JPH0382552U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0382552U JPH0382552U JP14382689U JP14382689U JPH0382552U JP H0382552 U JPH0382552 U JP H0382552U JP 14382689 U JP14382689 U JP 14382689U JP 14382689 U JP14382689 U JP 14382689U JP H0382552 U JPH0382552 U JP H0382552U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- gate valve
- mask
- sample
- irradiated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 210000002159 anterior chamber Anatomy 0.000 description 1
Description
第１図はこの考案の実施例を示し、一部を断面
とする正面図、第２図はマスクの部分を示す分解
斜視図、第３図は従来例の正面図である。 １……チエンバー、２……試料、６……ゲート
バルブ、７……前方室、８……マスク、１７……
収納部、２０……マスク窓。
とする正面図、第２図はマスクの部分を示す分解
斜視図、第３図は従来例の正面図である。 １……チエンバー、２……試料、６……ゲート
バルブ、７……前方室、８……マスク、１７……
収納部、２０……マスク窓。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 内部にイオンビーム照射対象の試料を配置して
なるチエンバーと、前記チエンバーに前方室を介
して連結されてあるゲートバルブとを具備し、前
記ゲートバルブより前方室を経て前記試料にイオ
ンビームを照射するようにしてなるイオン注入装
置において、 前記チエンバーとゲートバルブとの間の前方室
に、前記試料に前記イオンビームを照射する領域
を規制するマスクを着脱自在に設置するとともに
、前記マスクを中空とし、その内部に連通する冷
却管を取り付けてなる、 イオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989143826U JPH0735295Y2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989143826U JPH0735295Y2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0382552U true JPH0382552U (ja) | 1991-08-22 |
| JPH0735295Y2 JPH0735295Y2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=31690579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989143826U Expired - Fee Related JPH0735295Y2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735295Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009519747A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-21 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | サーマルインサートを採用した治療キット |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4926151A (ja) * | 1972-07-04 | 1974-03-08 | ||
| JPS57152653A (en) * | 1981-03-17 | 1982-09-21 | Ulvac Corp | Wafer processing equipment for ion implanting device |
| JPS63200452A (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-18 | Nec Corp | 線状電子ビ−ム装置 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP1989143826U patent/JPH0735295Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4926151A (ja) * | 1972-07-04 | 1974-03-08 | ||
| JPS57152653A (en) * | 1981-03-17 | 1982-09-21 | Ulvac Corp | Wafer processing equipment for ion implanting device |
| JPS63200452A (ja) * | 1987-02-16 | 1988-08-18 | Nec Corp | 線状電子ビ−ム装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009519747A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-21 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | サーマルインサートを採用した治療キット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0735295Y2 (ja) | 1995-08-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |