JPH0392884A - ホログラムの製造方法 - Google Patents
ホログラムの製造方法Info
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- JPH0392884A JPH0392884A JP23062789A JP23062789A JPH0392884A JP H0392884 A JPH0392884 A JP H0392884A JP 23062789 A JP23062789 A JP 23062789A JP 23062789 A JP23062789 A JP 23062789A JP H0392884 A JPH0392884 A JP H0392884A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、ホログラムの製造方法に関するものである
。
。
［従来技術〕
従来、ホログラムは、第１１図に示すように、ホログラ
ム基板１上に吸湿性結合剤を含む感光材２を配置し、さ
らに、カバーガラス３にて接着剤４を介してシールし耐
湿性や耐熱性をもたせて信頼性を確保するようにしてい
る。尚、吸涸性結合剤を含む感光材とは干渉縞を記録し
現像処理を済したものをいう。つまり、ホログラムを長
期保存するために、水分を通さないカバーガラス３と、
水分を通しにくく透明で感光材２及びカバーガラス３の
屈折率に近い接着剤４とでシールしている。
ム基板１上に吸湿性結合剤を含む感光材２を配置し、さ
らに、カバーガラス３にて接着剤４を介してシールし耐
湿性や耐熱性をもたせて信頼性を確保するようにしてい
る。尚、吸涸性結合剤を含む感光材とは干渉縞を記録し
現像処理を済したものをいう。つまり、ホログラムを長
期保存するために、水分を通さないカバーガラス３と、
水分を通しにくく透明で感光材２及びカバーガラス３の
屈折率に近い接着剤４とでシールしている。
このとき、ホログラムを作製する上でホログラム基板１
全面に感光材２を塗布してシールすると感光材２の端而
が露出して空気と接触してしまうので、第１２図に示す
ように、感光材２の端をある幅（１〜１０１程度）、除
去しなければならない。
全面に感光材２を塗布してシールすると感光材２の端而
が露出して空気と接触してしまうので、第１２図に示す
ように、感光材２の端をある幅（１〜１０１程度）、除
去しなければならない。
そのために、ホログラムの端の感光材２を削り落したり
、感光材２を塗布するときに端部にテープを貼り付けて
その部分に感光材２が塗布できないようにしている。さ
らに、特開昭５９−２０１０８１号公報には、不四部分
の感光材２を化学的処理剤を用いて除去する方法が示さ
れている。
、感光材２を塗布するときに端部にテープを貼り付けて
その部分に感光材２が塗布できないようにしている。さ
らに、特開昭５９−２０１０８１号公報には、不四部分
の感光材２を化学的処理剤を用いて除去する方法が示さ
れている。
［発明が解決しようとする課題］
ところが、感光材２を削り落すやり方では、その作業が
非常に面倒であるとともに、感光材２を削り落す際に刃
物で感光材２を傷付けてしまったり削り面が汚くなる。
非常に面倒であるとともに、感光材２を削り落す際に刃
物で感光材２を傷付けてしまったり削り面が汚くなる。
又、テープを貼って感光材２を塗布するヤリ方では、そ
の作業が面倒であるとともに、テープ近傍の感光材２の
厚さが厚くなりテープを剥がす際に感光材２が剥がれ感
光材２の端面が汚くなる。さらに、特開昭５９−２０１
０８１号公報に示されている方法では化学薬品を用いた
工程が多くなりコストアツブする問題があった。
の作業が面倒であるとともに、テープ近傍の感光材２の
厚さが厚くなりテープを剥がす際に感光材２が剥がれ感
光材２の端面が汚くなる。さらに、特開昭５９−２０１
０８１号公報に示されている方法では化学薬品を用いた
工程が多くなりコストアツブする問題があった。
この発明の目的は、基板の周囲に感光材のない綺麗なホ
ログラムを容易に製造することができるホログラムの製
造方法を提供することにある。
ログラムを容易に製造することができるホログラムの製
造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
この発明は、基板上に吸湿性結合剤を含む感光材を塗布
するとともに当該感光材をシール材にてシールしたホロ
グラムにおいて、 基板の周囲に透水性材料を配置した後に、当該撥水性材
料をマスクとして前記感光材を塗布したホログラムの製
造方法をその要旨とするものである。
