JPH037925B2

JPH037925B2 -

Info

Publication number: JPH037925B2
Application number: JP59107987A
Authority: JP
Inventors: Kenji Hayashi
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1984-05-28
Filing date: 1984-05-28
Publication date: 1991-02-04
Also published as: JPS60250338A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、カメラの焦点板の製造方法に関す
る。

〔従来技術と問題点〕

従来、一眼レフ等のカメラの焦点板としては、
アクリル板等の光学素材の表面に断面形状が不規
則な鋭い凹凸をなす拡散レリーフを形成したもの
が広く用いられている。この焦点板は、金属板の
表面を砂摺りした型を用いて板状の光学素材に転
写して製造されるものである。

しかし、上記砂摺り拡散レリーフを有する焦点
板は、拡散性を良くするとボケが大きくなりピン
ト合わせが容易となるが、マツト面の粒状性が大
きくなつてフアインダーが著しく暗くなる。反対
に拡散性を減らすとフアインダーは明るくなる
が、ボケの検出能力が低下する問題がある。

上記問題を解決するため種々の改良がなされて
いる。

例えば、特開昭53−42726号公報、特開昭54−
92232号公報には、スペツクルパターンを感材に
記録したものが記載されているが、この焦点板
は、明るく粒状性が少ないものの、小絞りになる
に従つて粒状性が目立つてくる問題がある。

かかる問題の解決を図るため規則的な微細構造
の拡散レリーフを形成した焦点板があり、この焦
点板を製造するため、特開昭54−83846号公報に
は、金属基板上に感光性樹脂を塗布し、微細パタ
ーンのマスク像を露光現像してエツチングする方
法が記載されており、また、特開昭55−90931号
公報には、レーザー光線の規則的干渉パターンを
乾板に焼き付けブリーチ処理を行う方法が記載さ
れている。

しかし、エツチングの方法は、深さを均一に調
整することがきわめて困難であり、また、レーザ
ーの方法は、設備がきわめて大がかりとなる問題
がある。

さらに、規則的な微細構造の拡散レリーフを形
成した焦点板を製造するため、特開昭57−148728
号公報には、光の強度分布を表面の凹凸分布に変
換する特性を備えた感光材料に記録し、感光材料
表面を微細凹凸構造とし、この型を電鋳によつて
作成する方法が記載されている。

しかしながら、上記方法も焦点板全面に亘つて
均一な深さの拡散レリーフを得ることは困難であ
り、かつ型製造が高価となる問題がある。

上述した如く焦点板面をレンズの集合体とする
こと自体には、種々の利点がある。

すなわち、各レンズ間の配列ピツチとレンズパ
ワーを制御することでボケ強度と明るさの制御が
容易である。また、拡散光のケラレが出ないため
黒い点状の粒状性もなく、小口径レンズを用いた
場合にも暗くなることが少ない。

反面、規則正しい配列による回析現象を生じ、
干渉色が現れる。また、ボケ像が輪帯状の不自然
な像となり、砂摺りマツトの焦点板に見られる自
然なボケが出ない。

カメラの焦点板の拡散板に使用するレンズ集合
体は、配列ピツチが20μｍ程度で、フアインダー
倍率４〜５倍の場合に人の目の解像能の限界以下
となる。レンズの底面とのなす角度が10゜程度で
光の拡散に基づく光量の減衰を少なくすることが
可能である。しかし、微小レンズを均一な寸法で
正確に配列した型を製造するのはきわめて困難で
あるとともに、高価となり、かつ近似的なレンズ
とするにすぎない。

〔発明の目的〕

本発明は、上述した問題に鑑み、ピント合わせ
が容易であるとともに、著しく簡単かつ安価に製
造し得る焦点板の製造方法の提供を目的とする。

〔発明の概要〕

本発明は、上記目的を達成すべく、板材の表面
を最も近い３個の凸部どうしがそれぞれ等しい距
離であるように配した規則的な凹凸レリーフに加
工し、該規則的な凹凸レリーフ面に電気めつきを
施して外周が六角形状をしたレンズ面からなり、
かつレンズ面に微小な凹凸を有するハニカムパタ
ーンを形成し、このハニカムパターンを光学素材
に直接に転写しまたはハニカムパターンを電鋳法
により一旦金型に転写してから金型を用いて光学
素材に転写するものである。

〔実施例〕

以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明
する。

第１図は、本発明に係る焦点板の一実施例を示
す拡大断面説明図で、この実施例においては、ア
クリル板等の板状の光学素材１の一方の表面（板
面）に、多数のレンズ状凹凸部２を規則的に配列
して形成してある。そして、各レンズ状凹凸面に
は、これにより著しく小さい凹部３を形成してあ
る。

しかして、砂摺りによつて得られた不規則な凹
凸パターンの拡散レリーフ４を光学素材５の一方
の面に有する従来のいわゆる砂摺り焦点板は、第
２図に示すように、光線６が大きな角度αで散乱
される拡散光のパターン７を示すのに対し、本実
施例の焦点板は、第３図に示すように、光学素材
８の表面に微細な拡散パターン（図示せず）を表
面に有するレンズ状凹凸面９を有するので、光線
６が比較的小さい角度βで散乱するパターン１０
を示す。

したがつて、上記実施例によれば、砂摺り焦点
板のように粒状性を呈したり、フアインダーが悪
くなることはなく、また規則的配列のレンズ面を
有する焦点板のように色付きや輪帯ボケがなくな
る。

次に、上記焦点板を製造するには、まず、第４
図に示すように、金属からなる板材１１の表面
に、ダイヤモンド砥石を用いる研削盤等による機
械加工によりピツチ15μｍ、底面とのなす各度を
37゜とし、凹部を斜交させて多数の六角錐１２と
三角錐１３とを規則的に組み合わせた角錐レリー
フ１４を形成する。これによつて最も近い３個の
六角錐１２どうしがそれぞれ等しい距離であるよ
うに多数個形成される。

ついで、角錐レリーフ１４の表面にニツケル電
気めつきを施して、めつきによるスムージングパ
ワーによつて角錐頂部および稜線を丸め、第５図
に示すように、外周が六角形状をしたレンズ面１
５からなるハニカムパターン１６を形成する。

ニツケル電気めつきは、硫酸ニツケル、塩化ニ
ツケルおよび硼酸を基礎ニツケル浴とし、電解質
PH値を4.4〜4.6に保ち、基礎光沢剤としてスルフ
オン酸未を用い、かつエチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、プロピレンオキサイドもしく
はエチレンオキサイド・プロピレンオキサイド附
加生成物のいずれかを微細分散状エマルジヨンと
して加え、浴温度を48〜52℃とし、液を撹拌せず
にカソードロツキング法により行つた。

この場合、六角錐１２より高さの低い三角錐１
３は、スムージング効果により消滅し、六角錐に
よつてハニカムパターン１６が形成されるもので
ある。

また、微細分散状エマルジヨンが電解過程で、
角錐レリーフ面１４に付着し離脱することによつ
て、レンズ面１５に多数の微小凹凸が形成され
る。この微細分散状エマルジヨンによるサテン効
果は、一定添加量以下では効果が少なく、一定量
を越えればめつきの安定性を害するものであり、
めつき時間を増してもサテン性は一定であつた。
またサテン効果はニツケルめつき浴中のニツケル
濃度に支配された。

微細分散状エマルジヨンの添加量は、シエーリ
ング社（西独）の商品名ベロアNo.30を使用した場
合に、めつき液１当り２ml程度が適当である。
サテン効果を大とするには、ニツケル濃度は、硫
酸ニツケル（含む6H₂O）としてめつき液１当
り、380〜460gr、塩化ニツケル（含む6H₂O）で
35〜55gr程度の高濃度とすることによつて良い効
果が得られた。この際硼酸の含有量をめつき液１
当り、55〜69grの高い値とし、粒状のニツケル
の析出を防止できる。

ニツケル濃度の低いめつき浴でめつきする場合
には、被めつき物の形状、被めつき部位の電解電
流分布の不均一、めつき液の発熱による対流によ
つてサテンのむらが生じやすいが、濃度を挙げる
ことによつてサテン効果の向上と均一化が可能と
なる。

最後に、上述したハニカムパターン１６を有す
る型を使用して透明な光学プラスチツクス（光学
素材）の板に転写すると所望の焦点板が完成す
る。

なお、規則的な凹凸レリーフを形成するには、
六角錐１２と三角錐１３とからなる規則的に配列
した角錐レリーフによる場合には限らず、たとえ
ば第６図に示すように、金属からなる板材１７の
表面に凹部を斜交させるような機械加工によつて
形成したピツチ20μｍ、高さ60μｍ、一辺の長さ
3μｍとする多数の六角柱１８を、最も近い３個
の六角柱どうしがそれぞれ等しい距離として規則
的に配列した角柱レリーフ１９によつてもよいの
であるとともに、第７図に示すように、金属から
なる板材２０の表面に凹部を斜交させるような機
械加工によつて形成したピツチ15μｍ、高さ4μ
ｍ、一辺の長さ6μｍとする多数の菱形柱２１を、
最も近い３個の菱形柱どうしがそれぞれ等しい距
離として規則的に配列した角柱レリーフ２２によ
つてもよいものであり、これらの角柱レリーフ１
９，２２は、前述したニツケル電気めつきを施す
ことにより、第８図、第９図に示すように、いず
れも外周が六角形状をしたレンズ面１５からな
り、かつレンズ面１５に多数の微小凹凸（図示せ
ず）を有するハニカムパターン１６が形成される
ものである。

しかして、レンズ面１５のなす半球の形状は、
角錐の場合は、底面とのなす角度によつて、角柱
の場合は、底面からの高さによつて容易に変えら
れることができる。

ここで、微小レンズのパワーは、焦点板として
使用するときに、焦点板の明るさに関係するとと
もに合焦性も支配すること、ならびに配列ピツチ
は、カメラのフアインダーー倍率４〜５倍の下で
は、目の解像能より小さくすることが要求され
る。この条件を満足させるために、配列ピツチお
よび角錐の場合では底面とのなす角度を角柱の場
合は底面からの高さと角柱の太さを種々の値とし
て機械加工し、また、ニツケルめつきの膜厚、電
解条件および浴の組成を変えて実験した結果、レ
リーフの配列ピツチは20μｍ以下とし、微小レン
ズ状となつた時の底面とのなす角度を15゜以下と
すれば、所望の明るさと合焦性を得ることができ
た。

また、光学プラスチツクスの板に対する転写
は、ハニカムパターン１６を直接に転写する場合
に限られず、たとえば電鋳法によりハニカムパタ
ーン１６を反転した金型を形成し、しかる後に金
型表面を光学プラスチツクスに転写してもよいも
のであり、この場合の性能は同じである。

〔発明の効果〕

以上の如く本発明によれば、従来技術に比し、
明るさとボケ味を一層向上することができるとと
もに、干渉色や輪帯ボケをなくすことができる。
また、単純な線引き加工とニツケル電気めつきの
みによるものであるから、簡単にして安価に製造
できるとともに、再現性が高くかつ性能が良いな
どの効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る焦点板の一実施例を示す
要部拡大断面図、第２図は従来の砂摺り焦点板と
光線の散乱パターンを示す説明図、第３図は本発
明に係る焦点板と光線の散乱パターンを示す説明
図、第４図は本発明に係る焦点板を製造する機械
加工工程における角錐レリーフの斜視図、第５図
は角錐レリーフをハニカムパターンにめつきする
過程の説明図、第６図および第７図はそれぞれ焦
点板を製造する他の実施例による機械加工工程に
おける角柱レリーフの斜視図、第８図および第９
図はそれぞれ角柱レリーフをハニカムパターンに
めつきする過程の説明図である。１……光学素材、２……レンズ状凹凸部、３…
…凹部、１１……板材、１２……六角錐、１３…
…三角錐、１４……角錐レリーフ、１５……レン
ズ面、１６……ハニカムパターン、１７……板
材、１８……六角柱、１９……角柱レリーフ、２
０……板材、２１……菱形柱、２２……角柱レリ
ーフ。

Claims

【特許請求の範囲】１板材の表面を最も近い３個の凸部どうしがそ
れぞれ等しい距離であるように配した規則的な凹
凸レリーフに加工し、前記凹凸レリーフ面に微細
分散状のエマルジヨンを含有するニツケル電気め
つき酸性浴によつて電気めつきを施し、前記凹凸
レリーフの稜線を被覆して外周が六角形状をした
レンズ面から成るハニカムパターンとともに該レ
ンズ面に多数の微小凹凸を形成し、前記ニツケル
電気めつきによるハニカムパターンとレンズ面に
形成した多数の微小凹凸を光学素材に転写するこ
とを特徴とする焦点板の製造方法。２板材の表面を最も近い３個の凸部どうしがそ
れぞれ等しい距離であるように配した規則的な凹
凸レリーフに加工し、前記凹凸レリーフ面に微細
分散状のエマルジヨンを含有するニツケル前記凹
凸レリーフの稜線を被覆して外周が六角形状をし
たレンズ面から成るハニカムパターンとともに該
レンズ面に多数の微小凹凸を形成し、前記ニツケ
ル電気めつきによるハニカムパターンとレンズ面
に形成した多数の微小凹凸を電気鋳法により金型
に転写し、前記金型表面を光学素材に転写するこ
とを特徴とする焦点板の製造方法。