JPH0388747A - 金属被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents
金属被覆光ファイバの製造方法Info
- Publication number
- JPH0388747A JPH0388747A JP1221832A JP22183289A JPH0388747A JP H0388747 A JPH0388747 A JP H0388747A JP 1221832 A JP1221832 A JP 1221832A JP 22183289 A JP22183289 A JP 22183289A JP H0388747 A JPH0388747 A JP H0388747A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- metal
- carbon
- coating
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/44—Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1062—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1063—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1653—Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/343—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one DLC or an amorphous carbon based layer, the layer being doped or not
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
- C23C18/1872—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
- C23C18/1886—Multistep pretreatment
- C23C18/1893—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
- Y10S65/16—Optical filament or fiber treatment with fluorine or incorporating fluorine in final product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属被覆光ファイバの製造方法に関するもの
である。
である。
例えば原子カプラントや化学プラント等において、高温
になる箇所に光ファイバを布設して情報伝送を行う場合
、光ファイバとしては通常の石英ガラス光ファイバの上
に金属被膜を形成して耐熱性を向上させたものを使用す
ることが多い。
になる箇所に光ファイバを布設して情報伝送を行う場合
、光ファイバとしては通常の石英ガラス光ファイバの上
に金属被膜を形成して耐熱性を向上させたものを使用す
ることが多い。
また光ファイバの強度を向上させる目的で金属被膜を設
ける場合もある。
ける場合もある。
この種の金属被覆光ファイバとしては、光フアイバ上に
例えばアルミニウムからなる金属被膜を設けたものが公
知である(昭和59年電子通信学会総合全国大会論文集
4−207頁)、このアルミニウム被覆光ファイバは、
線引後の光ファーfバを溶融アルミニウム浴槽内に通し
てアルミニウム被膜を形成する、いわゆるディッピング
法により製造されるゆ しかしディッピング法では、光フアイバ表面に付着した
溶融アルミニウムが冷却されて固化する際に、石英ガラ
ス製の光ファイバの線膨張係数が0.4X10−”/’
Cであるのに対し、アルミニウムのそれは29XIO−
’/’Cと、光ファイバの約70倍にもなっているため
、アルミニウム被膜が収縮して内部の光ファイバがマイ
クロヘンドを起こし、初期の伝送損失が増加するという
問題がある。この問題はアルミニウム被覆光ファイバに
限らず、ディッピング法で製造される金属被覆光ファイ
バ一般にいえることである。
例えばアルミニウムからなる金属被膜を設けたものが公
知である(昭和59年電子通信学会総合全国大会論文集
4−207頁)、このアルミニウム被覆光ファイバは、
線引後の光ファーfバを溶融アルミニウム浴槽内に通し
てアルミニウム被膜を形成する、いわゆるディッピング
法により製造されるゆ しかしディッピング法では、光フアイバ表面に付着した
溶融アルミニウムが冷却されて固化する際に、石英ガラ
ス製の光ファイバの線膨張係数が0.4X10−”/’
Cであるのに対し、アルミニウムのそれは29XIO−
’/’Cと、光ファイバの約70倍にもなっているため
、アルミニウム被膜が収縮して内部の光ファイバがマイ
クロヘンドを起こし、初期の伝送損失が増加するという
問題がある。この問題はアルミニウム被覆光ファイバに
限らず、ディッピング法で製造される金属被覆光ファイ
バ一般にいえることである。
またディッピング法によらない方法としては、光フアイ
バ上に無電解メッキ法により金属被膜を形成して金属被
覆光ファイバを製造することも公知である (特開昭5
1−54445号公報)。
バ上に無電解メッキ法により金属被膜を形成して金属被
覆光ファイバを製造することも公知である (特開昭5
1−54445号公報)。
しかしながら無電解メッキによる方法は金属被膜の形成
速度が遅いため、必要な厚さの金属被膜を形成するには
光ファイバとメッキ液を長時間接触させる必要があり、
この間に光ファイバが水素や水分を吸収してしまい、光
ファイバの伝送損失が増加するという欠点がある。
速度が遅いため、必要な厚さの金属被膜を形成するには
光ファイバとメッキ液を長時間接触させる必要があり、
この間に光ファイバが水素や水分を吸収してしまい、光
ファイバの伝送損失が増加するという欠点がある。
本発明は、上記のような課題を解決した金属被覆光ファ
イバの製造方法を提供するもので、その方法は、光フア
イバ上にカーボン被膜を設けたカーボン被覆光ファイバ
上に、無電解メッキ法により金属被膜を形成することを
特徴とするものである。
イバの製造方法を提供するもので、その方法は、光フア
イバ上にカーボン被膜を設けたカーボン被覆光ファイバ
上に、無電解メッキ法により金属被膜を形成することを
特徴とするものである。
最近、線引直後の光ファイバにアモルファスカーボン等
のカーボン被膜を形成することが検討されているが、カ
ーボン被膜は緻密で水素や水分を通し難いため、これを
光フアイバ上に設けた上で興電解メッキを施すと、光フ
ァイバとメッキ液が長時間接触しても光ファイバへの水
素や水分の侵入を防止できる。この場合のカーボン被膜
の厚さは300〜千数百人程度である。もちろん高温に
加熱しないためディッピング法のような金属被膜の収縮
による初期ロスの増加もない。
のカーボン被膜を形成することが検討されているが、カ
ーボン被膜は緻密で水素や水分を通し難いため、これを
光フアイバ上に設けた上で興電解メッキを施すと、光フ
ァイバとメッキ液が長時間接触しても光ファイバへの水
素や水分の侵入を防止できる。この場合のカーボン被膜
の厚さは300〜千数百人程度である。もちろん高温に
加熱しないためディッピング法のような金属被膜の収縮
による初期ロスの増加もない。
なお無電解メッキ法のみでは必要な厚さの金属被膜を形
成するのに時間がかかるので、無電解メッキ法により金
属被膜を形成して光フアイバ表面の導電性を向上させた
上で、さらに電解メッキ法により金属被膜を形成するよ
うにすると、効率よく金属被覆光ファイバを製造するこ
とができる。
成するのに時間がかかるので、無電解メッキ法により金
属被膜を形成して光フアイバ表面の導電性を向上させた
上で、さらに電解メッキ法により金属被膜を形成するよ
うにすると、効率よく金属被覆光ファイバを製造するこ
とができる。
以下、本発明の実施例を詳述する。
まず図−1に示すように、光フアイバ母材(本実施例で
はシングルモード用を使用) Lを通常の方法により線
引炉2に導入し5て、例えば線引張力20g、線速30
0m/分で線引し、コアとクラッドからなる光ファイバ
3を製造する。続いて線引直後の光ファイバ3を反応炉
4に導入して、その表面に厚さ約500人のアモルファ
スカーボン被膜を形成し、外径125μ−のカーボン被
覆光ファイバ5を製造した。形成されたカーボン被膜の
電気抵抗はIOKΩ/C−であった。
はシングルモード用を使用) Lを通常の方法により線
引炉2に導入し5て、例えば線引張力20g、線速30
0m/分で線引し、コアとクラッドからなる光ファイバ
3を製造する。続いて線引直後の光ファイバ3を反応炉
4に導入して、その表面に厚さ約500人のアモルファ
スカーボン被膜を形成し、外径125μ−のカーボン被
覆光ファイバ5を製造した。形成されたカーボン被膜の
電気抵抗はIOKΩ/C−であった。
なお光フアイバ3上にカーボン被膜を形成するには、前
記反応炉4内にヘリウム等の不活性ガスと共に炭化水素
ガス(例えばCオHz)を流し、これを反応炉4内で数
百℃に加熱することにより形成することができる。もち
ろんこれ以外の方法で形成しても差し支えない。
記反応炉4内にヘリウム等の不活性ガスと共に炭化水素
ガス(例えばCオHz)を流し、これを反応炉4内で数
百℃に加熱することにより形成することができる。もち
ろんこれ以外の方法で形成しても差し支えない。
アモルファスカーボン被膜はきわめて緻密であり一手で
しごいても全く剥離するようなことがなく、これを設け
ると光ファイバの表面に傷がつくことがないので、その
ままボビンに巻き取ることができる。
しごいても全く剥離するようなことがなく、これを設け
ると光ファイバの表面に傷がつくことがないので、その
ままボビンに巻き取ることができる。
以上のようにして得られたカーボン被覆光ファイバに、
次のようにして金属被膜を形成した。
次のようにして金属被膜を形成した。
実施例1
■クリーニング:カーボン被覆光ファイバをクリーニン
グ剤Z−200(ワールドメタル■製、以下の処理剤は
すべて同社製)を200s 1 / 12含む水溶液に
50℃で2分間浸漬。
グ剤Z−200(ワールドメタル■製、以下の処理剤は
すべて同社製)を200s 1 / 12含む水溶液に
50℃で2分間浸漬。
■水洗
■エツチング:36%1(CI 200m A / +
2に添加剤MC−Eを200m j! / it加えた
水溶液に常温で30秒間浸漬。
2に添加剤MC−Eを200m j! / it加えた
水溶液に常温で30秒間浸漬。
■水洗
■活性化−■:活性化剤MC−3を200111わ9含
む水溶液に50℃で2分間浸漬。
む水溶液に50℃で2分間浸漬。
■水洗
■活性化−■:活性化剤MC−Aを200m A /
1含む水溶液に50℃で2分間浸漬。
1含む水溶液に50℃で2分間浸漬。
■水洗
■N1メフキ:N1−Pメッキ濃厚液MN−8を200
m j! / eに希釈したN1−P無電解メッキ液に
90℃で5時間浸漬。
m j! / eに希釈したN1−P無電解メッキ液に
90℃で5時間浸漬。
[相]水洗
■湯洗
■乾燥
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上に厚さ約110
0jJのNi被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
0jJのNi被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
実施例2
実施例1の■〜■の工程後、次の工程を実施。
■Ni メンキ:N1−Pメッキ濃厚液MS−Bを20
0m l / lに希釈したN1−P無電解メッキ液に
90℃で30分間浸漬。
0m l / lに希釈したN1−P無電解メッキ液に
90℃で30分間浸漬。
[株]水洗
■Cuメッキ:MC1,>H浴(銅無電解メ・ツキ浴で
、銅イオン補給剤M CU −A Hを125m It
/ e、還元剤→−錯化剤MCU−BHを125慣l
/7!含む水溶液)に70℃で2時間浸漬。
、銅イオン補給剤M CU −A Hを125m It
/ e、還元剤→−錯化剤MCU−BHを125慣l
/7!含む水溶液)に70℃で2時間浸漬。
■水洗
0湯洗
[相]乾燥
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上に厚さ約10μ
暮のNi被膜と、厚さ約10μ−のCu被膜を有する金
属被覆光ファイバを製造した。
暮のNi被膜と、厚さ約10μ−のCu被膜を有する金
属被覆光ファイバを製造した。
実施例3
実施例1の■〜■の工程後、実施例2のの)の工程を施
し、水洗後、さらに光沢硫酸銅メッキ(電解メッキ)に
より厚さ約100μmのCuを被覆し、水洗−場洗一乾
燥した。
し、水洗後、さらに光沢硫酸銅メッキ(電解メッキ)に
より厚さ約100μmのCuを被覆し、水洗−場洗一乾
燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にCu被膜を有
する金属被覆光ファイバを製造した。
する金属被覆光ファイバを製造した。
実施例4
実施例2の@の工程の後、青化浴銀メッキ(電解メッキ
)により厚さ約50μ−のAgを被覆し、水洗−場洗一
乾燥した。
)により厚さ約50μ−のAgを被覆し、水洗−場洗一
乾燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にNi被膜とA
g被膜を有する金属被覆光ファイバを製造した。
g被膜を有する金属被覆光ファイバを製造した。
実施例5
実施例3の光沢硫酸銅メッキにより厚さ約jOμmのC
uを被覆した後、水洗し、さらに青化浴金メッキ(電解
メッキ)により厚さ約2μmのAuを被覆し、水洗−場
洗一乾燥した。
uを被覆した後、水洗し、さらに青化浴金メッキ(電解
メッキ)により厚さ約2μmのAuを被覆し、水洗−場
洗一乾燥した。
以上の工程でカーボン被覆光ファイバ上にNi被膜とC
u被膜とAu被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
u被膜とAu被膜を有する金属被覆光ファイバを製造し
た。
比較例1
カーボン被覆光ファイバのまま(カーボン被膜の厚さ5
00人) 比較例2 カーボン被覆光ファイバで、カーボン被膜の厚さを6μ
mにしたもの。
00人) 比較例2 カーボン被覆光ファイバで、カーボン被膜の厚さを6μ
mにしたもの。
以上のようにして得られた各試料につき初期の伝送損失
をカットバック法にて測定した結果は次のとおりである
。
をカットバック法にて測定した結果は次のとおりである
。
表−1
なお比較例1・2の伝送損失は、プラスチックコーティ
ング標準光ファイバの伝送損失と同しであった。
ング標準光ファイバの伝送損失と同しであった。
このように本発明の製造方法で得られた金属被覆光ファ
イバは、無電解メッキ工程を経ているにも関わらず、伝
送損失がほとんど劣化しないことが明らかである。
イバは、無電解メッキ工程を経ているにも関わらず、伝
送損失がほとんど劣化しないことが明らかである。
次に各試料につき、直径5n+nの曲げ試験と、空気中
での耐熱試験(700℃×24時間)を行った。その結
果を表−2に示す。
での耐熱試験(700℃×24時間)を行った。その結
果を表−2に示す。
表−2
このように本発明の製造方法で得られる金属被覆光ファ
イバは、耐屈曲性、it熱性にも優れている。
イバは、耐屈曲性、it熱性にも優れている。
以上説明したように本発明によれば、光ファイバとにカ
ーボン被膜を設けた上で、@電解メノキ法により金属被
膜を形成するようにしたので、無電解メッキの際に、光
ファイバへの水素や水分の侵入がカーボン被膜によって
阻止され、伝送特性の安定した金属被覆光ファイバを製
造することができる。また高温に加熱しないためディッ
ピング法のような金属被膜の収縮による初期ロスの増加
も回避できる。また無電解メッキ法で形成した金属被膜
を利用して電解メッキ法によりさらに金属被膜を形成す
れば、効率よく必要な厚さの金属被膜を形成できる利点
がある。
ーボン被膜を設けた上で、@電解メノキ法により金属被
膜を形成するようにしたので、無電解メッキの際に、光
ファイバへの水素や水分の侵入がカーボン被膜によって
阻止され、伝送特性の安定した金属被覆光ファイバを製
造することができる。また高温に加熱しないためディッ
ピング法のような金属被膜の収縮による初期ロスの増加
も回避できる。また無電解メッキ法で形成した金属被膜
を利用して電解メッキ法によりさらに金属被膜を形成す
れば、効率よく必要な厚さの金属被膜を形成できる利点
がある。
図−1はカーボン被覆光ファイバの製造方法を示す説明
図である。 1;光フアイバ母材、3:光ファイバ、5:カーボン被
覆光ファイバ。 図− 光フアイバ母材 \
図である。 1;光フアイバ母材、3:光ファイバ、5:カーボン被
覆光ファイバ。 図− 光フアイバ母材 \
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光ファイバ上にカーボン被膜を設けたカーボン被覆
光ファイバ上に、無電解メッキ法により金属被膜を形成
することを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。 2、請求項1の製造方法で得られた金属被覆光ファイバ
上に、さらに電解メッキ法により金属被膜を形成するこ
とを特徴とする金属被覆光ファイバの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1221832A JP2567951B2 (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
| US07/572,563 US5093880A (en) | 1989-08-30 | 1990-08-27 | Optical fiber cable coated with conductive metal coating and process therefor |
| CA002024266A CA2024266C (en) | 1989-08-30 | 1990-08-29 | Optical fiber cable coated with conductive metal coating and process therefor |
| KR1019900013550A KR930001534B1 (ko) | 1989-08-30 | 1990-08-30 | 도전성 금속피복을 보유하는 광섬유케이블과 그 제조방법 |
| EP90116675A EP0419882B1 (en) | 1989-08-30 | 1990-08-30 | Optical fiber cable coated with conductive metal coating and process therefor |
| DE69008981T DE69008981T2 (de) | 1989-08-30 | 1990-08-30 | Optische Faser beschichtet mit elektrisch leitenden Metallschichten und Herstellverfahren dafür. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1221832A JP2567951B2 (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0388747A true JPH0388747A (ja) | 1991-04-15 |
| JP2567951B2 JP2567951B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=16772893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1221832A Expired - Fee Related JP2567951B2 (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 金属被覆光ファイバの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5093880A (ja) |
| EP (1) | EP0419882B1 (ja) |
| JP (1) | JP2567951B2 (ja) |
| KR (1) | KR930001534B1 (ja) |
| CA (1) | CA2024266C (ja) |
| DE (1) | DE69008981T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
| JP2017534752A (ja) * | 2014-09-17 | 2017-11-24 | エーエフエル・テレコミュニケーションズ・エルエルシー | 金属コート光学ファイバーの製造のための方法及び装置並びに結果的に生じる光学ファイバー |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663754B1 (fr) * | 1990-06-26 | 1992-09-11 | Alsthom Cge Alcatel | Procede de fabrication d'une fibre optique destinee notamment a la reflectometrie temporelle et fibre optique obtenue par ce procede. |
| US5436167A (en) * | 1993-04-13 | 1995-07-25 | Board Of Regents, University Of Texas System | Fiber optics gas sensor |
| US5381505A (en) * | 1993-08-09 | 1995-01-10 | Uop | Optical fibers with a light absorbing coating |
| US5415730A (en) * | 1993-12-14 | 1995-05-16 | At&T Corp. | Metal coated optical fiber techniques |
| JP3258520B2 (ja) * | 1994-12-12 | 2002-02-18 | 松下電器産業株式会社 | 光ファイバセンサ及びその製造方法 |
| JPH08179140A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Kyowa Densen Kk | 光の出射角度を変更する光ファイバ心線の製造方法 |
| NO306032B1 (no) * | 1997-04-21 | 1999-09-06 | Optoplan As | Signalkabel for transmisjon av optiske signaler |
| US6122424A (en) * | 1997-09-26 | 2000-09-19 | Siecor Corporation | Fiber optic cable with flame inhibiting capability |
| CA2323481C (en) * | 1998-03-12 | 2005-01-11 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | Optical connection component and method of producing the same |
| EP1110113A4 (en) * | 1998-06-29 | 2005-03-09 | Univ Syracuse | Method of fabricating a cylindrical optical fiber containing an optically active film |
| DE19829481A1 (de) * | 1998-07-02 | 2000-02-24 | Alcatel Sa | Verfahren zur Herstellung eines metallbeschichteten Lichtwellenleiters |
| US6072930A (en) * | 1998-11-04 | 2000-06-06 | Syracuse University | Method of fabricating a cylindrical optical fiber containing a particulate optically active film |
| US6767579B1 (en) * | 1998-11-24 | 2004-07-27 | Corning Incorporated | Methods for protecting silica-containing article in optical fiber manufacturing |
