JPH0379703B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0379703B2 JPH0379703B2 JP57101620A JP10162082A JPH0379703B2 JP H0379703 B2 JPH0379703 B2 JP H0379703B2 JP 57101620 A JP57101620 A JP 57101620A JP 10162082 A JP10162082 A JP 10162082A JP H0379703 B2 JPH0379703 B2 JP H0379703B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- exposed
- frame
- plates
- mask
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1572—Processing both sides of a PCB by the same process; Providing a similar arrangement of components on both sides; Making interlayer connections from two sides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/16—Inspection; Monitoring; Aligning
- H05K2203/167—Using mechanical means for positioning, alignment or registration, e.g. using rod-in-hole alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0008—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for aligning or positioning of tools relative to the circuit board
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、露光装置に組付けられて使用される
基板露光用マスク合わせ装置に関するもので、さ
らに詳言すれば、両面露光される被露光板の両面
に焼き付けられるマスクパターンをより高い精度
で位置合わせすると共に、被露光板に対する両枠
板の着脱を容易に達成できるようにすることを目
的としたものである。
基板露光用マスク合わせ装置に関するもので、さ
らに詳言すれば、両面露光される被露光板の両面
に焼き付けられるマスクパターンをより高い精度
で位置合わせすると共に、被露光板に対する両枠
板の着脱を容易に達成できるようにすることを目
的としたものである。
第１図に示す如く、両面に感光層５，５を被覆
形成したプリント基板等の被露光板１に対する従
来の露光は、この被露光板１の周縁部の所望箇所
に２ケ以上の基準孔２を穿設成形し、他方露光装
置に取付けられた透明板により成形された下枠板
の周縁部の定位置に位置合わせピンを立設し、こ
の位置合わせピンを利用してマスクフイルムとか
マスク板等のマスクを上面に位置決めして組付け
た下枠板上に、その基準孔に位置合わせピンを嵌
入させることにより位置決めして被露光板を取付
け、さらに下面にマスクを位置決めして貼着し周
縁部の定位置に基準孔を穿設した上枠板を、その
基準孔に被露光板の基準孔を突き抜けて突出した
位置合わせピンを密嵌合させて下枠板および被露
光板に対する位置決めを達成して組付け、この状
態で上下からの光の照射により被露光板の露光を
達成していた。
形成したプリント基板等の被露光板１に対する従
来の露光は、この被露光板１の周縁部の所望箇所
に２ケ以上の基準孔２を穿設成形し、他方露光装
置に取付けられた透明板により成形された下枠板
の周縁部の定位置に位置合わせピンを立設し、こ
の位置合わせピンを利用してマスクフイルムとか
マスク板等のマスクを上面に位置決めして組付け
た下枠板上に、その基準孔に位置合わせピンを嵌
入させることにより位置決めして被露光板を取付
け、さらに下面にマスクを位置決めして貼着し周
縁部の定位置に基準孔を穿設した上枠板を、その
基準孔に被露光板の基準孔を突き抜けて突出した
位置合わせピンを密嵌合させて下枠板および被露
光板に対する位置決めを達成して組付け、この状
態で上下からの光の照射により被露光板の露光を
達成していた。
ところで、周知の如く、被露光板１は、その製
造方法からして、基準孔２を含めた表面全域に銅
メツキ４を被覆成形して構成されるものが多い。
造方法からして、基準孔２を含めた表面全域に銅
メツキ４を被覆成形して構成されるものが多い。
この被露光板１表面に成形される銅メツキ４の
層厚は、種々の複雑な条件により一定したものと
はならず、特に第２図に示す如く、基準孔２の孔
面においては、比較的凹凸の激しい状態で成形さ
れるものとなる。
層厚は、種々の複雑な条件により一定したものと
はならず、特に第２図に示す如く、基準孔２の孔
面においては、比較的凹凸の激しい状態で成形さ
れるものとなる。
これに対し、被露光板１に成形される基準孔２
は、より高い位置合わせ精度を得るために枠板に
立設された位置合わせピンの径とほぼ等しい口径
で成形されるため、基準孔内への位置合わせピン
の密嵌入に過大な組付け力を要することになつて
おり、同様に基準孔内に強引に嵌入に嵌入組付け
された位置合わせピンの抜き出しも大変に力を要
する作業となつていた。
は、より高い位置合わせ精度を得るために枠板に
立設された位置合わせピンの径とほぼ等しい口径
で成形されるため、基準孔内への位置合わせピン
の密嵌入に過大な組付け力を要することになつて
おり、同様に基準孔内に強引に嵌入に嵌入組付け
された位置合わせピンの抜き出しも大変に力を要
する作業となつていた。
また、位置合わせピンの基準孔２内への密嵌入
は、基準孔２孔面に被覆形成された銅メツキ４の
一部を削り取つて達成されることになるが、この
削り取られた銅メツキ４片が感光層５の表面に付
着し、露光されるマスクパターンを不良とする大
きな原因ともなつていた。
は、基準孔２孔面に被覆形成された銅メツキ４の
一部を削り取つて達成されることになるが、この
削り取られた銅メツキ４片が感光層５の表面に付
着し、露光されるマスクパターンを不良とする大
きな原因ともなつていた。
さらに、両枠板と被露光板１との組付けの位置
合わせは、下枠板を基準にして達成されるのであ
るが、下枠板の上に被露光板を介して上枠板が重
ね合わされる位置関係となるために、被露光板１
と上枠板との間の精度の良い位置合わせが達成し
難く、多くの場合、目視により位置合わせの確認
をする必要があつた。
合わせは、下枠板を基準にして達成されるのであ
るが、下枠板の上に被露光板を介して上枠板が重
ね合わされる位置関係となるために、被露光板１
と上枠板との間の精度の良い位置合わせが達成し
難く、多くの場合、目視により位置合わせの確認
をする必要があつた。
本発明は、上記した従来例における欠点および
不都合を解消すべく創案されたもので、中央両側
縁に対となつた２つの基準孔を有し、この基準孔
を含めた表面全域に銅メツキを施し、両面に感光
層を被覆成形した一枚の被露光板に対し、被露光
板を間に重ねて組付ける透明板体を主体としてマ
スクを定位置に貼着固定した二枚の枠板で構成さ
れ、被露光板の基準孔に対向する枠板の中央両側
縁部に、一方の基準孔に浅く密嵌合する位置合わ
せピンを立設すると共に、他方の基準孔に対向す
る逃げ孔を穿設し、両枠板に被露光板を組付けた
際に、一方の枠板の位置合わせピンが密嵌合した
基準孔に対し他方の枠板の逃げ孔が対向位置する
関係に設定したものである。
不都合を解消すべく創案されたもので、中央両側
縁に対となつた２つの基準孔を有し、この基準孔
を含めた表面全域に銅メツキを施し、両面に感光
層を被覆成形した一枚の被露光板に対し、被露光
板を間に重ねて組付ける透明板体を主体としてマ
スクを定位置に貼着固定した二枚の枠板で構成さ
れ、被露光板の基準孔に対向する枠板の中央両側
縁部に、一方の基準孔に浅く密嵌合する位置合わ
せピンを立設すると共に、他方の基準孔に対向す
る逃げ孔を穿設し、両枠板に被露光板を組付けた
際に、一方の枠板の位置合わせピンが密嵌合した
基準孔に対し他方の枠板の逃げ孔が対向位置する
関係に設定したものである。
以下、本発明の一実施例を、図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
本発明は、中央両側縁に対となつた２つの基準
孔２を有し、この基準孔２を含めた表面全域に銅
メツキ４を施し、両面に感光層５，５を被覆成形
した一枚の被露光板１の露光用マスク合わせ装置
に関するもので、被露光板１を挟み付ける形態で
重ね合わせて組付ける透明板製の二枚の枠板６，
６から構成されている。
孔２を有し、この基準孔２を含めた表面全域に銅
メツキ４を施し、両面に感光層５，５を被覆成形
した一枚の被露光板１の露光用マスク合わせ装置
に関するもので、被露光板１を挟み付ける形態で
重ね合わせて組付ける透明板製の二枚の枠板６，
６から構成されている。
被露光板１としては、プリント基板等が適用さ
れ、この被露光板１の中央両側縁には、それぞれ
対となつた基準孔２が穿設開孔されていて、この
被露光板１と枠板６との組付け位置合わせに機能
するようになつている。
れ、この被露光板１の中央両側縁には、それぞれ
対となつた基準孔２が穿設開孔されていて、この
被露光板１と枠板６との組付け位置合わせに機能
するようになつている。
この被露光板１に対して、被露光板１の基準孔
２に対向する両枠板６の中央両側縁部には、対と
なつた一方の基準孔２に対して位置合わせピン７
が突設されており、他方の基準孔２に対して逃げ
穴８が削設成形されている。
２に対向する両枠板６の中央両側縁部には、対と
なつた一方の基準孔２に対して位置合わせピン７
が突設されており、他方の基準孔２に対して逃げ
穴８が削設成形されている。
枠板６に突設された位置合わせピン７は、第５
図および第６図に示す如く、基準孔２に浅く密嵌
合する寸法および形状に成形されており、また逃
げ穴８は他方の枠板６に突設された位置合わせピ
ン７が密嵌合した基準孔２に対向位置すべく形成
されている。
図および第６図に示す如く、基準孔２に浅く密嵌
合する寸法および形状に成形されており、また逃
げ穴８は他方の枠板６に突設された位置合わせピ
ン７が密嵌合した基準孔２に対向位置すべく形成
されている。
すなわち、枠板６に突設され位置合わせピン７
は、半永久的に枠板６に取付けられるものである
と共に、その突出高さを変更することが不可能で
あるのに対し、この位置合わせピン７を突設した
両枠板６に組付けられる被露光板１は、その種類
別によつて厚さが大体0.1〜3.2mmの範囲で変更さ
れるので、厚さの小さい被露光板１を組付け場合
に、基準孔２内に嵌入した位置合わせピン７の先
端が被露光板１を突き抜けて反対側に突出するこ
とになるため、こね反対側に突出した位置合わせ
ピン７の先端が他方の枠板６に突き当たらないよ
に、この他方の枠板６に逃げ穴８を成形しておく
のである。
は、半永久的に枠板６に取付けられるものである
と共に、その突出高さを変更することが不可能で
あるのに対し、この位置合わせピン７を突設した
両枠板６に組付けられる被露光板１は、その種類
別によつて厚さが大体0.1〜3.2mmの範囲で変更さ
れるので、厚さの小さい被露光板１を組付け場合
に、基準孔２内に嵌入した位置合わせピン７の先
端が被露光板１を突き抜けて反対側に突出するこ
とになるため、こね反対側に突出した位置合わせ
ピン７の先端が他方の枠板６に突き当たらないよ
に、この他方の枠板６に逃げ穴８を成形しておく
のである。
なお、第３図に示す如く、一般には被露光板１
の前端縁中央には、対となつたトランスフアー停
止用基準穴３，３が穿設されていて、この被露光
板１の露光装置への組付け位置を設定するように
なつている。
の前端縁中央には、対となつたトランスフアー停
止用基準穴３，３が穿設されていて、この被露光
板１の露光装置への組付け位置を設定するように
なつている。
両面に感光層５，５を貼着した被露光板１を挟
んで、この被露光板１に対向する側の表面に、マ
スクフイルムとかマスク板等のマスク９を位置決
めして貼着し、位置合わせピン７を突設すると共
に逃げ穴８を削設した二枚の枠板６を、第４図に
示す如く、対向配置し、この状態のまま両枠板６
をそのマスク９が感光層５に密に圧接するまで被
露光板１に押付け、第５図に示す如く、位置合わ
せピン７を基準孔２に浅く密嵌合させて、両枠板
６，６に対する被露光板１の位置合わせされた組
付けを達成する。
んで、この被露光板１に対向する側の表面に、マ
スクフイルムとかマスク板等のマスク９を位置決
めして貼着し、位置合わせピン７を突設すると共
に逃げ穴８を削設した二枚の枠板６を、第４図に
示す如く、対向配置し、この状態のまま両枠板６
をそのマスク９が感光層５に密に圧接するまで被
露光板１に押付け、第５図に示す如く、位置合わ
せピン７を基準孔２に浅く密嵌合させて、両枠板
６，６に対する被露光板１の位置合わせされた組
付けを達成する。
このように、一枚の被露光板１を組付ける二枚
の枠板６，６のそれぞれに位置合わせピン７を突
設しているので、各枠板６の被露光板１との位置
合わせは、個々に全く独立して達成されることに
なり、二枚の枠板６，６同士の位置合わせは、被
露光板１を介して達成されることになる。
の枠板６，６のそれぞれに位置合わせピン７を突
設しているので、各枠板６の被露光板１との位置
合わせは、個々に全く独立して達成されることに
なり、二枚の枠板６，６同士の位置合わせは、被
露光板１を介して達成されることになる。
すなわち、本発明の基板露光用マスク合わせ装
置においては、二枚の枠板６，６に対する一枚の
被露光板１の位置合わせは、被露光板１を基準と
してその相互組付け位置合わせが設定されること
になるのであり、両枠板６，６の相互位置合わせ
を直接達成する構成とはなつていない。
置においては、二枚の枠板６，６に対する一枚の
被露光板１の位置合わせは、被露光板１を基準と
してその相互組付け位置合わせが設定されること
になるのであり、両枠板６，６の相互位置合わせ
を直接達成する構成とはなつていない。
しかしながら、被露光板１の中央両側縁に開孔
された一対の基準孔２，２の位置関係は不動であ
り、この不動である一対の基準孔２，２に浅く密
嵌合する両枠板６，６の位置合わせピン７，７の
位置関係を不動となり、このため両枠板６，６は
被露光板１を介して一定位置関係に正確に組付け
保持されることになる。
された一対の基準孔２，２の位置関係は不動であ
り、この不動である一対の基準孔２，２に浅く密
嵌合する両枠板６，６の位置合わせピン７，７の
位置関係を不動となり、このため両枠板６，６は
被露光板１を介して一定位置関係に正確に組付け
保持されることになる。
また、第６図に示す如く、位置合わせピン７は
基準孔２に浅く密嵌合して枠板６に対する被露光
板１の組付き位置合わせを達成するのであるが、
この位置合わせピン７の基準孔２への密嵌合は、
枠板６に対する被露光板１の組付きが、枠板６の
表面に沿つて変位しないように規制する程度に浅
いものであつて、枠板６に対する被露光板１の組
付き状態そのものを保持する程度に深く嵌合する
のではないので、第６図図示実施例の如く、基準
孔２の孔面に肉厚の不均一な銅メツキ４が施され
ていたしても、基準孔２内に密嵌合する位置合わ
せピン７が、この基準孔２孔面に成形された銅メ
ツキ４を削り取ることはほとんどなく、また位置
合わせピン７の基準孔２内への密嵌入組付きおよ
び取外しに大きな操作力を要することがない。
基準孔２に浅く密嵌合して枠板６に対する被露光
板１の組付き位置合わせを達成するのであるが、
この位置合わせピン７の基準孔２への密嵌合は、
枠板６に対する被露光板１の組付きが、枠板６の
表面に沿つて変位しないように規制する程度に浅
いものであつて、枠板６に対する被露光板１の組
付き状態そのものを保持する程度に深く嵌合する
のではないので、第６図図示実施例の如く、基準
孔２の孔面に肉厚の不均一な銅メツキ４が施され
ていたしても、基準孔２内に密嵌合する位置合わ
せピン７が、この基準孔２孔面に成形された銅メ
ツキ４を削り取ることはほとんどなく、また位置
合わせピン７の基準孔２内への密嵌入組付きおよ
び取外しに大きな操作力を要することがない。
それゆえ、従来のように、基準孔への位置合わ
せピンの密嵌合組付けにより削り取られた銅メツ
キ片が、被露光板１表面に付着して露光されるマ
スクパターンを不良なものとすると言う不都合を
ほとんど無くすことができる。
せピンの密嵌合組付けにより削り取られた銅メツ
キ片が、被露光板１表面に付着して露光されるマ
スクパターンを不良なものとすると言う不都合を
ほとんど無くすことができる。
同様に、枠板６に対する被露光板１の組付け取
外しに大きな操作力必要としないことから、露光
作業が極めて行い易くなり、かつ位置合わせピン
７の磨耗および損傷がほとんど無いので、枠板６
の寿命を大幅に延長させることができる。
外しに大きな操作力必要としないことから、露光
作業が極めて行い易くなり、かつ位置合わせピン
７の磨耗および損傷がほとんど無いので、枠板６
の寿命を大幅に延長させることができる。
以上の説明から明らかな如く、本発明は、二枚
枠板に対する一枚の被露光板の組付けが、被露光
板を基準として位置決めされるので、被露光板に
対する各枠板の位置合わせを正確に達成すること
ができ、また両枠板相互の位置合わせは、各枠板
の被露光板に対する位置合わせが正確に達成され
れば必然的に正確なものとなるので、被露光板と
枠板との組合せは、単に各枠板毎の被露光板との
組付けを正確に行えば良く、さらに枠板に対する
被露光板の組付けの際に銅メツキが削り取られる
ことがほとんど無いと共に基準孔への位置合わせ
ピンの密嵌合組付きを弱い操作力で達成すること
ができるので、被露光板に焼付けられるマスクパ
ターンの不良発生を大幅に減少させることができ
ると共に両枠板に対する被露光板の組付け組外し
作業が行い易く、もつて枠板を長期間にわたり高
寸法精度を保つたまま使用することができる等多
くの優れた効果を有するものである。
枠板に対する一枚の被露光板の組付けが、被露光
板を基準として位置決めされるので、被露光板に
対する各枠板の位置合わせを正確に達成すること
ができ、また両枠板相互の位置合わせは、各枠板
の被露光板に対する位置合わせが正確に達成され
れば必然的に正確なものとなるので、被露光板と
枠板との組合せは、単に各枠板毎の被露光板との
組付けを正確に行えば良く、さらに枠板に対する
被露光板の組付けの際に銅メツキが削り取られる
ことがほとんど無いと共に基準孔への位置合わせ
ピンの密嵌合組付きを弱い操作力で達成すること
ができるので、被露光板に焼付けられるマスクパ
ターンの不良発生を大幅に減少させることができ
ると共に両枠板に対する被露光板の組付け組外し
作業が行い易く、もつて枠板を長期間にわたり高
寸法精度を保つたまま使用することができる等多
くの優れた効果を有するものである。
第１図は、被露光板の基準孔の部分の一般的な
構造を示す要部縦断面図である。第２図は、被露
光板の基準孔部分における一般的な銅メツキの形
成形態を示す要部拡大縦断面図である。第３図
は、一般的な被露光板の全体構成を示す平面図で
ある。第４図は、本発明装置の両枠板に対する被
露光板の組付け前における、両枠板と被露光板と
の相対位置関係を示す要部縦断面図である。第５
図は、本発明装置の両枠板に対して被露光板を組
付けた状態における、両枠板と被露光板との相対
位置関係を示す要部縦断面図である。第６図は、
本発明装置における、基準孔に対する位置合わせ
ピンの密嵌合状態を示す要部拡大縦断面図であ
る。 符号の説明、１；被露光板、２；基準孔、３；
トランスフアー停止用基準穴、４；銅メツキ、
５；感光層、６；枠板、７；位置合わせピン、
８；逃げ穴、９；マスク。
構造を示す要部縦断面図である。第２図は、被露
光板の基準孔部分における一般的な銅メツキの形
成形態を示す要部拡大縦断面図である。第３図
は、一般的な被露光板の全体構成を示す平面図で
ある。第４図は、本発明装置の両枠板に対する被
露光板の組付け前における、両枠板と被露光板と
の相対位置関係を示す要部縦断面図である。第５
図は、本発明装置の両枠板に対して被露光板を組
付けた状態における、両枠板と被露光板との相対
位置関係を示す要部縦断面図である。第６図は、
本発明装置における、基準孔に対する位置合わせ
ピンの密嵌合状態を示す要部拡大縦断面図であ
る。 符号の説明、１；被露光板、２；基準孔、３；
トランスフアー停止用基準穴、４；銅メツキ、
５；感光層、６；枠板、７；位置合わせピン、
８；逃げ穴、９；マスク。
Claims (1)
- １ 中央両側縁に対となつた２つの基準孔を有
し、該基準孔を含めた表面全域に銅メツキを施
し、両面に感光層を被覆成形した一枚の被露光板
の露光用マスク合わせ装置であつて、前記被覆光
板を間に重ねて組付ける透明板体を主体としてマ
スクを定位置に貼着固定した二枚の枠板で構成さ
れ、前記被露光板の基準孔に対向する前記枠板の
中央両側縁部に、一方の基準孔に浅く密嵌合する
位置合わせピンを立設すると共に他方の基準孔に
対向する逃げ孔を穿設し、前記両枠板に被露光板
を取付けた際に、一方の枠板の位置合わせピンが
密嵌合した基準孔に対し他方の枠板の逃げ孔が対
向位置する関係に設定して成る基板露光用マスク
合わせ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57101620A JPS58217936A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 被露光板と枠板との組合せ |
| US06/503,538 US4525061A (en) | 1982-06-14 | 1983-06-13 | Combination of a plate for exposure and frame plates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57101620A JPS58217936A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 被露光板と枠板との組合せ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58217936A JPS58217936A (ja) | 1983-12-19 |