するとともに当該感光材をシール材にてシールしたホロ
グラムにおいて、 基板の周囲に透水性材料を配置した後に、当該撥水性材
料をマスクとして前記感光材を塗布したホログラムの製
造方法をその要旨とするものである。
［作用］
基板の周囲に溌水性材料が配置ざれた後に、撥水性材料
をマスクとして感光材が塗布される。この際に、感光材
は撥水性材料にてはじかれ、感光材のない部分が形成さ
れる。
をマスクとして感光材が塗布される。この際に、感光材
は撥水性材料にてはじかれ、感光材のない部分が形成さ
れる。
［実施例］
以下、この発明を具体化した一実施例を図面に従って説
明する。
明する。
第４図にはホログラムの製造工程を示す。まず、第１図
及び第２図に示す四角形状のホログラム基板１１を洗浄
する（第１工程）ａこのホログラム基板１１としてはガ
ラス、又は、透明樹脂（例えば，ポリカーボネイト、ア
クリル）等の材料が使用される。
及び第２図に示す四角形状のホログラム基板１１を洗浄
する（第１工程）ａこのホログラム基板１１としてはガ
ラス、又は、透明樹脂（例えば，ポリカーボネイト、ア
クリル）等の材料が使用される。
次に、ホログラム基板１１の周辺部にスプレー等により
透発性材料１２を薄く塗布する（第２工程）。ここで、
ＮＲ性材料１２としては、ふっ素樹脂系順水剤、四沸化
エチレン、三沸化エチレン等が使用される。そして、こ
の撥発性材料１２は後記感光材１３をはじき、かつ、後
工程での処理剤にて除去ざれないものである。即ち、シ
ール材除去（第７工程）でのエタノール、硬膜処理〈第
８工程〉での硬膜液（酸性硬膜定着液）、水洗（第９工
程）での水、渇浴（第１０工程）での場、脱水処理（第
１１工程）でのイソブロビルアルコールに、不溶又はｆ
ｉ溶なものである。
透発性材料１２を薄く塗布する（第２工程）。ここで、
ＮＲ性材料１２としては、ふっ素樹脂系順水剤、四沸化
エチレン、三沸化エチレン等が使用される。そして、こ
の撥発性材料１２は後記感光材１３をはじき、かつ、後
工程での処理剤にて除去ざれないものである。即ち、シ
ール材除去（第７工程）でのエタノール、硬膜処理〈第
８工程〉での硬膜液（酸性硬膜定着液）、水洗（第９工
程）での水、渇浴（第１０工程）での場、脱水処理（第
１１工程）でのイソブロビルアルコールに、不溶又はｆ
ｉ溶なものである。
そして、ホログラム基板１１上に、吸湿性結合剤〈ゼラ
チン〉と重クロム酸アンモニウムを含む感光材１３を塗
布する（第３工程）。この感光材１３には３０℃〜５０
℃の湯に１〜２０重量％のゼラチンを溶かしたゼラチン
水溶液が含まれている。
チン〉と重クロム酸アンモニウムを含む感光材１３を塗
布する（第３工程）。この感光材１３には３０℃〜５０
℃の湯に１〜２０重量％のゼラチンを溶かしたゼラチン
水溶液が含まれている。
次に、感光材１３のゼラチン水溶液の水分量を減少させ
るためにホログラム基板１１を乾燥させる（第４工程｝
。さらに、感光材１３のゼラチン水溶液中の水分量を一
定に保つためにカバーガラスでシールする（第５工程）
。このとき、カバーガラスと感光材１３との間に屈折率
調整液（インデックスマッチング液）としてシリコンオ
イルを挟み込み、カバーガラスと感光材１３との境界面
での屈折率の変化をなくす。尚、屈折率調整液はシリコ
ンオイルの他にも、キシレン、ベンゼン等でもよい。
るためにホログラム基板１１を乾燥させる（第４工程｝
。さらに、感光材１３のゼラチン水溶液中の水分量を一
定に保つためにカバーガラスでシールする（第５工程）
。このとき、カバーガラスと感光材１３との間に屈折率
調整液（インデックスマッチング液）としてシリコンオ
イルを挟み込み、カバーガラスと感光材１３との境界面
での屈折率の変化をなくす。尚、屈折率調整液はシリコ
ンオイルの他にも、キシレン、ベンゼン等でもよい。
そして、干渉縞を記録するために露光を行なう〈第６工
程〉。さらに、第５工程で配設したカバーグラスを取除
いた後、エタノールにて屈折率調整液を除去する（第７
工程〉。尚、揮発性の屈折率調整液、例えば、キシレン
、ベンゼン等を用いた場合には常温で蒸発してしまうの
で、この第７工程は省かれる。
程〉。さらに、第５工程で配設したカバーグラスを取除
いた後、エタノールにて屈折率調整液を除去する（第７
工程〉。尚、揮発性の屈折率調整液、例えば、キシレン
、ベンゼン等を用いた場合には常温で蒸発してしまうの
で、この第７工程は省かれる。
その後、酸性硬膜定着液による硬膜処理（第８工程）、
水洗処理（第９工程）、２０〜４０℃での湯浴（第１０
工程）、イソブロビルアルコールによる脱水処理（第１
１工程）、１００〜１３０℃の高温乾燥（第１２工程）
を行なう。これらの処理を行なっても、ホログラム基板
１１の周囲に塗布した撥水性材料１２は除去されない。
水洗処理（第９工程）、２０〜４０℃での湯浴（第１０
工程）、イソブロビルアルコールによる脱水処理（第１
１工程）、１００〜１３０℃の高温乾燥（第１２工程）
を行なう。これらの処理を行なっても、ホログラム基板
１１の周囲に塗布した撥水性材料１２は除去されない。
そして、第３図に示すようにカバーガラス１４による接
着剤１５を介してのシールを行なう（弟１３工程〉。そ
の結果、信頼性（耐湿性、耐熱性）の高いホログラムが
完成する。
着剤１５を介してのシールを行なう（弟１３工程〉。そ
の結果、信頼性（耐湿性、耐熱性）の高いホログラムが
完成する。
このように本実魔例によれば、ホログラム基板１１の周
囲に溌水性材料１２をｉｉ！置した後に、撥水性材料１
２をマスクとして感光材１３〈ゼラチンと重クロム酸ア
ンモニウムとを含む水溶液〉を塗布し、さらに、感光材
１３をシール材（カバーガラス１４．接着剤１５）にて
シールした。この感光材１３の塗布の際に、感光材１３
が撥水性材料１２にてはじかれて、ホログラム基板１１
の周囲に感光材１３のない部分が形成ざれる。その結果
、従来方式での感光材２の削り落しやテープの貼付けに
よらずにホログラム基板の周囲に感光材のないホログラ
ムを製造することができる。よって、感光材を削り落す
やり方では感光材を傷付けたり削り面が汚くなったり、
又、テープを貼って感光材を塗布するヤリ方では感光材
の端面が汚くなってしまったが、本実施例ではそのよう
なことが回避される。又、特開昭５９−２０１０８１号
公報に示されているような感光材の不要部分を除去する
ために化学薬品を用いる工程が無くなりコストアップを
招くことはない。
囲に溌水性材料１２をｉｉ！置した後に、撥水性材料１
２をマスクとして感光材１３〈ゼラチンと重クロム酸ア
ンモニウムとを含む水溶液〉を塗布し、さらに、感光材
１３をシール材（カバーガラス１４．接着剤１５）にて
シールした。この感光材１３の塗布の際に、感光材１３
が撥水性材料１２にてはじかれて、ホログラム基板１１
の周囲に感光材１３のない部分が形成ざれる。その結果
、従来方式での感光材２の削り落しやテープの貼付けに
よらずにホログラム基板の周囲に感光材のないホログラ
ムを製造することができる。よって、感光材を削り落す
やり方では感光材を傷付けたり削り面が汚くなったり、
又、テープを貼って感光材を塗布するヤリ方では感光材
の端面が汚くなってしまったが、本実施例ではそのよう
なことが回避される。又、特開昭５９−２０１０８１号
公報に示されているような感光材の不要部分を除去する
ために化学薬品を用いる工程が無くなりコストアップを
招くことはない。
このように、ホログラム基板１１の周囲に感光材１３の
ない綺麗なホログラムを容易に製造することができるこ
ととなる。
ない綺麗なホログラムを容易に製造することができるこ
ととなる。
尚、この発明は上記実施例に限定されるものではなく、
例えば、溌水性材料として、撥水性材料塗布後の感光Ｉ
ｌ１１３の配置後に除去されるものを使用してもよい。
例えば、溌水性材料として、撥水性材料塗布後の感光Ｉ
ｌ１１３の配置後に除去されるものを使用してもよい。
即ち、シール材除去（第７工程〉でのエタノールや脱水
処理（第１１工程）でのイソブロビルアルコールに可溶
なもの、例えば、シリコンオイル等を用いてもよい。
処理（第１１工程）でのイソブロビルアルコールに可溶
なもの、例えば、シリコンオイル等を用いてもよい。
又、第５図に示すように、撥水性材料として、ふっ素系
、シリコン系のＯリング１６を用いてもよい。即ち、ス
トツノ５１７によりＯリング１６をホログラム基板１１
に押しつけてＯリング１６とホログラム基板１１の間に
隙間ができないようにする。そして、この状態で、感光
材１３を塗布する。その後、感光材１３がゲル化若しく
は乾燥してから０リング１６とストツバ１７を外せばよ
い。
、シリコン系のＯリング１６を用いてもよい。即ち、ス
トツノ５１７によりＯリング１６をホログラム基板１１
に押しつけてＯリング１６とホログラム基板１１の間に
隙間ができないようにする。そして、この状態で、感光
材１３を塗布する。その後、感光材１３がゲル化若しく
は乾燥してから０リング１６とストツバ１７を外せばよ
い。
この場合、Ｏリング１６の代りにシリコンラバーを用い
てもよい。
てもよい。
さらに、撥水性材料としてシリコンラバーを使用した他
の例としては、第６図に示すように実施してもよい。即
ち、ホログラム基板１１上にシリコンラバー１８を載置
する。この時、感光材１３がホログラム基板１１とシリ
コンラバー１８との隙間に入らないように第４図におけ
るカバーガラスシール工程（第５工程〉でシール材とし
て使用するものと同じシリコンオイル１９でこの隙間を
埋める。尚、この時、シリコンラバー１８をシリコンオ
イルの中に浸した後、ホログラム基板１１上に戟置する
と、隙間を埋める作業がしやすい。
の例としては、第６図に示すように実施してもよい。即
ち、ホログラム基板１１上にシリコンラバー１８を載置
する。この時、感光材１３がホログラム基板１１とシリ
コンラバー１８との隙間に入らないように第４図におけ
るカバーガラスシール工程（第５工程〉でシール材とし
て使用するものと同じシリコンオイル１９でこの隙間を
埋める。尚、この時、シリコンラバー１８をシリコンオ
イルの中に浸した後、ホログラム基板１１上に戟置する
と、隙間を埋める作業がしやすい。
その後、感光材１３を塗布する。
この実施例の場合、第７図に示すように、シリコンラパ
ー１８とシリコンオイル１９の合計の厚さが感光材１３
の厚さ（乾燥前の厚さ）より薄い場合はゲル化後にシリ
コンラバー１８を除去して乾燥する。しかし、第８図に
示すように、シリコンラバー１８とシリコンオイル１９
の合計の厚さが感光材１３の厚さよりも厚い場合は、第
９図に示すように感光材１３のエッチが尖ってしまうの
で、第１０図に示すように、一度ゲル化した後、ゼラチ
ンの融点以上に（ゲルからゾルに変る温度に）暖めてゼ
ラチンをゾル化して先端を丸くし、その後、再びゲル化
させて乾燥するようにすればよい。
ー１８とシリコンオイル１９の合計の厚さが感光材１３
の厚さ（乾燥前の厚さ）より薄い場合はゲル化後にシリ
コンラバー１８を除去して乾燥する。しかし、第８図に
示すように、シリコンラバー１８とシリコンオイル１９
の合計の厚さが感光材１３の厚さよりも厚い場合は、第
９図に示すように感光材１３のエッチが尖ってしまうの
で、第１０図に示すように、一度ゲル化した後、ゼラチ
ンの融点以上に（ゲルからゾルに変る温度に）暖めてゼ
ラチンをゾル化して先端を丸くし、その後、再びゲル化
させて乾燥するようにすればよい。
［発明の効果］
以上詳述したようにこの発明によれば、基板の周囲に感
光材のないＩＩＩなホログラムを容易に製造することが
できる優れた効果を発揮する。
光材のないＩＩＩなホログラムを容易に製造することが
できる優れた効果を発揮する。
第１図は実施例のホログラムの製造工程を説明するため
の斜視図、第２図はホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第３図は完成したホログラムの断面図、第
４図はホログラムの製造工程図、第５図は別例のホログ
ラムの製造工程を説明するための断面図、第６図は他の
別例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、
第７図は他の別例のホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第８図は他の別例のホログラムの製造工程
を説明するための断面図、第９図は他の別例のホログラ
ムの製造工程を説明するための断面図、第１０図は他の
別例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、
第１１図は従来技術を説明するための断面図、第１２図
は従来技術を説明するための断面図である。 １１はホログラム基板、１２は撥水性材料、１３は感光
材、１４はシール材としてのカバーガラス、１５はシー
ル材としての接肴剤。
の斜視図、第２図はホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第３図は完成したホログラムの断面図、第
４図はホログラムの製造工程図、第５図は別例のホログ
ラムの製造工程を説明するための断面図、第６図は他の
別例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、
第７図は他の別例のホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第８図は他の別例のホログラムの製造工程
を説明するための断面図、第９図は他の別例のホログラ
ムの製造工程を説明するための断面図、第１０図は他の
別例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、
第１１図は従来技術を説明するための断面図、第１２図