| US6453104B1 (en) * | 1999-12-28 | 2002-09-17 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Optical fiber cable and optical fiber cable with plug |
| US6501887B1 (en) | 2000-08-30 | 2002-12-31 | Corning Cable Systems Llc | Fiber optic cable having water blocking and flame retardant properties |
| US20020126975A1 (en) * | 2001-03-09 | 2002-09-12 | Huang Li Chieh | Optical fiber with metal coating for illumination |
| US7162137B2 (en) * | 2001-06-20 | 2007-01-09 | Ers Company | Optical fiber with nano-particle cladding |
| US6946428B2 (en) * | 2002-05-10 | 2005-09-20 | Christopher M. Rey | Magnesium -boride superconducting wires fabricated using thin high temperature fibers |
| US20050181228A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-08-18 | 3M Innovative Properties Company | Metal-cladded metal matrix composite wire |
| US7131308B2 (en) * | 2004-02-13 | 2006-11-07 | 3M Innovative Properties Company | Method for making metal cladded metal matrix composite wire |
| US7319803B2 (en) | 2004-09-30 | 2008-01-15 | Totoku Electric Co., Ltd. | Heat-resistant optical fiber, a method of manufacturing the same, a method of fixing an optical fiber, and a heat-resistant optical fiber using a protective tube |
| US7561776B2 (en) * | 2005-11-29 | 2009-07-14 | Petrospec Engineering Ltd. | Method of preventing hydrogen darkening of optic fibre |
| US9089928B2 (en) | 2008-08-20 | 2015-07-28 | Foro Energy, Inc. | Laser systems and methods for the removal of structures |
| US9664012B2 (en) | 2008-08-20 | 2017-05-30 | Foro Energy, Inc. | High power laser decomissioning of multistring and damaged wells |
| RU2522016C2 (ru) * | 2008-08-20 | 2014-07-10 | Форо Энерджи Инк. | Способ и система для проходки ствола скважины с использованием лазера большой мощности |
| US9347271B2 (en) * | 2008-10-17 | 2016-05-24 | Foro Energy, Inc. | Optical fiber cable for transmission of high power laser energy over great distances |
| US9244235B2 (en) | 2008-10-17 | 2016-01-26 | Foro Energy, Inc. | Systems and assemblies for transferring high power laser energy through a rotating junction |
| US9669492B2 (en) | 2008-08-20 | 2017-06-06 | Foro Energy, Inc. | High power laser offshore decommissioning tool, system and methods of use |
| US9027668B2 (en) | 2008-08-20 | 2015-05-12 | Foro Energy, Inc. | Control system for high power laser drilling workover and completion unit |
| US8571368B2 (en) | 2010-07-21 | 2013-10-29 | Foro Energy, Inc. | Optical fiber configurations for transmission of laser energy over great distances |
| TWI422881B (zh) * | 2009-03-27 | 2014-01-11 | Nat Univ Chung Hsing | Sealed coating double plastic coated fiber |
| WO2011079107A2 (en) * | 2009-12-23 | 2011-06-30 | Shell Oil Company | Detecting broadside and directional acoustic signals with a fiber optical distributed acoustic sensing (das) assembly |
| US8369671B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-02-05 | General Electric Company | Hermetically sealed fiber sensing cable |
| GB2486427B (en) * | 2010-12-14 | 2013-08-07 | Converteam Technology Ltd | A layered material for a vacuum chamber |
| JP6446429B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2018-12-26 | エーエフエル テレコミュニケーションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 金属被覆された光ファイバを製造する方法および装置、ならびに得られた光ファイバ |
| US20140327915A1 (en) * | 2013-05-03 | 2014-11-06 | Baker Hughes Incorporated | Well monitoring using coherent detection of rayleigh scatter |
| DE102014203838A1 (de) | 2013-07-31 | 2015-02-05 | J-Fiber Gmbh | Verfahren zur Metallisierung einer optischen Faser |
| PL406197A1 (pl) * | 2013-11-22 | 2015-05-25 | Inphotech Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością | Sposób łączenia włókien światłowodowych pokrytych warstwą przewodzącą z elementami metalowymi |
| US10073218B2 (en) * | 2016-03-28 | 2018-09-11 | Massachusetts Institute Of Technology | Metalized double-clad optical fiber |
| EP3404757B1 (en) * | 2017-05-15 | 2019-12-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Metal-air battery including a gas diffusion layer and method of manufacturing the same |
| US10983269B1 (en) * | 2019-10-02 | 2021-04-20 | Verrillon, Inc. | Optical fibers with two metal coatings surrounding the cladding |
| US11661375B2 (en) | 2020-05-20 | 2023-05-30 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Applying protective coatings to optical fibers |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154445A (ja) * | 1974-11-07 | 1976-05-13 | Fujikura Ltd | |
| US4183621A (en) * | 1977-12-29 | 1980-01-15 | International Telephone And Telegraph Corporation | Water resistant high strength fibers |
| DE3175876D1 (en) * | 1980-04-01 | 1987-03-05 | Toray Industries | Twisted yarn and method of producing the same |
| DE3106506A1 (de) * | 1981-02-21 | 1982-10-07 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Metallisierte kohlenstoffasern und verbundwerkstoffe, die diese fasern enthalten |
| US4402993A (en) * | 1981-03-20 | 1983-09-06 | Gulf & Western Manufacturing Company | Process for coating optical fibers |
| US4530750A (en) * | 1981-03-20 | 1985-07-23 | A. S. Laboratories, Inc. | Apparatus for coating optical fibers |
| US4512629A (en) * | 1982-03-30 | 1985-04-23 | Hewlett-Packard Company | Optical fiber with hermetic seal and method for making same |
| US4468294A (en) * | 1983-05-19 | 1984-08-28 | Honeywell Inc. | Acoustic desensitization of optical fibers by means of nickel jackets |
| JPS62143848A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属被覆光フアイバの製造方法 |
| US4735856A (en) * | 1986-03-31 | 1988-04-05 | Spectran Corporation | Hermetic coatings for optical fiber and product |
| DE3885827T2 (de) * | 1987-09-18 | 1994-03-17 | American Telephone & Telegraph | Hermetisch verschlossene, optische Fasern. |
| JPH02166410A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-27 | Fujikura Ltd | ハーメチックコート光ファイバ |
-
1989
- 1989-08-30 JP JP1221832A patent/JP2567951B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-08-27 US US07/572,563 patent/US5093880A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-29 CA CA002024266A patent/CA2024266C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-30 EP EP90116675A patent/EP0419882B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-30 DE DE69008981T patent/DE69008981T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-30 KR KR1019900013550A patent/KR930001534B1/ko not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03107907A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ |
| JP2017534752A (ja) * | 2014-09-17 | 2017-11-24 | エーエフエル・テレコミュニケーションズ・エルエルシー | 金属コート光学ファイバーの製造のための方法及び装置並びに結果的に生じる光学ファイバー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0419882B1 (en) | 1994-05-18 |
| KR930001534B1 (ko) | 1993-03-04 |
| DE69008981D1 (de) | 1994-06-23 |
| JP2567951B2 (ja) | 1996-12-25 |
| KR910005073A (ko) | 1991-03-29 |
| DE69008981T2 (de) | 1994-12-01 |
| US5093880A (en) | 1992-03-03 |
| CA2024266C (en) | 1998-12-29 |
| CA2024266A1 (en) | 1991-03-01 |
| EP0419882A1 (en) | 1991-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0388747A (ja) | 金属被覆光ファイバの製造方法 | |
| RU2704067C2 (ru) | Способ и устройство для производства оптического волокна с металлическим покрытием и полученное оптическое волокно | |
| US6355301B1 (en) | Selective fiber metallization | |
| JPH06330337A (ja) | ハーメチックパッケージ封入のための光ファイバの無電解メタライゼーション | |
| TWI261363B (en) | Methods of metallizing non-conductive substrates and metallized non-conductive substrates formed thereby | |
| CN111170628B (zh) | 一种抗拉光纤的制备方法 | |
| JPS6139311A (ja) | 導電性繊維及びフイルムの製法 | |
| JP2804163B2 (ja) | 光ファイバ素材の製造方法 | |
| JP3108554B2 (ja) | 金属被覆光ファイバの製造方法 | |
| JPS61187261A (ja) | 半導体用リ−ドフレ−ムとその製造方法 | |
| JPS6036479B2 (ja) | 炭素繊維束または布の金属メツキ方法 | |
| SU582302A1 (ru) | Способ изготовлени подложек дл цилиндрических магнитных пленок | |
| JPH10300997A (ja) | 金属コーティング光ファイバ及びその製造方法 | |
| JPH02189811A (ja) | 導線 | |
| JPH04103793A (ja) | タイヤコード用鋼線のブラスメッキ方法 | |
| JPS63259082A (ja) | メツキ処理方法 | |
| JPH0555112U (ja) | 金属被覆光ファイバ | |
| JPH0426789A (ja) | リフローめっき材の製造方法 | |
| JPS6342393A (ja) | 銅または銅合金線条体の錫または錫合金メツキ方法 | |
| CN121135165A (zh) | 一种高致密金属涂层玄武岩纤维及其制备方法 | |
| JPS63256435A (ja) | チタンを基材とするクラツド材料 | |
| JP2002256441A (ja) | 無電解めっき方法 | |
| JPH048887B2 (ja) | ||
| JPH0632636A (ja) | 金属被覆光ファイバの製造方法 | |
| JPH07244232A (ja) | メタルコート光ファイバ,及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |