JPH039455B2 - - Google Patents
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- JPH039455B2 JPH039455B2 JP54098155A JP9815579A JPH039455B2 JP H039455 B2 JPH039455 B2 JP H039455B2 JP 54098155 A JP54098155 A JP 54098155A JP 9815579 A JP9815579 A JP 9815579A JP H039455 B2 JPH039455 B2 JP H039455B2
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- JP
- Japan
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- weight
- water
- parts
- coating mixture
- dispersion
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族ジアゾニウム塩の縮合物及び
水不溶性の巨大分子重合体の安定な分散液を含有
する水性被覆混合物を層支持体に施しかつ乾燥す
ることによつて感光性複写材料を製造する方法に
関する。本発明による複写材料は、有利に平版印
刷版材を製造するために使用されかつ露光後純粋
な水で現像することができる。
水不溶性の巨大分子重合体の安定な分散液を含有
する水性被覆混合物を層支持体に施しかつ乾燥す
ることによつて感光性複写材料を製造する方法に
関する。本発明による複写材料は、有利に平版印
刷版材を製造するために使用されかつ露光後純粋
な水で現像することができる。
この種の複写材料は、西ドイツ国特許公開第
2626066号明細書から公知であり、これは層支持
体に、ジアゾニウム塩縮合物を含有する水不溶性
重合体の水性分散液を施しかつ乾燥することによ
つて製造される。得られた層は、感光性の水不溶
性相が分散されている感光性の水溶性相から成
る。相境界は、ほぼ1μmである分散粒子の構造
に基き、顕微鏡で十分に識別される。現像は水で
行われるが、ブラツシング又は摩擦による機械的
補助手段が必要である。前記西ドイツ特許公開明
細書の出願人によつて記載された、当出願に相応
する市販製品の仕様には、付加的に後現像剤を用
いた処理が推奨されている。水で洗浄するだけの
現像では不十分である。
2626066号明細書から公知であり、これは層支持
体に、ジアゾニウム塩縮合物を含有する水不溶性
重合体の水性分散液を施しかつ乾燥することによ
つて製造される。得られた層は、感光性の水不溶
性相が分散されている感光性の水溶性相から成
る。相境界は、ほぼ1μmである分散粒子の構造
に基き、顕微鏡で十分に識別される。現像は水で
行われるが、ブラツシング又は摩擦による機械的
補助手段が必要である。前記西ドイツ特許公開明
細書の出願人によつて記載された、当出願に相応
する市販製品の仕様には、付加的に後現像剤を用
いた処理が推奨されている。水で洗浄するだけの
現像では不十分である。
また、使用者自身が印刷版支持体に被覆するよ
うに調製された被覆混合物、いわゆるワイプ−オ
ン・システム(Wipe−On−Systeme)も市販さ
れている。これもまた、水性重合体エマルジヨン
とジアゾニウム塩縮合生成物の混合物を含有しか
つ平版印刷板の層支持体に手で施されかつ乾燥せ
しめられる。しかしながら、得られる感光性層は
純粋な水では現像不能である。
うに調製された被覆混合物、いわゆるワイプ−オ
ン・システム(Wipe−On−Systeme)も市販さ
れている。これもまた、水性重合体エマルジヨン
とジアゾニウム塩縮合生成物の混合物を含有しか
つ平版印刷板の層支持体に手で施されかつ乾燥せ
しめられる。しかしながら、得られる感光性層は
純粋な水では現像不能である。
シルクスクリン印刷のためには、場合によつて
水不溶性重合体を添加した、ジアゾニウム塩の縮
合生成物と水溶性重合体の混合物が公知である。
これらの複写層は大過剰の水溶性重合体を含有し
かつ平版印刷にとつて不十分な親油性を有する。
水不溶性重合体を添加した、ジアゾニウム塩の縮
合生成物と水溶性重合体の混合物が公知である。
これらの複写層は大過剰の水溶性重合体を含有し
かつ平版印刷にとつて不十分な親油性を有する。
西ドイツ国特許公開第1447957号明細書には、
前増感化された印刷版が記載されており、この印
刷版は珪酸塩で前処理されたアルミニウム支持体
と、水不溶性の、有機溶剤中に可溶な樹脂と水溶
性ジアゾニウム塩の混合物である感光性層とから
成つている。被覆は有機溶剤から行なわれる。こ
の種の印刷版の感光性は比較的に低くかつ印刷部
数の多い版は得られない。
前増感化された印刷版が記載されており、この印
刷版は珪酸塩で前処理されたアルミニウム支持体
と、水不溶性の、有機溶剤中に可溶な樹脂と水溶
性ジアゾニウム塩の混合物である感光性層とから
成つている。被覆は有機溶剤から行なわれる。こ
の種の印刷版の感光性は比較的に低くかつ印刷部
数の多い版は得られない。
類似した材料は、西ドイツ国特許公開第
2607091号明細書から公知である。この場合には、
有機溶剤中の水不溶性ジアゾ樹脂及び水不溶性重
合体並びに水溶性の表面活性剤を含有する被覆溶
液が使用される。版の現像は、純粋な水で実施さ
れるが、得られる印刷版の印刷部数は制限され
る。
2607091号明細書から公知である。この場合には、
有機溶剤中の水不溶性ジアゾ樹脂及び水不溶性重
合体並びに水溶性の表面活性剤を含有する被覆溶
液が使用される。版の現像は、純粋な水で実施さ
れるが、得られる印刷版の印刷部数は制限され
る。
本発明の課題は、水性の被覆溶液から製造さ
れ、清浄にかつ迅速に微細な網点部分においても
室温で純粋な水で現像することができかつ印刷部
数が大きい印刷版が得られる、印刷版を製造する
ために特に好適であるネガチブ型感光性複写材料
の製法を見い出すことであつた。
れ、清浄にかつ迅速に微細な網点部分においても
室温で純粋な水で現像することができかつ印刷部
数が大きい印刷版が得られる、印刷版を製造する
ために特に好適であるネガチブ型感光性複写材料
の製法を見い出すことであつた。
前記課題は、本発明により冒頭に記載した形式
の方法において、被覆混合物を0.1〜20重量%の
分散液の濃度で層支持体に施しかつ45℃と上記ジ
アゾニウム化合物の分解温度との範囲内の十分に
高い温度で光学的に均質な層が形成されるまで乾
燥させることにより解決される。
の方法において、被覆混合物を0.1〜20重量%の
分散液の濃度で層支持体に施しかつ45℃と上記ジ
アゾニウム化合物の分解温度との範囲内の十分に
高い温度で光学的に均質な層が形成されるまで乾
燥させることにより解決される。
本発明において、光学的に均質な層とは、その
表面が顕微鏡下で完全に均質に観察されかつ粒子
構造が認められない層であると理解されるべきで
ある。
表面が顕微鏡下で完全に均質に観察されかつ粒子
構造が認められない層であると理解されるべきで
ある。
本発明方法によれば、技術的に特に有利にはい
かなる有機溶剤をも添加せずに層支持体に水性分
散液を被覆することによつて複写材料を製造する
ことができる。更に、本発明方法によつて得られ
た複写材料は画像に基づいた露光後いかなる添加
物を使用することなく水で洗浄及びブラツシング
することにより微細な網点部分をも清浄に現像し
かつ印刷部数の大きい印刷版を得ることができ
る。
かなる有機溶剤をも添加せずに層支持体に水性分
散液を被覆することによつて複写材料を製造する
ことができる。更に、本発明方法によつて得られ
た複写材料は画像に基づいた露光後いかなる添加
物を使用することなく水で洗浄及びブラツシング
することにより微細な網点部分をも清浄に現像し
かつ印刷部数の大きい印刷版を得ることができ
る。
この複写材料は、前増感化した印刷版として工
場で製造してもよく又は使用者自身が層支持体に
被覆分散液を施すことによつて製造してもよい。
これらは、特に平版印刷版、または凸版、凹版及
びシルクスクリン印刷版並びに例えば複写回路の
ためのエツチングレジストを製造するために使用
することができる。
場で製造してもよく又は使用者自身が層支持体に
被覆分散液を施すことによつて製造してもよい。
これらは、特に平版印刷版、または凸版、凹版及
びシルクスクリン印刷版並びに例えば複写回路の
ためのエツチングレジストを製造するために使用
することができる。
本発明による複写材料の光硬化可能な層は、感
光性物質として芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物を含有する。この種の縮合生成物は公知であり
かつ例えば西ドイツ国特許公開第1214086号明細
書に記載されている。これらは、一般に多核芳香
族ジアゾニウム化合物、有利には置換された又は
置換されていないジフエニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩を活性カルボニル化合物、有にはホルム
アルデヒドと強酸性媒体と、有利には濃縮した燐
酸中で縮合させることにより製造される。
光性物質として芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物を含有する。この種の縮合生成物は公知であり
かつ例えば西ドイツ国特許公開第1214086号明細
書に記載されている。これらは、一般に多核芳香
族ジアゾニウム化合物、有利には置換された又は
置換されていないジフエニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩を活性カルボニル化合物、有にはホルム
アルデヒドと強酸性媒体と、有利には濃縮した燐
酸中で縮合させることにより製造される。
米国特許第3867147号及び同第4021243号明細書
には、この種の別の縮合生成物が記載されてお
り、これはジアゾニウム塩基を有していずかつ有
利には芳香族アミン、フエノール、フエノールエ
ーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水素、
芳香族複素環式化合物又は有機酸アミドから誘導
された、縮合によつて生成した単位を付加的に含
有している。
には、この種の別の縮合生成物が記載されてお
り、これはジアゾニウム塩基を有していずかつ有
利には芳香族アミン、フエノール、フエノールエ
ーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水素、
芳香族複素環式化合物又は有機酸アミドから誘導
された、縮合によつて生成した単位を付加的に含
有している。
これらのジアゾニウム塩縮合生成物の内で、特
に水溶性の代表的物質が有利である、しかしまた
水不溶性の代表的物質を安定な、均一な水性分散
液に変えた後使用することもできる。
に水溶性の代表的物質が有利である、しかしまた
水不溶性の代表的物質を安定な、均一な水性分散
液に変えた後使用することもできる。
水不溶性の重合体としては、原則的に安定な水
性分散液に変えることができる全ての付加又は縮
合重合体が適当である。水性エマルジヨン中の単
量体の重合の際に生じるような形の重合体が特に
有利である。適当な水不溶性重合体の例は、アク
リル又はメタクリル酸エステル、例えばメチルエ
ステル、エチルエステル、ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、ヘキシルエステル、デシルエス
テル、ラウリルエステル、ステアリルエステル及
びシクロヘキシルエステル;ビニルエステル、例
えばビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルイソノナネート、ビニルベルザテート;エ
チレン、ジブチルマレイネート、スチレン、塩化
ビニル、ビニルイソブチルエーテル、イソブチレ
ン、ブタジン又はビニルブチラールの単独重合体
又は共重合体である。さらに、ポリウレタン分散
液及びフエノジユール分散液が適当である。アル
キル基中に4〜12個の炭素原子を有するアクリル
酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエ
ステル、アルキル基中に2〜12個の炭素原子を有
するビニルアルキルエステル又はジブチルマレエ
ートが有利であり、この場合共重合体は少なくと
も50モル%まで前記単量体の単位から成つている
べきである。
性分散液に変えることができる全ての付加又は縮
合重合体が適当である。水性エマルジヨン中の単
量体の重合の際に生じるような形の重合体が特に
有利である。適当な水不溶性重合体の例は、アク
リル又はメタクリル酸エステル、例えばメチルエ
ステル、エチルエステル、ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、ヘキシルエステル、デシルエス
テル、ラウリルエステル、ステアリルエステル及
びシクロヘキシルエステル;ビニルエステル、例
えばビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルイソノナネート、ビニルベルザテート;エ
チレン、ジブチルマレイネート、スチレン、塩化
ビニル、ビニルイソブチルエーテル、イソブチレ
ン、ブタジン又はビニルブチラールの単独重合体
又は共重合体である。さらに、ポリウレタン分散
液及びフエノジユール分散液が適当である。アル
キル基中に4〜12個の炭素原子を有するアクリル
酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエ
ステル、アルキル基中に2〜12個の炭素原子を有
するビニルアルキルエステル又はジブチルマレエ
ートが有利であり、この場合共重合体は少なくと
も50モル%まで前記単量体の単位から成つている
べきである。
エマルジヨンに特殊な特性を与える特殊なコモ
ノマー、例えばエテンスルホン酸、N−メチロー
ルアクリルアミド及び重合可能な“反応性”色素
を少量で使用してもよい。
ノマー、例えばエテンスルホン酸、N−メチロー
ルアクリルアミド及び重合可能な“反応性”色素
を少量で使用してもよい。
このような重合体分散液は市販されているか又
は公知方法に基づいて製造することができる。
は公知方法に基づいて製造することができる。
室温における水性被覆性及び水性現像性は、表
面活性剤(陰イオン性、陽イオン性、非イオン性
又は両性)の添加により著しく改良することがで
きる。最も有効な量は、夫々の重合体において表
面活性剤の性質に左右されかつその都度簡単な実
験で確かめることができる。
面活性剤(陰イオン性、陽イオン性、非イオン性
又は両性)の添加により著しく改良することがで
きる。最も有効な量は、夫々の重合体において表
面活性剤の性質に左右されかつその都度簡単な実
験で確かめることができる。
陰イオン性及び非イオン性湿潤剤を使用するの
が有利である。さらに、表面活性物質によつて支
持体材料上での被覆品質を著しく改良することが
できる。有害な気泡形成は、通常の消泡剤によつ
て排除することができる。
が有利である。さらに、表面活性物質によつて支
持体材料上での被覆品質を著しく改良することが
できる。有害な気泡形成は、通常の消泡剤によつ
て排除することができる。
適当な表面活性剤の例は、10〜12個の炭素原子
を有する直鎖状のアルキル基を有するポリエチレ
ングリコールモノアルキルエーテル又はポリエチ
レングリコールモノノニルフエノールエーテルの
スルホコハク酸半エステルの二ナトリウム塩、長
鎖状アルキルスルホン酸エステル、トリス−第三
−ブチル−フエノールポリエチレングリコール−
硫酸エステルのナトリウム塩、長鎖状アルキル燐
酸エステル、陰イオン性に変性されたポリグリコ
ールエーテル、弗素置換された界面活性剤、ナト
リウム−ジイソブチルナフタリンスルホネート及
びナトリウムラウリルスルフエートである。
を有する直鎖状のアルキル基を有するポリエチレ
ングリコールモノアルキルエーテル又はポリエチ
レングリコールモノノニルフエノールエーテルの
スルホコハク酸半エステルの二ナトリウム塩、長
鎖状アルキルスルホン酸エステル、トリス−第三
−ブチル−フエノールポリエチレングリコール−
硫酸エステルのナトリウム塩、長鎖状アルキル燐
酸エステル、陰イオン性に変性されたポリグリコ
ールエーテル、弗素置換された界面活性剤、ナト
リウム−ジイソブチルナフタリンスルホネート及
びナトリウムラウリルスルフエートである。
本発明による複写材料は、保護コロイド又は粘
稠剤(例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、セルロース誘導体、ポリビニル−N
−メチルアセトアミド、ポリアクリル酸、ポリア
クリル酸アミド)を含有してもよい、これらの混
合物を使用することもできる。これらの保護コロ
イドは、既に重合開始時に又は感光性被覆混合物
を製造する際に加えてもよい。
稠剤(例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、セルロース誘導体、ポリビニル−N
−メチルアセトアミド、ポリアクリル酸、ポリア
クリル酸アミド)を含有してもよい、これらの混
合物を使用することもできる。これらの保護コロ
イドは、既に重合開始時に又は感光性被覆混合物
を製造する際に加えてもよい。
本発明では特に分子量1000〜1000000及び粒度
約0.05〜4.5μmの水不溶性重合体を使用する。透
明に見える水溶性の合成樹脂(例えばレシドロー
ル(Resydrole))を使用することもできる。層
厚さは、有利には0.1〜0.6g/m2である。より厚
い層も可能であるが、複写及び印刷上の見地にお
いて付加的な利点はもたらさない。
約0.05〜4.5μmの水不溶性重合体を使用する。透
明に見える水溶性の合成樹脂(例えばレシドロー
ル(Resydrole))を使用することもできる。層
厚さは、有利には0.1〜0.6g/m2である。より厚
い層も可能であるが、複写及び印刷上の見地にお
いて付加的な利点はもたらさない。
本発明による複写材料の感光性層は、一般に非
揮発性成分の重量に対してジアゾニウム塩縮合物
3〜70重量%、有利には7.5〜50重量%を含有す
る。これはさらに、ジアゾニウム塩縮合物1重量
部当り水不溶性の重合体0.1〜30、有利には0.5〜
12重量部を含有する。この都度重合体分散液の製
造及び安定化のために必要である量、即ち市販の
分散液に含有される成分の量に加えて、水不溶性
重合体1重量部に対して表面活性剤の量は0〜
5、有利には0.01〜0.6重量部、保護コロイドの
量は0〜3、有利には0.01〜0.5重量部である。
揮発性成分の重量に対してジアゾニウム塩縮合物
3〜70重量%、有利には7.5〜50重量%を含有す
る。これはさらに、ジアゾニウム塩縮合物1重量
部当り水不溶性の重合体0.1〜30、有利には0.5〜
12重量部を含有する。この都度重合体分散液の製
造及び安定化のために必要である量、即ち市販の
分散液に含有される成分の量に加えて、水不溶性
重合体1重量部に対して表面活性剤の量は0〜
5、有利には0.01〜0.6重量部、保護コロイドの
量は0〜3、有利には0.01〜0.5重量部である。
本発明の複写材料には、付加的に染料、軟化
剤、指示薬及びその他の添加物を配合してもよ
い。但し全ての添加物は、他の層成分と相容性で
あり、かつさらに感光性物質の光線吸収範囲内で
可能な限り該光線を吸収しないものを選択すべき
である。
剤、指示薬及びその他の添加物を配合してもよ
い。但し全ての添加物は、他の層成分と相容性で
あり、かつさらに感光性物質の光線吸収範囲内で
可能な限り該光線を吸収しないものを選択すべき
である。
本発明によれば、複写材料を純粋な水性被覆混
合物によつて製造することが可能になる。露光し
た複写材料は、困難なく純粋な水で、即ち有機溶
剤、アルカリ又は塩のようないかなる添加物も含
まない純粋な水で現像することができる。
合物によつて製造することが可能になる。露光し
た複写材料は、困難なく純粋な水で、即ち有機溶
剤、アルカリ又は塩のようないかなる添加物も含
まない純粋な水で現像することができる。
西ドイツ国特許公開第2626066号明細書に記載
された水で現像可能な印刷版材と異なり、本発明
の感光性層は不均一ではなく、光学的に均一であ
る。走査電子顕微鏡で30000倍に拡大しても、分
離した粒子は認められない。それに対して、上記
の不均一な層では既に1000倍の倍率で球状粒子が
認められる。
された水で現像可能な印刷版材と異なり、本発明
の感光性層は不均一ではなく、光学的に均一であ
る。走査電子顕微鏡で30000倍に拡大しても、分
離した粒子は認められない。それに対して、上記
の不均一な層では既に1000倍の倍率で球状粒子が
認められる。
これらの公知複写材料に対して、本発明による
材料は高い溶解性を有しかつ迅速かつ容易に水で
現像することができる。これらは一般に著しく小
さい層厚さを有し、ひいては高い感光性を有す
る。さらに、厚は優れた親油性を有しかつ平版印
刷における多くの印刷部数が得られる。有利にま
た例えば60%のイソプロパノールに対して良好な
現像剤抵抗を有しかつ現像された印刷版は硬い階
調を示す。
材料は高い溶解性を有しかつ迅速かつ容易に水で
現像することができる。これらは一般に著しく小
さい層厚さを有し、ひいては高い感光性を有す
る。さらに、厚は優れた親油性を有しかつ平版印
刷における多くの印刷部数が得られる。有利にま
た例えば60%のイソプロパノールに対して良好な
現像剤抵抗を有しかつ現像された印刷版は硬い階
調を示す。
本発明の感光性複写材料を製造するためには、
成分を水に溶かすかないしは分散させ又は予め調
製した分散液を水で希釈する。得られた分散液
を、複写のために適当な層支持体に施しかつ施し
た溶液を乾燥する。被覆は遠心塗、吹付け、漬
浸、ローラ又は液体被膜を用いる塗布によつて行
うことができかつこれらは被覆される材料の特性
によつて決定される。被覆溶液は、分散された重
合体に関して約0.1〜20、有利には0.5〜10重量%
の範囲内の濃度を有するべきである。正しい濃度
は、詳細には簡単な実験によつて確かめられる。
この濃度は均等な層塗布において所望の層厚さを
得ることができかつ層内に含有され、分散した重
合体粒子が適当な条件下で乾燥する際に十分に均
一な層を形成する程度の低さであるべきである。
このためには適当な乾燥温度の選択が重要であ
る。この温度は、一般に45℃〜ジアゾニウム化合
物の分解温度の範囲内にある。温度は詳細には乾
燥法の種類及び乾燥時間に左右される。いずれの
場合でも、前述のように光学的に均質な層の形成
が可能であるために十分な高さであるべきであ
る。
成分を水に溶かすかないしは分散させ又は予め調
製した分散液を水で希釈する。得られた分散液
を、複写のために適当な層支持体に施しかつ施し
た溶液を乾燥する。被覆は遠心塗、吹付け、漬
浸、ローラ又は液体被膜を用いる塗布によつて行
うことができかつこれらは被覆される材料の特性
によつて決定される。被覆溶液は、分散された重
合体に関して約0.1〜20、有利には0.5〜10重量%
の範囲内の濃度を有するべきである。正しい濃度
は、詳細には簡単な実験によつて確かめられる。
この濃度は均等な層塗布において所望の層厚さを
得ることができかつ層内に含有され、分散した重
合体粒子が適当な条件下で乾燥する際に十分に均
一な層を形成する程度の低さであるべきである。
このためには適当な乾燥温度の選択が重要であ
る。この温度は、一般に45℃〜ジアゾニウム化合
物の分解温度の範囲内にある。温度は詳細には乾
燥法の種類及び乾燥時間に左右される。いずれの
場合でも、前述のように光学的に均質な層の形成
が可能であるために十分な高さであるべきであ
る。
層支持体としては、多種多様な材料、例えば
紙、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、クロ
ム、銅、黄銅、銅及び複合金属又はプラスチツク
シートが適当である。平版印刷版を製造するため
には、機械的、化学的又は電流を用いて粗面化し
た又は陽極酸化したアルミニウムが有利に使用さ
れ、これは増感化前に自体公知の方法でホスホン
酸、特にポリビニルホスホン酸又は単量体又は重
合体のカルボン酸で前処理するのが有利である。
紙、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、クロ
ム、銅、黄銅、銅及び複合金属又はプラスチツク
シートが適当である。平版印刷版を製造するため
には、機械的、化学的又は電流を用いて粗面化し
た又は陽極酸化したアルミニウムが有利に使用さ
れ、これは増感化前に自体公知の方法でホスホン
酸、特にポリビニルホスホン酸又は単量体又は重
合体のカルボン酸で前処理するのが有利である。
被覆混合物に対して色素又は増感剤を加えるの
が、たいていの場合有利である。適当な染料は、
例えば水溶性染料、ローダミン、スーダンブル
ー、メチレンブルー、エオシン又はトリフエニル
メタン染料例えばクリスタルバイオレツト、ビク
トリアンブルー、マラカイトグリーン、メチルバ
イオレツト、フクシン及び顔料である。
が、たいていの場合有利である。適当な染料は、
例えば水溶性染料、ローダミン、スーダンブル
ー、メチレンブルー、エオシン又はトリフエニル
メタン染料例えばクリスタルバイオレツト、ビク
トリアンブルー、マラカイトグリーン、メチルバ
イオレツト、フクシン及び顔料である。
複写材料の露光は、公知形式で原稿の下で近紫
外線範囲内の可能な限り高い周波数、例えば350
〜400nmのスペクトルの光線を放出する複写光源
で行う。これはまた、レーザー光線を用いて実施
してもよい。
外線範囲内の可能な限り高い周波数、例えば350
〜400nmのスペクトルの光線を放出する複写光源
で行う。これはまた、レーザー光線を用いて実施
してもよい。
照射のために適当であるには、適正な出力の短
波長レーザ、例えば約300〜600nmを放出するAr
−レーザ、クリプトン−イオン−レーザ、ヘリウ
ム/カドミウム−レーザであり、若干の層にとつ
てはまた、10.6μmで放出するCO2−レーザ又は
1.06μmで放出するYAG−レーザが適当である。
波長レーザ、例えば約300〜600nmを放出するAr
−レーザ、クリプトン−イオン−レーザ、ヘリウ
ム/カドミウム−レーザであり、若干の層にとつ
てはまた、10.6μmで放出するCO2−レーザ又は
1.06μmで放出するYAG−レーザが適当である。
印刷版にするまでの本発明の複写材料の処理
は、常法で行う。前述のようにレーザで照射する
か又は原稿下で露光する。層の光が作用した個所
が硬化しかつ十分に不溶性になつた後、層の露光
されていない可溶性残留部分を漬浸及び/又は水
を用いた無接触ブラツシング即ち付加的な機械的
手段、例えばこすり又はブラツシングを用いない
方法によつて洗い流しないしは除去する。こうし
て製造した平版印刷版を現像後場合により油性イ
ンキで着色しかつアラビアゴムのような保護剤を
施す。
は、常法で行う。前述のようにレーザで照射する
か又は原稿下で露光する。層の光が作用した個所
が硬化しかつ十分に不溶性になつた後、層の露光
されていない可溶性残留部分を漬浸及び/又は水
を用いた無接触ブラツシング即ち付加的な機械的
手段、例えばこすり又はブラツシングを用いない
方法によつて洗い流しないしは除去する。こうし
て製造した平版印刷版を現像後場合により油性イ
ンキで着色しかつアラビアゴムのような保護剤を
施す。
現像剤としては、水道水が有利である。しか
し、少量の有機溶剤、湿潤剤、塩、酸等を加えて
もよい。
し、少量の有機溶剤、湿潤剤、塩、酸等を加えて
もよい。
次に、実施例により本発明を詳細に説明する。
例中「%」は、他にことわりのない限り「重量
%」である。容量部が1mlであれば、重量部は1
gに相当する。
%」である。容量部が1mlであれば、重量部は1
gに相当する。
例 1
ボリ酢酸ビニルの20%の水性エマルジヨン(陰
イオン性乳化剤系を有する)5重量部、ポリエト
キシル化アルキルフエノール0.1重量部、燐酸中
で製造しかつ粗製縮合混合物として使用した、3
−メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウ
ム塩とホルムアルデヒドの縮合生成物2重量部及
びポリビニルアルコール0.1重量部を水で100容量
部にしかつ陽極酸化しかつポリビニル燐酸で前処
理したアルミニウム板に施しかつ熱対流炉中100
℃で約2分間乾燥した。UV光源の下で画像に基
づいて露光した後、版材を水道水で洗浄しかつ油
性保護インキで着色した。これはマルチライト
(multilith)1850印刷機で100000枚以上印刷する
ことができた。
イオン性乳化剤系を有する)5重量部、ポリエト
キシル化アルキルフエノール0.1重量部、燐酸中
で製造しかつ粗製縮合混合物として使用した、3
−メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウ
ム塩とホルムアルデヒドの縮合生成物2重量部及
びポリビニルアルコール0.1重量部を水で100容量
部にしかつ陽極酸化しかつポリビニル燐酸で前処
理したアルミニウム板に施しかつ熱対流炉中100
℃で約2分間乾燥した。UV光源の下で画像に基
づいて露光した後、版材を水道水で洗浄しかつ油
性保護インキで着色した。これはマルチライト
(multilith)1850印刷機で100000枚以上印刷する
ことができた。
例 2
陰イオン性乳化剤系を有するポリメチルメタク
リレートの20%の水性エマルジヨン3重量部、陰
イオン性に変性したポリエチレンオキシドアダク
ト0.5重量部、ポリ−N−ビニル−ピロリドン0.6
重量部、濃燐酸中で製造した、ジフエニルアミン
−4−ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドから成
る粗製縮合生成物0.5重量部、フクシン〔カラ
ー・インデツクス(C.I.)42510〕0.2重量部及び
燐酸(85%)0.2重量部を、水で100容量部にしか
つプレートホイラーで、乾式ブラツシングした珪
酸塩化アルミニウムに塗布した。この層を熱対流
炉中100℃で2分間乾燥した。UV光源下で画像
に基いて露光した後、版材をオフセツト印刷機に
セツトしかつその中で純粋な水で現像した。この
印刷版では、1000部以上の良好な印刷物が得られ
た。
リレートの20%の水性エマルジヨン3重量部、陰
イオン性に変性したポリエチレンオキシドアダク
ト0.5重量部、ポリ−N−ビニル−ピロリドン0.6
重量部、濃燐酸中で製造した、ジフエニルアミン
−4−ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドから成
る粗製縮合生成物0.5重量部、フクシン〔カラ
ー・インデツクス(C.I.)42510〕0.2重量部及び
燐酸(85%)0.2重量部を、水で100容量部にしか
つプレートホイラーで、乾式ブラツシングした珪
酸塩化アルミニウムに塗布した。この層を熱対流
炉中100℃で2分間乾燥した。UV光源下で画像
に基いて露光した後、版材をオフセツト印刷機に
セツトしかつその中で純粋な水で現像した。この
印刷版では、1000部以上の良好な印刷物が得られ
た。
例 3
陽イオン性助剤系を有するポリビニルイソノナ
ネートの20%の水性エマルジヨン10重量部、例1
に記載したポリエトキシル化アルキルフエノール
0.5重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成物2.8
重量部、85%の燐酸中で製造しかつメタンスルホ
ン酸塩として単離した、3−メトキシ−ジフエニ
ルアミン−4−ジアゾニウム塩1モルと4,4′−
ビスメトキシメチル−ジフエニルエーテル1モル
から成る共縮合生成物0.2重量部を、水で100容量
部にしかつプレートホイラーで、湿式ブラツシン
グした、ポリビニルホルホン酸80%及びビニルホ
スホン酸20%の混合物で前処理したアルミニウム
に塗布しかつ熱対流炉中で100℃で約2分間乾燥
した。画像に基いて露光した後、この版材を用い
てオフセツト印刷機で数千部の印刷物が得られ
た。
ネートの20%の水性エマルジヨン10重量部、例1
に記載したポリエトキシル化アルキルフエノール
0.5重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成物2.8
重量部、85%の燐酸中で製造しかつメタンスルホ
ン酸塩として単離した、3−メトキシ−ジフエニ
ルアミン−4−ジアゾニウム塩1モルと4,4′−
ビスメトキシメチル−ジフエニルエーテル1モル
から成る共縮合生成物0.2重量部を、水で100容量
部にしかつプレートホイラーで、湿式ブラツシン
グした、ポリビニルホルホン酸80%及びビニルホ
スホン酸20%の混合物で前処理したアルミニウム
に塗布しかつ熱対流炉中で100℃で約2分間乾燥
した。画像に基いて露光した後、この版材を用い
てオフセツト印刷機で数千部の印刷物が得られ
た。
例 4
40%のポリウレタン分散液80重量部、例1に記
載したポリエトキシル化アルキルフエノール4重
量部、アンモニウム−アルキルポリオキシエチレ
ンスルフエート(18個の炭素原子を有するアルキ
ル基)8重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成
物15重量部及びクリスタルバイオレツト(C.
I.42555)2重量部を、水で300容量部にしかつロ
ール−a−コーター(Roll−a−Coater)を用
いて、陽極酸化し、K2ZrF6で前処理したアルミ
ニウム箔に塗布した。層厚さは、乾燥後約0.2
g/m2であつた。乾燥は前記例と同様に実施し
た。UV光源下で画像に基づいて露光した後、水
道水でブラツシングしかつ油油保護インキで着色
した。この版材を用いて、オフセツト印刷機で
100000部以上の印刷物が得られた。
載したポリエトキシル化アルキルフエノール4重
量部、アンモニウム−アルキルポリオキシエチレ
ンスルフエート(18個の炭素原子を有するアルキ
ル基)8重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成
物15重量部及びクリスタルバイオレツト(C.
I.42555)2重量部を、水で300容量部にしかつロ
ール−a−コーター(Roll−a−Coater)を用
いて、陽極酸化し、K2ZrF6で前処理したアルミ
ニウム箔に塗布した。層厚さは、乾燥後約0.2
g/m2であつた。乾燥は前記例と同様に実施し
た。UV光源下で画像に基づいて露光した後、水
道水でブラツシングしかつ油油保護インキで着色
した。この版材を用いて、オフセツト印刷機で
100000部以上の印刷物が得られた。
例 5
陽極酸化層1g/m2を有するアルミニウム板
を、0.5%のポリビニルホスホン酸水溶液で80℃
で30秒間前処理しかつ下記組成の感光性溶液で被
覆した:陽イオン性分散剤を有するポリビニルベ
ルサテートの20%のエマルジヨン10重量部、例1
に記載したポリエトキシル化アルキルフエノール
1重量部、メチルバイオレツト(C.I.42535)0.4
重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成物0.8重
量部を水で100容量部にしたもの。
を、0.5%のポリビニルホスホン酸水溶液で80℃
で30秒間前処理しかつ下記組成の感光性溶液で被
覆した:陽イオン性分散剤を有するポリビニルベ
ルサテートの20%のエマルジヨン10重量部、例1
に記載したポリエトキシル化アルキルフエノール
1重量部、メチルバイオレツト(C.I.42535)0.4
重量部、例1に記載したジアゾ縮合生成物0.8重
量部を水で100容量部にしたもの。
可視範囲の25ワツトのアルゴン−イオンレーザ
を用いてかつ約50m/sの照射速度で画像に基づ
いて照射した後、光線が当らなかつた層部分を水
道水でブラツシングによつて除去した。光線が当
つた層部分は親油性に硬化しかつ油性インキを塗
布した際にインキを受容した。これでオフセツト
印刷機で印刷することができた。
を用いてかつ約50m/sの照射速度で画像に基づ
いて照射した後、光線が当らなかつた層部分を水
道水でブラツシングによつて除去した。光線が当
つた層部分は親油性に硬化しかつ油性インキを塗
布した際にインキを受容した。これでオフセツト
印刷機で印刷することができた。
例 6
50%の水性ポリビニルプロピオネート分散液40
重量部及び例1に記載したポリエトキシル化アル
キルフエノール6重量部を、撹拌下に水で1900容
量部にする。さらに、水100容量部中の例1に記
載したジアゾ縮合生成物を撹拌混入する。この混
合物で、ホイラーで黄銅/クロム板を被覆しかつ
熱対流炉内で約2分間乾燥する。UV光源の下で
画像に基いて露光した後、水道水でブラツシング
する。この版材は問題なく油性保護インキで着色
することができる。
重量部及び例1に記載したポリエトキシル化アル
キルフエノール6重量部を、撹拌下に水で1900容
量部にする。さらに、水100容量部中の例1に記
載したジアゾ縮合生成物を撹拌混入する。この混
合物で、ホイラーで黄銅/クロム板を被覆しかつ
熱対流炉内で約2分間乾燥する。UV光源の下で
画像に基いて露光した後、水道水でブラツシング
する。この版材は問題なく油性保護インキで着色
することができる。
アルミニウム/銅/クロム複合金属支持体で同
じ結果が得られる。
じ結果が得られる。
例 7
陰イオン性助剤系及び保護コロイドとしてのポ
リビニルアルコールを有する20%のポリビニルイ
ソノナネート分散液5重量部、例1に記載したポ
リエトキシル化アルキルフエノール0.1重量部、
例1に記載したジアゾ縮合生成物2重量部及びク
リスタルバイオレツト0.5重量部を数時間水約100
容量部中で撹拌する。特殊なコーチングが施され
た耐水性のオフセツト印刷版材用の市販の支持体
材料を、遠心塗装法で前記溶液で被覆しかつ熱対
流炉中で約1分間乾燥する。画像に基く露光及び
含水タンポでふき取つた後、この複写材料は問題
なく油性インキで着色しかつオフセツト印刷機に
使用することができる。
リビニルアルコールを有する20%のポリビニルイ
ソノナネート分散液5重量部、例1に記載したポ
リエトキシル化アルキルフエノール0.1重量部、
例1に記載したジアゾ縮合生成物2重量部及びク
リスタルバイオレツト0.5重量部を数時間水約100
容量部中で撹拌する。特殊なコーチングが施され
た耐水性のオフセツト印刷版材用の市販の支持体
材料を、遠心塗装法で前記溶液で被覆しかつ熱対
流炉中で約1分間乾燥する。画像に基く露光及び
含水タンポでふき取つた後、この複写材料は問題
なく油性インキで着色しかつオフセツト印刷機に
使用することができる。
例 8
メシチレンスルホン酸塩として単離した、3−
メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウム
塩1モルと4,4′−ビス−メトキシメチル−ジフ
エニルエーテル1モルから成る水不溶性共縮合生
成物1重量部、アルキルスルフエートトリエタノ
ールアンモニウム塩4重量部、保護コロイドとし
て低分子量のヒドロキシエチルセルロースを有す
る、ビニルアムテート及びブチルアクリレートか
ら成る共重合体の50%の分散液2重量部及びマラ
カイトグリーン(C.I.42000)0.3重量部を、水100
容量部中でジアゾ化合物が均一に分散されるまで
激しく撹拌する。ポリビニルホスホン酸で前処理
した、陽極処理したアルミニウム支持体に遠心被
覆することによつて、高感光性印刷版材が得ら
れ、該印刷版材は水道水で簡単にブラツシングす
ることにより問題なく現像することができる。
メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾニウム
塩1モルと4,4′−ビス−メトキシメチル−ジフ
エニルエーテル1モルから成る水不溶性共縮合生
成物1重量部、アルキルスルフエートトリエタノ
ールアンモニウム塩4重量部、保護コロイドとし
て低分子量のヒドロキシエチルセルロースを有す
る、ビニルアムテート及びブチルアクリレートか
ら成る共重合体の50%の分散液2重量部及びマラ
カイトグリーン(C.I.42000)0.3重量部を、水100
容量部中でジアゾ化合物が均一に分散されるまで
激しく撹拌する。ポリビニルホスホン酸で前処理
した、陽極処理したアルミニウム支持体に遠心被
覆することによつて、高感光性印刷版材が得ら
れ、該印刷版材は水道水で簡単にブラツシングす
ることにより問題なく現像することができる。
例 9
ビニルアセテートとマレイン酸ジブチルエステ
ルから成る共重合生成物の53%の分散液16重量
部、例1に記載したポリエトキシル化アルキルフ
エノール0.1重量部、マラカイトグリーン(C.I.No.
42000)0.1重量部、緑色の銅フタロシアニン顔料
(C.I.74260)の40%の分散液0.4重量部、例4に記
載した陰イオン性湿潤剤の30%の水溶液0.6重量
部、例1に記載したジアゾ縮合生成物1重量部及
び水100重量部から成る混合物を、線材でブラツ
シングしたアルミニウム(ポリビニルホスホン酸
で前処理)に遠心法で施す。画像に基いて露出し
た後、この版材は水で現像することができる。こ
れによつて、数1000部の良好な印刷物が得られ
た。
ルから成る共重合生成物の53%の分散液16重量
部、例1に記載したポリエトキシル化アルキルフ
エノール0.1重量部、マラカイトグリーン(C.I.No.
42000)0.1重量部、緑色の銅フタロシアニン顔料
(C.I.74260)の40%の分散液0.4重量部、例4に記
載した陰イオン性湿潤剤の30%の水溶液0.6重量
部、例1に記載したジアゾ縮合生成物1重量部及
び水100重量部から成る混合物を、線材でブラツ
シングしたアルミニウム(ポリビニルホスホン酸
で前処理)に遠心法で施す。画像に基いて露出し
た後、この版材は水で現像することができる。こ
れによつて、数1000部の良好な印刷物が得られ
た。
例 10
陰イオン性乳化剤系(長鎖状アルキルスルホネ
ート)を有する22%のポリビニルベルザテート分
散液160重量部、例4に記載した陰イオン性湿潤
剤(30%の水溶液)36重量部、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)10重量部、燐酸(85%)12重量
部、例3に記載したジアゾニウム共縮合生成物40
重量部を、水で4000容量部にしかつ機械的に、乾
式ブラツシングしたアルミニウム(ポリビニルホ
スホン酸で前処理)に被覆した。層厚さ0.4g/
m2を有する版材は優れた感光性を示しかつ画像に
基いて露光した後、Na−アルキルスルホネート
(C16〜18)0.03%を加えた水で現像することができ
た。この版材は良好な親油性を示し、オフセツト
印刷機で1000部以上の印刷が可能であつた。
ート)を有する22%のポリビニルベルザテート分
散液160重量部、例4に記載した陰イオン性湿潤
剤(30%の水溶液)36重量部、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)10重量部、燐酸(85%)12重量
部、例3に記載したジアゾニウム共縮合生成物40
重量部を、水で4000容量部にしかつ機械的に、乾
式ブラツシングしたアルミニウム(ポリビニルホ
スホン酸で前処理)に被覆した。層厚さ0.4g/
m2を有する版材は優れた感光性を示しかつ画像に
基いて露光した後、Na−アルキルスルホネート
(C16〜18)0.03%を加えた水で現像することができ
た。この版材は良好な親油性を示し、オフセツト
印刷機で1000部以上の印刷が可能であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 芳香族ジアゾニウム塩の縮合物及び水不溶性
の巨大分子重合体の安定な分散液を含有する水性
被覆混合物を層支持体に施しかつ乾燥することに
よつて感光性複写材料を製造する方法において、
上記被覆混合物を0.1〜20重量%の分散液の濃度
で層支持体に施し、かつ45℃と上記ジアゾニウム
化合物の分解温度との間の温度で、光学的に均質
な層が形成されるまで乾燥させることを特徴とす
る、感光性複写材料の製法。 2 水溶性ジアゾニウム塩縮合物を使用する特許
請求の範囲第1項記載の製法。 3 被覆混合物がジアゾニウム塩縮合物1重量部
当り水不溶性重合体0.1〜30重量部を含有する特
許請求の範囲第1項記載の製法。 4 被覆混合物が分散液の製造及び安定化のため
に必要な量の他に、水不溶性重合体1重量部当り
表面活性剤0.01〜0.6重量部を含有する特許請求
の範囲第1項記載の製法。 5 被覆混合物が、分散液の製造及び安定化のた
めに必要な量の他に水不溶性重合体1重量部当り
保護コロイド0.01〜0.5重量部を含有する特許請
求の範囲第1項記載の製法。 6 被覆混合物がその非揮発性成分に対してジア
ゾニウム塩縮合物3〜70重量%を含有する特許請
求の範囲第1項記載の製法。 7 水不溶性重合体が、アルキル基中に4〜12個
の炭素原子を有するアルキルアクリレート又はア
ルキルメタクリレート、又はビニルエステルの単
独又は共重合体又はジブチルマインネートの共重
合体である特許請求の範囲第3項記載の製法。 8 表面活性剤が陰イオン性又は非イオン性表面
活性剤である特許請求の範囲第4項記載の製法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782834059 DE2834059A1 (de) | 1978-08-03 | 1978-08-03 | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5522791A JPS5522791A (en) | 1980-02-18 |
| JPH039455B2 true JPH039455B2 (ja) | 1991-02-08 |
Family
ID=6046122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9815579A Granted JPS5522791A (en) | 1978-08-03 | 1979-08-02 | Photosensitive copying material based on diazonium salt condensate and preparing same |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4288520A (ja) |
| EP (1) | EP0008038B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5522791A (ja) |
| AT (1) | ATE3475T1 (ja) |
| AU (1) | AU529388B2 (ja) |
| BR (1) | BR7904975A (ja) |
| CA (1) | CA1149217A (ja) |
| DE (2) | DE2834059A1 (ja) |
| DK (1) | DK326479A (ja) |
| FI (1) | FI792391A7 (ja) |
| IL (1) | IL57952A0 (ja) |
| PT (1) | PT70014A (ja) |
| ZA (1) | ZA793950B (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0051080A1 (en) * | 1980-11-03 | 1982-05-12 | Howard A. Fromson | Aluminum lithographic plate with visible image and process |
| US4436804A (en) | 1981-03-20 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive polymeric diazonium condensates and reproduction compositions and materials therewith |
| GB2127573A (en) * | 1981-08-24 | 1984-04-11 | Commw Scient Ind Res Org | Fine line photographic transfers |
| US4533620A (en) * | 1982-03-18 | 1985-08-06 | American Hoechst Corporation | Light sensitive co-condensates |
| JPS58162960A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-09-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法および平版印刷版用感光材料 |
| US4469772A (en) * | 1982-06-03 | 1984-09-04 | American Hoechst Corporation | Water developable dye coating on substrate with two diazo polycondensation products and water soluble polymeric binder |
| DE3328019A1 (de) * | 1982-09-21 | 1984-03-22 | Polychrome Corp., 10702 Yonkers, N.Y. | Mit wasser entwickelbare druckplatte |
| US4568628A (en) * | 1982-09-21 | 1986-02-04 | Polychrome Corporation | Water developable diazo printing plate composition with quaternary nitrogen stabilizer |
| DE3323343A1 (de) * | 1983-06-29 | 1985-01-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
| US4511640A (en) * | 1983-08-25 | 1985-04-16 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer |
| GB8405549D0 (en) * | 1984-03-02 | 1984-04-04 | Sericol Group Ltd | Screen printing compositions |
| US4539285A (en) * | 1984-03-14 | 1985-09-03 | American Hoechst Corporation | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography |
| DE3433911A1 (de) * | 1984-09-15 | 1986-03-27 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
| JPH0782236B2 (ja) * | 1984-10-12 | 1995-09-06 | 三菱化学株式会社 | 感光性組成物 |
| DE3504658A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| JPH01180540A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-18 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | 画像形成方法 |
| US5212041A (en) * | 1988-04-20 | 1993-05-18 | Hoechst Celanese Corporation | Water developable, negative working overlay color proofing system utilizing water soluble polymeric diazonium compound and water insoluble, water swellable, binder resin |
| US4914039A (en) * | 1988-04-20 | 1990-04-03 | Hoechst Celanese Corporation | Water developable, negative working overlay or transfer type diazo color proofing system |
| US5219705A (en) * | 1988-07-04 | 1993-06-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor of direct image type |
| US4985337A (en) * | 1988-11-15 | 1991-01-15 | Konica Corporation | Image forming method and element, in which the element contains a release layer and a photosensitive o-quinone diaziode layer |
| DE69512321T2 (de) * | 1994-06-16 | 2000-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc, Norwalk | Lithographische Druckplatten mit einer oleophilen bilderzeugenden Schicht |
| DE4430680A1 (de) * | 1994-08-29 | 1996-03-07 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches Gemisch |
| US5688627A (en) * | 1996-07-02 | 1997-11-18 | Precision Lithograining Corp. | Light sensitive diazonium compounds having both bisulfate and zincate parts, method of making the compounds and compositions utilizing them |
| US20040154489A1 (en) * | 2000-05-08 | 2004-08-12 | Deutsch Albert S. | Chemical imaging of a lithographic printing plate |
| US6691618B2 (en) | 2000-05-08 | 2004-02-17 | Pisces-Print Imaging Sciences, Inc. | Chemical imaging of a lithographic printing plate |
| US6315916B1 (en) | 2000-05-08 | 2001-11-13 | Pisces-Print Image Sciences, Inc. | Chemical imaging of a lithographic printing plate |
| TWI278012B (en) * | 2001-09-13 | 2007-04-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Pattern forming material and method of pattern formation |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE490100A (ja) * | 1948-07-09 | |||
| FR1023396A (fr) * | 1950-07-24 | 1953-03-18 | Plaque offset et procédé de fabrication | |
| BE529755A (ja) * | 1954-02-10 | |||
| US2871119A (en) * | 1955-02-21 | 1959-01-27 | Dietzgen Co Eugene | Diazotype reproduction material and method |
| US2980534A (en) * | 1956-12-17 | 1961-04-18 | Monsanto Chemicals | Photographic compositions and photographic elements |
| DE1105280B (de) * | 1957-03-27 | 1961-04-20 | Forsch Deutsche Ges | Positiv-Kopierschicht zur Herstellung von Druckplatten fuer den Offsetdruck auf photomechanischem Wege |
| US3091533A (en) * | 1958-05-22 | 1963-05-28 | Developer composition for a light | |
| NL267931A (ja) * | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
| US3247791A (en) * | 1960-05-06 | 1966-04-26 | Litho Chemical And Supply Co I | Surface treated lithographic plates and production thereof |
| NL281492A (ja) * | 1961-08-07 | |||
| FR1348383A (fr) * | 1961-08-07 | 1964-01-10 | Kalle Ag | Procédé et matériel pour l'impression sérographique |
| US3298852A (en) * | 1963-02-07 | 1967-01-17 | Dick Co Ab | Metal offset plate and method for manufacture |
| NL292176A (ja) * | 1963-05-01 | 1900-01-01 | ||
| FR1405876A (fr) * | 1963-05-01 | 1965-07-16 | Gevaert Photo Prod Nv | Procédé pour la confection d'un cliché d'héliogravure |
| US3382069A (en) * | 1964-06-18 | 1968-05-07 | Azoplate Corp | Planographic printing plate |
| US3765894A (en) * | 1967-04-03 | 1973-10-16 | Polychrome Corp | Elevated image printing plate |
| JPS492286B1 (ja) * | 1970-02-19 | 1974-01-19 | ||
| US3847614A (en) * | 1971-09-13 | 1974-11-12 | Scott Paper Co | Diazo photopolymer composition and article comprising carboxylated resin |
| DD96345A1 (ja) * | 1972-01-05 | 1973-03-12 | ||
| US3996056A (en) * | 1973-04-10 | 1976-12-07 | Andrews Paper & Chemical Co. | Diazotype reproduction layer formed from matrix of spheric particle polystyrene pigment and diazotype components |
| GB1523762A (en) * | 1975-02-25 | 1978-09-06 | Oce Van Der Grinten Nv | Photocopying materials |
| CA1091969A (en) * | 1975-06-19 | 1980-12-23 | Robert W. Hallman | Photosensitive unilayer film structure cast from a polymeric emulsion dispersion |
| US4154614A (en) * | 1975-07-02 | 1979-05-15 | Nippon Paint Co., Ltd. | Photosensitive diazo composition with graft copolymer for use in printing screen |
| US4186069A (en) * | 1978-01-30 | 1980-01-29 | Richardson Graphics Company | Photopolymerizable latex systems |
-
1978
- 1978-08-03 DE DE19782834059 patent/DE2834059A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-07-25 AT AT79102631T patent/ATE3475T1/de active
- 1979-07-25 EP EP79102631A patent/EP0008038B1/de not_active Expired
- 1979-07-25 DE DE7979102631T patent/DE2965434D1/de not_active Expired
- 1979-07-30 US US06/062,026 patent/US4288520A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-31 CA CA000332942A patent/CA1149217A/en not_active Expired
- 1979-07-31 FI FI792391A patent/FI792391A7/fi not_active Application Discontinuation
- 1979-08-01 IL IL57952A patent/IL57952A0/xx unknown
- 1979-08-01 PT PT70014A patent/PT70014A/pt unknown
- 1979-08-01 ZA ZA00793950A patent/ZA793950B/xx unknown
- 1979-08-02 JP JP9815579A patent/JPS5522791A/ja active Granted
- 1979-08-02 DK DK326479A patent/DK326479A/da unknown
- 1979-08-02 BR BR7904975A patent/BR7904975A/pt unknown
- 1979-08-03 AU AU49558/79A patent/AU529388B2/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0008038A1 (de) | 1980-02-20 |
| ZA793950B (en) | 1980-07-30 |
| FI792391A7 (fi) | 1981-01-01 |
| PT70014A (de) | 1979-09-01 |
| CA1149217A (en) | 1983-07-05 |
| US4288520A (en) | 1981-09-08 |
| IL57952A0 (en) | 1979-12-30 |
| JPS5522791A (en) | 1980-02-18 |
| DK326479A (da) | 1980-02-04 |
| AU529388B2 (en) | 1983-06-02 |
| DE2965434D1 (en) | 1983-07-07 |
| ATE3475T1 (de) | 1983-06-15 |
| BR7904975A (pt) | 1980-04-29 |
| DE2834059A1 (de) | 1980-02-14 |
| EP0008038B1 (de) | 1983-05-18 |
| AU4955879A (en) | 1980-02-07 |
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