は従来技術を説明するための断面図である。 １１はホログラム基板、１２は撥水性材料、１３は感光
材、１４はシール材としてのカバーガラス、１５はシー
ル材としての接肴剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に吸湿性結合剤を含む感光材を塗布するとと
もに当該感光材をシール材にてシールしたホログラムに
おいて、 基板の周囲に撥水性材料を配置した後に、当該撥水性材
料をマスクとして前記感光材を塗布したことを特徴とす
るホログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23062789A JP2870845B2 (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23062789A JP2870845B2 (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | ホログラムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0392884A true JPH0392884A (ja) | 1991-04-18 |
| JP2870845B2 JP2870845B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=16910745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23062789A Expired - Fee Related JP2870845B2 (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2870845B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006170830A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Nikon Corp | 撮像素子検査装置 |
| JP2007045852A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Nippon Steel Corp | ガス化ガスの精製方法及び装置、並びにガス化ガスの利用方法 |
| JP2008089416A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Nikon Corp | 検査用照明装置及び撮像素子検査装置 |
| JP2009063703A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、およびこれらの製造方法 |
| KR20150094482A (ko) * | 2014-02-11 | 2015-08-19 | 이순호 | 난방장치 |
-
1989
- 1989-09-06 JP JP23062789A patent/JP2870845B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006170830A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Nikon Corp | 撮像素子検査装置 |
| JP2007045852A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Nippon Steel Corp | ガス化ガスの精製方法及び装置、並びにガス化ガスの利用方法 |
| JP2008089416A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Nikon Corp | 検査用照明装置及び撮像素子検査装置 |
| JP2009063703A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、およびこれらの製造方法 |
| KR20150094482A (ko) * | 2014-02-11 | 2015-08-19 | 이순호 | 난방장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2870845B2 (ja) | 1999-03-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |