JPH0379749A - 耐食性コーティング層の形成方法 - Google Patents

耐食性コーティング層の形成方法

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JPH0379749A
JPH0379749A JP21294189A JP21294189A JPH0379749A JP H0379749 A JPH0379749 A JP H0379749A JP 21294189 A JP21294189 A JP 21294189A JP 21294189 A JP21294189 A JP 21294189A JP H0379749 A JPH0379749 A JP H0379749A
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JP
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coating layer
plasma spraying
corrosion
base material
porosity
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JP21294189A
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Yoshiyasu Ito
義康 伊藤
Yutaka Ishiwatari
裕 石渡
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は溶融活性金属に対する耐食性及び耐熱性を有す
るコーティング層の形成方法に関する。
〔従来の技術) 一般に高温物質と接して設けられる耐熱性部材は、特に
高温物質の化学的活性が強く耐熱性部材と反応するおそ
れが強いときには、耐熱部材の基材の高温物質と相対す
る側に高温物質と反応し難い物質からなるコーティング
層を設けることが行なわれる。基材の材料は、たとえば
溶融点の高いTa、Nb、W、Mo等の金属あるいは、
それらを主成分とする合金であり、コーティング層は、
たとえば酸化ジルコニウム、酸化イツトリウム等のセラ
ミック材料を大気プラズマ溶射あるいは減圧プラズマ溶
射等によって基材上に施したものが用いられる。ここに
おいて、例えば、活性金属(ウラン、チタン等)を加熱
溶解して蒸発させると、この金属蒸気が外に漏れない様
に封じ込めるための封入容器、さらに蒸発させ金属を回
収する回収板などが高温の活性金属蒸気にさらされるた
め、構成材料には、上記した様な耐熱、耐食用のコーテ
ィングが施されている。更に、この様なセラミックスコ
ーティング層が設けられた部材では、基材とセラミック
スとの熱膨張係数差によって生じる熱応力によってセラ
ミックス層がはく離する恐れがある。そこでこれを防止
するために、セラミックスのコーティング層と基材との
間に、両者の中間的熱膨張係数を有する高融点金属また
はセラミックスの下地コーティング層を設けることが一
般に行われている。
一例として、第3図に示す様な構造の耐食コーティング
被膜が挙げられる。この被膜は、グラファイトによって
形成された板材1の片面に、Nbの下地コーティング層
2を施し、更にその上に酸化イツトリウムのセラミック
スコーティング層3が設けられたものである。この耐食
面側にはチタン蒸気が付着し、液相となって流れ、一方
、この基材自体はチタンが液相で流れる様に1600℃
に加熱されている。
従来、このような下地コーティング層2およびセラミッ
クス層3は、大気中プラズマ溶射法によって厚さ0.1
〜5.0nm程度に形成され、それらのコーティング層
2および3は、第3図(a)に示されるように1通常、
その内部に気孔率で5〜20%程度の気孔を有している
(発明が解決しようとする課題) 上記の様な構成のセラミックスコーティング層被膜でチ
タン蒸気が付着すると、基材との間で、温度差は700
〜1200℃となる。その際、耐食層のセラミックスコ
ーティング層材Y2O1の熱伝導率は、基材lのグラフ
ァイトに比べ著しく小さいため、この温度差のほとんど
は耐食コーティング層3において生ずることとなる。る
つぼの厚さ方向の温度分布の一例は第3図(b)に示す
通りである。
したがって、この温度差による熱応力が発生し、この熱
応力はコーティング層3の剥離もしくは破損を招く虞れ
がある。即ち、このような従来のるつぼにおいては、基
材1と下地コーティング層2、および下地コーティング
層2と耐食コーティング層3は、それぞれ化学反応を伴
わず単に機械的に結合しているのみであり、その密着性
が比較的低いからである。
更に、上記コーティング層2および3は、気孔率で57
20%の空孔を有していることから、 Ti溶1l15
が気孔6内に浸透し、下地コーティング層2や基材lと
接触して溶融し、場合により反応して、耐食コーティン
グM3を剥離させるとともに基材1を浸蝕する虞れがあ
った。
本発明の目的は、上記課題を解決することであり、溶融
活性金属に対する耐食性および耐熱性を著しく向上させ
たコーティング層の形成方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するため本発明は、基材表面にアルゴン
雰囲気中で減圧プラズマ溶射法により気孔率2%以下の
緻密な下地コーティング層を施した後に、大気性プラズ
マ溶射により気孔率3〜】0%のポーラスな耐食性コー
ティング表面層を設ける。
また、下地コーティング層の形成を薄板の拡散接合又は
爆着接合によって行なう。
(作 用) 基材1の内表面に高融点金属の下地コーティング層2 
をArガス雰囲気中で減圧プラズマ溶射法によって形成
する結果、コーティング層の密着強度が高くなる。大気
中プラズマ溶射法であると、存在する酸素によって基材
の表面にコーティング層の密着強度を低下させる酸化被
膜を形成してしまうが、 Arn囲気中でプラズマ溶射
を行うと、この様な酸化被膜の形成を防止できるととも
に、溶射被膜中への酸化物等の巻き込みも防止できる。
また、 Ar雰囲気中であると、大気中プラズマ溶射法
によった場合のように、酸素および窒素を吸収して高融
点金属が脆化することもない。さらにまた減圧下である
と、プラズマを長い距離形成でき、溶射材料を溶融、加
速しやすいため、形成された被膜の気孔形成を押えるこ
とができ、低い気孔率を有した下地コーティング層を形
成することが可能である。
また、この下地コーティング層の形成の前に、基材lの
表面をスパッタリング・クリーニングして、表面を清浄
化して酸化被膜形成の影響低く押さえることも出来る。
本発明においては、その下地コーティング層の気孔率が
2%以下となり、溶融金属の基材への浸透を有効に防止
することができる。さらに被膜の密着強度の飛躍的な向
上、ならびにTa、Nbなと比較的延性のある材料の場
合には、脆化、硬化が生じないことから、熱応力緩和を
有効に行うことが可能となり耐熱サイクル特性の向上な
どが可能となる。
同様の作用は、下地コーティング層として薄板を基材表
面に拡散接合、あるいは爆着接合することによっても得
ることができる。
また、最外面の耐食セラミックスコーティング層につい
ては、大気中プラズマ溶射を施すことで気孔率3〜10
%の被膜を得ることが出来、溶融金属の浸透防止に関し
ては十分な防止効果を示すとともに、熱サイクルに対し
ても優良な耐性を有する被膜を得ることができる。
また、これらの耐食コーティングは、比較的板厚の薄い
板材表面に適用する場合高温使用状態、あるいはコーテ
ィング施工終了時に、線膨張係数差によって生じる熱応
力のために、大きな変形を生じることがある。この様な
場合には、熱応力をバランスさせるため、耐食性を要求
されるのが片面側のみであっても基材両面に耐食コーテ
ィングを施すことが有効である。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。第
1図は耐食性コーティング層を設けた板材の基本的構成
を示す断面図である。工は基材。
2は下地コーティング層、3は耐食コーティング層、4
は加熱面、5は溶融金属、6は気孔である。
本発明の基材は、W、Ta、Mo+ Nb、Re、Hg
およびこれらを主成分とする合金から選択された少なく
とも1種類からなることが好ましい。
下地コーティング層2は基材1と耐食セラミックスコー
ティング層3との中間的熱膨張係数を有する高融点金属
から成るのが好ましく、具体的には、W、Ta、Nb、
Re、Hfおよびこれらを主成分とする合金から選択さ
れた1種から成るものであることが好ましい。但し、中
間的な熱膨張係数を有する材料がない場合に、それらを
複数枚積層することで等価な熱膨張係数が中間的な値を
示す様に調整したものも使用することができるゆこの下
地コーティングM2は、 Ar$@気中の減圧プラズマ
溶射法によって行われる。この減圧プラズマ溶射法につ
いては、総説もしくは成書を参照すれば良く、例えばu
本溶射協会編「活射ハンドブック」等が挙げられる。
この際の溶射条件などは、本発明の効果が得られる範囲
であれば特に限定されないが、例えば減圧とは、50m
bar〜200+mbar程度が好ましい。
気孔率2%以下の緻密化された下地コーティング層2は
、例えば上記したような方法によって実現できる。
本実施例においては、この下地コーティング層2の形成
に先立って、基材1の少なくとも内表面をスパッタリン
グ・クリーニングすることが有効である。即ち、酸化さ
れ易い高融点金属よりなる基材1表面には層間密着性を
低下させる酸化被膜が形成されている可能性がある。そ
こでこの酸化被膜をスパッタリング・クリーニングによ
って除けば、更に層間密着性を向上させる事が可能とな
るからである。
その後、下地コーティング層2の上に更に耐食コーティ
ング層3を設ける。この耐食コーティング層3はセラミ
ックスから成るものであり、具体的には溶融金属に対し
て反応開始温度が出来るだけ高いものが良く、例えばY
□O,、The、。
UO,t HfO2,Sc、O,、Ho2O3、Tm、
 03゜E r203 p L u203およびこれら
を主成分とする複酸化物から選択される少なくとも1種
からなるものが好ましい。
この耐食コーティングM3の形成は、従来と同様に大気
中でのプラズマ溶射法によるのが好ましい、それでは、
酸化物としてのセラミックスは、減圧プラズマ溶射によ
って脱酸素し安定なセラミックス被膜を形成せず、緻密
な被膜は繰り返しの加熱に対する耐性に劣る場合がある
からである。
以下に上記実施例に基づく実験結果について説明する。
Taから成る薄板基材(厚さ1mm)の板両面にNbか
らなる下地コーティング層2を減圧プラズマ溶射で、お
よびY、Oaから成る耐食コーティング層3を大気プラ
ズマ溶射により施工した。このコーティング層2および
3の形成は第1表に示す様な溶射法によった。
以下余白 第 表 具体的な電流、電圧、溶射距離等の条件は、適宜選択し
て決定した。例えば、実施例1および比較例2における
 Ta層2の減圧プラズマ溶射法による形成は150m
barのArガス雰囲気中で、電流750A、電圧63
Vおよび溶射距離270mmの条件下で、また実施例1
および比較例1におけるY2O3層3の形成は大気中で
、電流750A、電圧49Vおよび溶射距離120冊の
条件下で行った。溶射膜厚は、 Taの場合100μl
l1lY203の場合100 pmとした。
これらの実施例1と比較例1および2の気孔率の測定結
果、およびASTM C633−69に従って実施した
被膜の密着強度測定結果は第1表に示す通りである。
下地コーティング層2としてのTa層、耐食コーティン
グ層3としてのY、O,層は、ともに減圧プラズマ溶射
法で形成することにより緻密化することがわかる。すな
わちTa層では大気中プラズマ溶射法にかえて減圧プラ
ズマ溶射法によれば、気孔率は、8.9%から0.9〜
0.8%まで低減された。
さらに密着強度については、下地コーティングを減圧プ
ラズマ溶射することで125kgf/aJから222〜
298 kg f / aIまで向上している。
さらにこれらの耐食コーテイング材について。
室温−1500K−室温、の熱サイクル試験を行った。
試験結果は、第2表に示される通りである。ここで減圧
プラズマ溶射法によって形成されたY2O。
層は、大気中プラズマ溶射法によったものに比較して、
繰り返し加熱に対する耐性に劣ることがわかる。
第 表 また、第2図には、実施例1.比較例1および2の各被
膜上において、 ウランを1700℃、lhr溶融する
ことによって耐溶融金属とのぬれ性2反応性を試験した
結果を示す。減圧プラズマ溶射を中間層に用いた場合に
は、実験終了後凝固したウランは、耐食コーティング被
膜とくつつかずに容易に除去できた。しかしながら、中
間層を大気プラズマ溶射した場合には、ウランは被膜と
強固に付着し、中間層内にウランが浸透し、基材とも反
応が見られた。
以上の様にして被膜の密着強度、熱サイクル特性、耐食
性に優れたコーティング被膜として、実施例1が選ばれ
た。
他の実施例として、 薄板のTaの拡散接合によリNb
基材表面に接合(真空度10−’torr、加熱温度1
200℃り加圧力100100O/Ci) L、、表面
層を大気プラズマ溶射することによっても、vB着強度
456kgf/dが得られ、耐食性、熱サイクル特性と
もに、中間層を減圧プラズマ溶射した場合と同等である
ことが確認された。
また、同様に中間層を爆着接合により接合することによ
っても同様の効果を得ることが可能である。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、長時間かつ繰り返し
溶融金属が付着、あるいは流れる場合の耐久性を向上で
きる耐食性コーティング層の形成方法を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る耐食性コーティング層を設けた片
面加熱の基材の断面図、第2図は本発明の実施例と比較
例の溶融金属耐食性に関する試験結果の説明図、第3図
は従来方法によるコーティング層を設けた片面加熱の基
材の断面図を示す。 1・・・基材、 2・・・下地コーティング 3・・・耐食コーティング。 4・・・加熱面 ・・溶融金属、 6・・・気孔

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.基材表面にアルゴン雰囲気中での減圧プラズマ溶射
    にてきわめて緻密(気孔率2%以下)な下地コーティン
    グ層を施した後、大気性プラズマ溶射にてポーラス(気
    孔率3ないし10%)な耐食コーティング表面層を設け
    ることを特徴とする耐食性コーティング層の形成方法。
  2. 2.基材表面に薄板の拡散接合にて気孔率2%以下の緻
    密な下地コーティング層を施した後、大気性プラズマ溶
    射にて気孔率3ないし10%のポーラスな耐食コーティ
    ング表面層を設けることを特徴とする耐食性コーティン
    グ層の形成方法。
  3. 3.基材表面に薄板の爆着接合にて気孔率2%以下の緻
    密な下地コーティング層を施した後、大気性プラズマ溶
    射にて気孔率3ないし10%のポーラスな耐食コーティ
    ング表面層を設けることを特徴とする耐食性コーティン
    グ層の形成方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08147532A (ja) * 1994-08-25 1996-06-07 Oki Electric Ind Co Ltd 現金入出金機の残高通知システム
WO2002103075A1 (en) * 2001-06-13 2002-12-27 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Method for repairing ni base alloy component
JP2007119924A (ja) * 2006-11-30 2007-05-17 Tocalo Co Ltd プラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材およびその製造方法
JP2007126752A (ja) * 2006-12-08 2007-05-24 Tocalo Co Ltd プラズマ処理容器内部材およびその製造方法
JP4890734B2 (ja) * 2000-12-29 2012-03-07 ラム リサーチ コーポレーション 低汚染プラズマチャンバ構成部品とその製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08147532A (ja) * 1994-08-25 1996-06-07 Oki Electric Ind Co Ltd 現金入出金機の残高通知システム
JP4890734B2 (ja) * 2000-12-29 2012-03-07 ラム リサーチ コーポレーション 低汚染プラズマチャンバ構成部品とその製造方法
JP2012054590A (ja) * 2000-12-29 2012-03-15 Lam Res Corp 低汚染プラズマチャンバ構成部品とその製造方法
WO2002103075A1 (en) * 2001-06-13 2002-12-27 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Method for repairing ni base alloy component
US7172787B2 (en) 2001-06-13 2007-02-06 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Method of repairing a Ni-base alloy part
JP2007119924A (ja) * 2006-11-30 2007-05-17 Tocalo Co Ltd プラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材およびその製造方法
JP2007126752A (ja) * 2006-12-08 2007-05-24 Tocalo Co Ltd プラズマ処理容器内部材およびその製造方法

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