| JPH0379703B2 true JPH0379703B2 (ja) | 1991-12-19 |
Family
ID=14305439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57101620A Granted JPS58217936A (ja) | 1982-06-14 | 1982-06-14 | 被露光板と枠板との組合せ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4525061A (ja) |
| JP (1) | JPS58217936A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4827316A (en) * | 1988-03-08 | 1989-05-02 | Silas Brown | Printing frame |
| US5337151A (en) * | 1992-07-28 | 1994-08-09 | Optical Radiation Corporation | Double-sided circuit board exposure machine and method with optical registration and material variation compensation |
| US5487885A (en) * | 1992-12-21 | 1996-01-30 | Biophysica, Inc. | Sunblocking polymers and their formulation |
| US6123928A (en) * | 1992-12-21 | 2000-09-26 | Biophysica, Inc. | Sunblocking polymers and their novel formulations |
| US5627378A (en) * | 1996-02-28 | 1997-05-06 | Orc Electronic Products, A Divison Of Benson Eyecare Corporation | Die set for automatic UV exposure system |
| US6621553B2 (en) | 2001-03-30 | 2003-09-16 | Perkinelmer, Inc. | Apparatus and method for exposing substrates |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3170368A (en) * | 1957-01-04 | 1965-02-23 | Homer W Barnhart | Mechanical registration of process color |
| US3635558A (en) * | 1969-11-13 | 1972-01-18 | Chartmakers Inc The | Slide production process and apparatus |
| JPS5091316A (ja) * | 1973-12-11 | 1975-07-22 | ||
| DE2653707C3 (de) * | 1976-11-26 | 1981-08-27 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Vorrichtung zum genauen visuell- manuellen Einrichten und zum Halten eines plattenförmigen Werkstücks mit lichtempfindlicher Schicht gegenüber einer oder zwei Vorlagen |
-
1982
- 1982-06-14 JP JP57101620A patent/JPS58217936A/ja active Granted
-
1983
- 1983-06-13 US US06/503,538 patent/US4525061A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58217936A (ja) | 1983-12-19 |
| US4525061A (en) | 1985-06-25 |
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