JPH0375652A - 改良された感度の酸硬化性フォトレジスト - Google Patents

改良された感度の酸硬化性フォトレジスト

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JPH0375652A
JPH0375652A JP2177655A JP17765590A JPH0375652A JP H0375652 A JPH0375652 A JP H0375652A JP 2177655 A JP2177655 A JP 2177655A JP 17765590 A JP17765590 A JP 17765590A JP H0375652 A JPH0375652 A JP H0375652A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 架橋剤としてメラミン樹脂を含む酸硬化性フォトレジス
トの組成物は、例えば公告されたヨーロノパ特許出願８
５３０３８０７・３．８７３００２２０・８及び８７３
００２１９・０において開示された。これらの特許出願
は、ノボラックまたはポリビニルフェノールのような樹
脂及びフォト酸発生剤（ｐｈｏｔｏａｃｉｄｇｅｎｅｒ
ａｔｏｒ　）に加えて架橋剤としてメラミン樹脂のよう
なアミノブラストを含む酸硬化性樹脂を含有するフォト
レジストを開示している。フォト酸発生剤（ｐｈｏｔｏ
ａｃｉｄ　ｇｅｎｅｒａｔｏｒ　）は活性化波長（ａｃ
ｔｉｖａｔｉｎｇ　ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ　）に露光さ
れると感応して酸を発生する。酸は酸硬化用樹脂の成分
の間で反応を開始させる。これらの出願の中で有効であ
ると開示されているメラミン樹脂には、サイメール（Ｃ
ｙｍｅｌ）　３０３を含む。それはモノマーの二量体及
び三量体のみならずヘキサメトキシメチルメラミン樹脂
モノマーも含むメラミン樹脂で工業的に利用されている
。
ヘキサメトキシメチルメラミン（ＨＭＭＭ）はコーティ
ングの組成物として用いられてきたが、サイメール（Ｃ
ｙｍｅｌ　）の商品名で例えばサイメール（Ｃｙｍｅｌ
）　３０３、サイメール（Ｃｙｍｅｌ　）　３００等の
ようないろいろな純度の製品を市販しているアメリカン
シアナミド株式会社（Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｙａｎａｍ
ｉｄＣｏｍｐａｎｙ　）によって工業的に供給されてい
る。当該技術は試薬がサイメール（Ｃｙｍｅｌ　）のよ
うな工業的な樹脂である時、ヘキサメトキシメチルメラ
ミンを用いて行なわれたといわれる実験の開示を含む。
そのサイメール（Ｃｙｍｅｌ　）樹脂のような工業的に
供給されているメラミン樹脂材料は、非常に多くの二量
体、三量体、四量体及び汚染物質のような不純物を含む
。サイメール（Ｃｙｍｅｌ　）　３００のサンプルのゲ
ル浸透クロマトグラフィーは、ヘキサメトキシメチルメ
ラミンの高純度の特定の型を明らかにしている。モノマ
ー含量：７４−７９重量％；二量体含量：１６−１９重
量％；三量体含量：４−７重量％。
ノドグラフポテンシャルはフォトレジスト組成物の予期
したリトグラフの成果の一つの尺度である。リトグラフ
ポテンシャルは数値として表され、レジストの露光され
ない面積の溶解速度をレジストの露光した面積の溶解速
度で割った商の常用対数（１０ｇ１ｏ　）に等しい。リ
トグラフポテンシャルは、露光放射線の特別な波長の線
量に感応して露光した面積で観察された皮応の程度を表
現したものである。低くなった溶解速度は、現像溶液に
よる除去（ｒｅｍｏｖａｌ　）に応じて樹脂の抵抗が増
大していくのを示し、その結果露光放射線に感応する化
学反応の程度を測定する尺度として使える。いろいろな
レジストの感度は、それらのリトグラフポテンシャルを
測定することによって比較できる。
与えられた値のリトグラフポテンシャルを作るため露光
した波長における低い線量を必要とするレジストは、同
じ値のリトグラフポテンシャルを作るため、より高い線
量を必要とするレジストより敏感であるといえる。
発明の目的 それゆえにこの発明の目的は、改良された感度を示す酸
硬化性フォトレジストを提供することである。
この発明のも５１つの目的は、改良された貯蔵期間を有
する酸硬化性フォトレジストを提供することである。
盈旦二叉組 この発明は、メラミン樹脂が重量で増加した量のヘキサ
メトキシメチルメラミンモノマーを含む改良された感度
のフォトレジストを提供する。モノマー含量は、８３％
以上、ふつうは８７％以上、好ましくは８９重量％以上
である。
この発明はさらに、メラミン樹脂が合成副産物と汚染物
質を除去するため精製された、改良された貯蔵期間を有
するフォトレジストを提供する。
好ましくは、メラミン樹脂は蒸留したヘキサメトキシメ
チルメラミン樹脂モノマーである。
発明の詳細な説明 この発明によるレジストは、架橋剤としてメラミン樹脂
を含むすでに周知のレジストより改良された感度を示す
。出願人らは、レジストのメラミン樹脂成分がヘキサメ
トキシメチルメラミンモノマーを高い百分率で含む時、
フォトレジストの感度が著しく強まることを発見した。
ヘキサメトキシメチルメラミンモノマーの構造式は次の
如くである。
人 Ｎ＼Ｎ ヘキサメトキシメチルメラミンの二量体及び二量体は、
合成副産物としてまたは酸触媒の縮合反応によりかなり
の割合で作られ、また工業製品中に存在する。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）改良されたメラミン樹脂含有のフォトレジストに
    おいて、メラミン樹脂は８３重量％以上のヘキサメトキ
    シメチルメラミンモノマー含量を有することを特徴とす
    るフォトレジスト。
  2. （２）請求項（１）に記載のフォトレジストにおいて、
    メラミン樹脂のヘキサメトキシメチルメラミン含量は８
    ７重量％以上であることを特徴とするフォトレジスト。
  3. （３）請求項（１）に記載のフォトレジストにおいて、
    メラミン樹脂のヘキサメトキシメチルメラミン含量は８
    ９重量％以上であることを特徴とするフォトレジスト。
  4. （４）改良された貯蔵期間のメラミン樹脂含有のフトレ
    ジストにおいて、ヘキサメトキシメチルメラミンモノマ
    ーの自己縮合を促進するメラミン樹脂中の合成副産物及
    び不純物が、液体レジストの貯蔵中にオリゴマー化度を
    減少させるために十分除去されることを特徴とするフォ
    トレジスト。
  5. （５）請求項（４）に記載のフォトレジストにおいて、
    メラミン樹脂は蒸留ヘキサメトキシメチルメラミンであ
    ることを特徴とするフォトレジスト。
  6. （６）メラミン樹脂含有のフォトレジストのリトグラフ
    の成果を改良する方法において、そのメラミン樹脂を８
    ３％以上のヘキサメトキシメチルメラミンモノマー含量
    を有する樹脂と置換することによって与えられた組成の
    レジストを改質することを含むことを特徴とする方法。
  7. （７）請求項（６）に記載の方法において、ヘキサメト
    キシメチルメラミンモノマー含量は８７％以上であるこ
    とを特徴とする方法。
  8. （８）請求項（６）に記載の方法において、ヘキサメト
    キシメチルメラミンモノマー含量は８９％以上であるこ
    とを特徴とする方法。
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