JPH0374213B2

JPH0374213B2 -

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Publication number: JPH0374213B2
Application number: JP773184A
Authority: JP
Priority date: 1984-01-18
Filing date: 1984-01-18
Publication date: 1991-11-26
Also published as: JPS60152459A

Description

【発明の詳細な説明】

技術分野本発明は新規なスルホニウム化合物に関する。発明の目的及び構成本発明のスルホニウム化合物は、下記一般式
（）で表わされる。〔式中R₁及びR₂は同一又は相異なつて低級アル
キル基を示す。R₃は低級アシルアセチル基、低
級アルコキシアセチル基、フエノキシアセチル
基、低級アシルアミノアセチル基、アラルキルオ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル
基、ラクトイル基、アラルキル基又はアラルキル
オキシメチル基を示す。R₄は低級アルキル基、
フエニル基、イソブトキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基、低級アルキルカルバモ
イル基又はフエニルカルバモイル基を示す。ｎは
１〜３の整数を示す。またＹは酸残基を示す。〕上記一般式（）中、R₁及びR₂で表わされる
低級アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル
基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等を例示できる。一般式（）中R₃で表わされる低級アシルア
セチル基としては炭素数４〜６のアシルアセチル
基、例えばアセチルアセチル、プロピオニルアセ
チル、ブチリルアセチル基等の低級アルキルカル
ボニルアセチル基を、低級アルコキシアセチル基
としては炭素数３〜６のアルコキシアセチル基、
例えばメトキシアセチル、エトキシアセチル、プ
ロポキシアセチル、ブトキシアセチル基等を、低
級アシルアミノアセチル基としては炭素数４〜６
のアシルアミノアセチル基、例えばアセチルアミ
ノアセチル、プロピオニルアミノアセチル、ブチ
リルアミノアセチル基等の低級アルキルカルボニ
ルアミノアセチル基を、アラルキル基としては炭
素数７〜10のアラルキル基、例えばベンジル、フ
エネチル、フエニルプロピル基等のフエニル低級
アルキル基を、アラルキルオキシメチル基として
は炭素数８〜11のアラルキルオキシメチル基、例
えばベンジルオキシメチル、フエネチルオキシメ
チル、フエニルプロピルオキシメチル基等のフエ
ニル低級アルキルオキシメチル基を、低級アルコ
キシカルボニル基としては炭素数２〜５のアルコ
キシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル基等を、またアラルキル
オキシカルボニル基としては炭素数８〜10のアラ
ルキルオキシカルボニル基、例えばベンジルオキ
シカルボニル、フエネチルオキシカルボニル、フ
エニルプロピルオキシカルボニル基等のフエニル
低級アルキルオキシカルボニル基を夫々例示でき
る。一般式（）中、R₄で表わされる低級アルキ
ル基及びアラルキルオキシカルボニル基は夫々前
記と同様であり、また低級アルキルカルバモイル
基としては炭素数２〜５のアルキルカルバモイル
基、例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモ
イル、プロピルカルバモイル、ブチルカルバモイ
ル基等を例示することができる。一般式（）中、Ｙで表わされる酸残基として
は、医薬品として使用できるものであれば良く、
具体的には次の無機酸残基及び有機酸残基を例示
できる。無機酸残基……塩化水素、沃化水素、臭化水素、
四弗化硼素酸、過塩素酸、リン酸等の酸残基有機酸残基……メタンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸、カンフアースルホン酸、１，５−ナフ
タレンジスルホン酸等の有機スルホン酸残基及
び乳酸、マレイン酸、マロン酸等のカルボン酸
残基本発明の上記一般式（）で表わされるスルホ
ニウム化合物は抗アレルギー作用等を有し、抗ア
レルギー剤を始めとする医薬品として有用であ
る。以下、上記一般式（）で表わされる本発明ス
ルホニウム化合物の製造方法につき説明する。本
発明化合物は、例えば下記に示す各種の方法によ
り製造される。〔製造法Ａ〕一般式〔式中R₁、R₃、R₄及びｎは前記に同じ。〕で表わされるスルフアイド化合物と、一般式 R₂Y （）〔式中R₂及びＹは前記に同じ。〕で表わされる化合物とを反応させる。本反応は溶媒中或いは無溶媒で、−30〜150℃、
好ましくは０〜100℃以下、反応時間約0.5〜72時
間で行なわれる。化合物（）はスルフアイド化
合物（）に対し大過剰量使用しても良いが、好
ましくは理論量の約１〜４倍モル量使用するのが
良い。溶媒としてはメタノール、エタノール、プ
ロハノール等のアルコール類、アセトニトリル、
ニトロメタン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキサイド等の極性溶媒、メチレンクロライ
ド、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、エチルエーテル、プロピルエーテル等のエー
テル類、その他アセトン、石油エーテル、酢酸エ
チル、水、及びこれら溶媒の混合溶媒を使用でき
る。反応は必要に応じて密閉容器中で行なうこと
ができる。上記反応において、原料として用いられるスル
フアイド化合物（）は、例えば一般式〔式中R₁、R₄及びｎは前記に同じ。〕で表わされる化合物と、一般式 R₃−Hal （）〔式中R₃は前記に同じ。Halはハロゲン原子を示
す。〕で表わされる化合物とを、無溶媒又は適当な溶媒
中、０〜100℃程度の温度条件下に反応させるこ
とにより合成される。該合成反応は、好ましくは
塩基性化合物、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、これらの水素化物、これらの水素
化物又はピリジン、モルホリン、ピペリジン、ピ
ペラジン、トリエチルアミン等の存在下に実施さ
れる。上記スルフアイド化合物（）の合成の詳
細は、後記参考例において記述する。〔製造法Ｂ〕一般式〔式中R₁、R₂、R₃、R₄及びｎは前記に同じ。Ｘ
はハロゲン原子を示す。〕で表わされるスルホニウムハライドと、一般式 ZY₁ （）〔式中Ｚは銀原子又はアルカリ金属原子を示す。
Y₁は上記Ｘで示されるハロゲン原子以外の酸残
基を示す。〕で表わされる化合物とを反応させる。本方法は、スルホニウムハライド（）（本発
明の一般式（）で表わされる化合物中、Ｙがハ
ロゲン化水素酸残基を示すもの）の塩交換反応を
利用するものであり、該原料化合物（）は上記
製造法Ａに従い製造される。該スルホニウムハラ
イド（）は、製造法Ａに示した反応系より単離
することなく、反応混合物の形態でも本反応に使
用できる。勿論反応系より単離精製して用いるこ
ともできる。上記スルホニウムハライド（）と
反応させるべき化合物（）としては、本発明の
一般式（）中Ｙに対応する酸残基を提供し得る
各酸の銀塩又はアルカリ金属塩を使用できる。上
記酸としては例えば塩化水素、臭化水素、ヨウ化
水素、過塩素酸、四弗化硼素酸等の無機酸及びマ
レイン酸、マロン酸、乳酸、カンフアースルホン
酸、メタンスルホン酸、トシル酸、ピクリルスル
ホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸等の有
機酸を例示できる。またアルカリ金属としては例
えばナトリウム、カリウム、リチウム等を例示で
きる。本塩交換反応は溶媒中、約−30〜150℃、好ま
しくは約０〜100℃で行なわれる。化合物（）
はスルホニウムハライド（）に対して、好まし
くは理論量の約１〜４倍量で使用される。溶媒と
しては前記製造法Ａの反応に使用されると同一の
各種の溶媒をいずれも使用できる。〔製造法Ｃ〕上記製造法Ｂに示したと同一のスルホニウムハ
ライド（）に、酸化銀と一般式 HY₁ （）〔式中Y₁は前記に同じ。〕で表わされる化合物（酸）とを反応させる。本方法もスルホニウムハライド（）の塩交換
反応を利用するものであり、化合物（）として
は、本発明の一般式（）で表わされる化合物中
Ｙで示される酸残基を提供し得る遊離形態の有機
酸もしくは無機酸を利用する。之等酸の具体例は
上記製造法Ｂに示す通りである。本反応において酸化銀は、原料とするスルホニ
ウムハライド（）に対して通常等モル以上、好
ましくは約１〜４倍モルの割合で用い得る。また
化合物（）の使用割合は、スルホニウムハライ
ド（）に対して等モル以上、好ましくは約１〜
４倍モル比とするのがよい。本反応は、通常溶媒
中、約−30〜150℃、好ましくは約０〜100℃で行
なわれる。溶媒としては前記製造法Ａのそれと同
一でよい。上記製造法Ａ〜Ｃに従い得られる本発明のスル
ホニウム化合物（）は、反応終了後、通常の分
離方法に従つて単離できる。該分離方法として
は、例えば再結晶法、抽出法、濃縮法、カラムク
ロマトグラフイー等を採用できる。本発明化合物は、抗アレルギー作用を有するほ
かにも生体の免疫能を亢進する作用；制癌作用；
免疫調節作用；消炎鎮痛作用；肝機能改善作用；
抗自己免疫作用；感染防御作用；副作用として免
疫抑制作用を有する例えばステロイド剤、制癌剤
等の有効成分化合物のこれら副作用防止作用；免
疫療法の補助作用；血小板凝集阻止作用；生物成
長調節作用等を有し、医薬品、農薬として有用で
ある。実施例次に本発明を更に説明するため、原料とするス
ルフアイド化合物（）の製造例を参考例として
挙げ、次いで本発明化合物の製造例を実施例とし
て挙げる。参考例１２−｛４−（３−エトキシ−２−メトキシアセト
キシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチ
ルメチルスルフアイドの合成ベンゼン60mlに、２−｛４−（３−エトキシ−２
−ハイドロキシプロポキシ）フエニルカルバモイ
ル｝エチルメチルスルフアイド3.13ｇ及びピリジ
ン0.87ｇを溶解する。これに氷冷下、メトキシア
セチルクロライド1.09ｇを滴下する。室温で３時
間撹拌後、反応液を水洗し、濃縮する。残渣をカ
ラムクロマトグラフイー（シリカゲル、アセト
ン：ベンゼン＝２：５）にて精製して、２−｛４
−（３−エトキシ−２−メトキシアセトキシプロ
ポキシ）フエニルカルバモイル｝エチルメチルス
ルフアイド3.50ｇ（収率90.9％）を得る。 NMR（DMSO−d₆、δ値、ppm）1.10（3H、
CH₃CH₂O−）、2.09（3H、CH₃S−）、2.4−2.9
（4H、CH₃SCH₂CH₂CONH−）、3.31（3H、
CH₃O−）、3.47（2H、CH₃CH₂O−）、3.62（2H、

