B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-15 US US07/538,819 patent/US5095885A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-09 GB GB9015117A patent/GB2234924B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-11 DE DE4021991A patent/DE4021991C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2234924A (en) | 1991-02-20 |
| DE4021991A1 (de) | 1991-02-21 |
| JPH0677900B2 (ja) | 1994-10-05 |
| US5095885A (en) | 1992-03-17 |
| GB9015117D0 (en) | 1990-08-29 |
| DE4021991C2 (de) | 1997-10-02 |
| GB2234924B (en) | 1993-02-17 |
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