【式】）、4.60（2H、 CH₃OCH₂CO）、4.09（2H、

【式】）、5.1−5.4（1H、

【式】）、6.88、7.51 （4H、

【式】）、9.85（1H、 CONH）参考例２２−｛２−（３−ブトキシ−２−フエノキシアセ
トキシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エ
チルプロピルスルフアイドの合成クロロホルム100mlに、２−｛２−（３−ブトキ
シ−２−ハイドロキシプロポキシ）フエニルカル
バモイル｝エチルプロピルスルフアイド3.70ｇ及
びピリジン0.87ｇを溶解する。これに氷冷下、フ
エノキシアセチルクロライド1.71ｇを滴下する。
室温で２時間撹拌後、反応液を水洗し、濃縮す
る。残渣をカラム（シリカゲル、エーテル：石油
エーテル＝５：３）にて精製して、２−｛２−（３
−ブトキシ−２−フエノキシアセトキシプロポキ
シ）フエニルカルバモイル｝エチルプロピルスル
フアイド4.80ｇ（収率95.2％）を得る。 NMR（DMSO−d₆、δ値、ppm）0.87（3H、
CH₃CH₂CH₂CH₂O−）、0.91（3H、
CH₃CH₂CH₂S−）、1.0−1.7（6H、CH₃CH₂CH₂S
−及びCH₃CH₂CH₂CH₂O−）、2.3−2.6（2H、
CH₃CH₂CH₂S−）、2.5−2.8（4H、
SCH₂CH₂CONH−）、3.2−3.6（2H、
CH₃CH₂CH₂CH₂O−）、3.68（2H、

【式】）、4.0−4.3（2H、

【式】）、4.81（2H、

【式】）、5.3−5.6（1H、

【式】）、6.7−7.4（5H、

【式】）、6.7−7.2、7.9−8.1（4H、

【式】）、8.70（1H、CONH）実施例１２−｛４−（３−エトキシ−２−メトキシアセト
キシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチ
ルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホ
ネート（化合物１）の合成２−｛４−（３−エトキシ−２−メトキシアセト
キシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチル
メチルスルフアイド3.85ｇをメチレンクロライド
30mlに溶解後、これにｐ−トルエンスルホン酸メ
チル5.58ｇを加えて、室温で48時間撹拌する。反
応液にイソプロピルエーテルを加え、不溶部を分
取し、アセトニトリル−エーテルより精製して２
−｛４−（３−エトキシ−２−メトキシアセトキシ
プロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチルジメ
チルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート
（化合物１）5.30ｇ（収率92.7％）を得る。実施例２２−｛３−（２−アセチルアセチロキシ−３−プ
ロピルカルバモイルオキシプロポキシ）フエニ
ルカルバモイル｝エチルジメチルスルホニウム
ｐ−トルエンスルホネート（化合物11）の合
成２−｛３−（２−アセチルアセチロキシ−３−プ
ロピルカルバモイルオキシプロポキシ）フエニル
カルバモイル｝エチルメチルスルフアイド 4.54
ｇにｐ−トルエンスルホン酸メチル5.5ｇを加え
室温で24時間撹拌する。反応液にエーテルを加
え、不溶部を取し、アセトニトリル−エーテル
より再結晶して、２−｛３−（２−アセチルアセチ
ロキシ−３−プロピルカルバモイルオキシプロポ
キシ）フエニルカルバモイル｝エチルジメチルス
ルホニウルｐ−トルエンスルホネート（化合物
111）6.10ｇ（収率95.2％）を得る。 mp74−76℃ 実施例３２−｛３−（２−アセチルアミノアセトキシ−３
−メトキシプロポキシ）フエニルカルバモイ
ル｝エチルブチルメチルスルホニウムアイオ
ダイド（化合物２）の合成２−｛３−（２−アセチルアミノアセトキシ−３
−メトキシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝
エチルブチルスルフアイド4.41ｇをジメチルホル
ムアミド４mlに溶解する。これにメチルアイオダ
イド5.00ｇを加え室温で24時間撹拌する。反応液
にエーテルを加え、不溶部を分取し、エタノール
−エーテルより精製して、２−｛３−（２−アセチ
ルアミノアセトキシ−３−メトキシプロポキシ）
フエニルカルバモイル｝エチルブチルメチルスル
ホニウムアイオダイド（化合物２）5.20ｇ（収
率89.3％）を得る。実施例４実施例３と同様の操作により後記第１表に示す
化合物４および10を合成した。実施例５２−｛２−（３−ブトキシ−２−フエノキシアセ
トキシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エ
チルジプロピルスルホニウムｐ−トルエンス
ルホネート（化合物５）の合成２−｛２−（３−ブトキシ−２−フエノキシアセ
トキシプロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチ
ルプロピルスルフアイド5.04ｇ及びアセトニトリ
ル20mlにプロピルアイオダイド5.10ｇを加え、次
いでｐ−トルエンスルホン酸銀2.79ｇを加えて、
室温で12時間撹拌する。反応液を過し、液に
硫化水素と活性炭とを加えて過する。液を濃
縮し、残渣をアセトニトリル−イソプロピルエー
テルより精製して、２−｛２−（３−ブトキシ−２
−フエノキシアセトキシプロポキシ）フエニルカ
ルバモイル｝エチルジプロピルスルホニウムｐ
−トルエンスルホネート（化合物５）6.80ｇ（収
率94.7％）を得る。実施例６実施例５と同様に操作して、後記第１表に示す
化合物６、７、８および９を合成した。実施例７２−｛３−（２−アセチルアミノアセトキシ−３
−メトキシプロポキシ）フエニルカルバモイ
ル｝エチルブチルメチルスルホニウムｐ−ト
ルエンスルホネート（化合物３）の合成実施例３で合成した２−｛３−（２−アセチルア
ミノアセトキシ−３−メトキシプロポキシ）フエ
ニルカルバモイル｝エチルブチルメチルスルホニ
ウルアイオダイド5.82ｇをアセトニトリル50ml
に溶解し、これに酸化銀2.31ｇを加えて、室温で
30分撹拌後過する。液に、アセトニトリル20
mlにｐ−トルエンスルホン酸3.44ｇを溶解した液
を加えた後、濃縮する。残渣をアセトニトリル−
イソプロピルエーテルより精製して、２−｛３−
（２−アセチルアミノアセトキシ−３−メトキシ
プロポキシ）フエニルカルバモイル｝エチルブチ
ルメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホネー
ト（化合物３）5.80ｇ（収率92.5％）を得る。上記各実施例で得られた化合物（化合物１〜
11）の構造を第１表に示し、また各例における収
率（％）及び核磁気共鳴スペクトル（NMR）分
析結果（δ値、ppm）を第２表に示す。尚NMR
はDMSO−d₆中、TMSを内部標準物質として測
定した値である。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中R₁及びR₂は同一又は相異なつて低級アル
キル基を示す。R₃は低級アシルアセチル基、低
級アルコキシアセチル基、フエノキシアセチル
基、低級アシルアミノアセチル基、アラルキルオ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル
基、ラクトイル基、アラルキル基又はアラルキル
オキシメチル基を示す。R₄は低級アルキル基、
フエニル基、イソブトキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基、低級アルキルカルバモ
イル基又はフエニルカルバモイル基を示す。ｎは
１〜３の整数を示す。またＹは酸残基を示す。〕で表わされるスルホニウム化合物。