JPH0782236B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH0782236B2
JPH0782236B2 JP59212677A JP21267784A JPH0782236B2 JP H0782236 B2 JPH0782236 B2 JP H0782236B2 JP 59212677 A JP59212677 A JP 59212677A JP 21267784 A JP21267784 A JP 21267784A JP H0782236 B2 JPH0782236 B2 JP H0782236B2
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acid
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な感光性組成物に関する。更に詳しく
は、高感度で、かつ保存安定性に優れ、地汚れの発生が
なく、しかも、良好な膜強度を有する感光層を与える感
光性組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来、芳香族ジアゾニウム塩、例えば、ジフエニルアミ
ン−４−ジアゾニウム塩と活性カルボニル化合物、例え
ばホルムアルデヒドを反応させたジアゾ樹脂は公知であ
る。特に印刷分野ではジアゾ樹脂の光分解による溶解性
の変化を利用して、オフセツト印刷用平版の製版用感光
性物質として広く利用されている。
ジアゾ樹脂をバインダー等と混合し、それを親水性の金
属、紙、好ましくはアルミニウム等に塗布することによ
りオフセツト印刷版が得られる。この版は、像様露光す
ることにより露光部が硬化し、現像液に不溶となり、こ
れを現像液により処理することにより版面上に親水性部
分と親油性部分が得られ水と脂肪性インキを用いて印刷
することができる。
高分子化合物とジアゾ化合物とからなる感光性物質は、
ジアゾ化合物単独のものと比較して、後でラツカー盛り
等の必要性がなく、安定した印刷版が得られる等優れた
性能を示すことが知られている。しかし、この感光性組
成物は高分子化合物が親水性であると、現像性やジアゾ
樹脂との相溶性は優れているものの保存安定性や感脂性
が悪く、実用上支承がある。他方、高分子化合物が親油
性であると、保存安定性や感脂性は優れているものの現
像性が、特に水系の現像液で悪く、高分子化合物の選択
が重要となる。
これに対して高分子化合物は種々のものが検討されてお
り、例えば、特開昭50-30604号公報に記載されているよ
うに、下記一般式IIで示される構造単位を含む重合体等
が提案されている感脂性の点で満足できるものではな
い。
（式中R4は水素原子又はメチル基を示し、R5は水素原
子、メチル基、エチル基又はクロロメチル基を示し、ｍ
は１〜10の整数を示す） また、特開昭56-4144号公報記載の水酸基含有モノマー
を特に含まないアクリレート系のポリマーは、感脂性の
点では前者の重合体より優れているものの感度や塗布性
の点で満足できるものではない。特開昭54-98614号公報
には、芳香族性水酸基を有する単量体を必須成分とする
高分子化合物が記載されており、感度、現像性、感脂性
及びと塗布性等諸性能のバランスはとれているものの厳
しい保存状態例えば、湿度80％、温度40℃等での安定性
は満足できるものではなかつた。
高分子化合物と同様にジアゾ樹脂も印刷版に大きな影響
を与えることから種々の検討がなされている。例えば特
公昭47-1167号公報あるいは米国特許第3300309号明細書
にはジアゾ基のアニオンとして有機スルホン酸塩等の有
機塩が記載されているが、露光時の可視画が見にくく使
いにくいという欠点がある。特開昭54-98613号公報には
ジアゾ基のアニオンとして、ハロゲン化ルイス酸塩等の
無機塩が記載されており露光時の可視画は優れているも
のの高温多湿下といつた苛酷な条件下での保存安定性の
点で満足できるものではなかつた。
以上のように高分子化合物とジアゾ樹脂に関しては種々
の検討はなされているものの、その組合せだけでは現像
性や保存安定性の点で満足できるものが得られ難いた
め、シユウ酸や酒石酸のような酸を添加したり（特開昭
53-3216号、同58-65430号）、高分子有機酸を添加した
り（特開昭56-107238号）、下塗り層を設けたり（特開
昭56-21126号）することによつて上記の欠点を解決する
方法等が知られている。
また一方、作業性等の点から、最近になつて印刷版の高
感度化が強く望まれており、ジアゾ感光材料の分野で
も、種々の検討がなされている。（例えば特開昭57-118
239号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、ジフエニルアミン−４−ジアゾニウム塩とカル
ボニル化合物との重縮合では、モル比、反応条件、置換
基等を選択すれば高感度ジアゾ化合物は得られるものの
現像性、保存安定性の点で難がある（特開昭59-78340
号）。また、ジフエニルアミン系以外の新規ジアゾ感光
材料も検討されているが（特開昭54-30121号、同58-127
923号、同58-62641号）、製造面、現像性の点でいまだ
十分ではない。
本発明の第１の目的は、保存安定性に優れ、かつ優れた
現像性を発揮する感光性組成物を提供することにある。
本発明の別の目的は、高感度でかつ製造上でも有利な感
光性組成物を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、膜強度に優れ、したがつてオ
ーバー現像性や耐刷力に優れた感光性組成物を提供する
ことにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明は感光性組成物に関する発
明であつて、 （ａ） 下記一般式I: （式中、R1、R2及びR3は水素原子、アルキル基又はアル
コキシ基を示し、Ｒは水素原子、アルキル基又はフエニ
ル基を示し、ＸはPF6を示し、ｎは１〜200の数を示す）
で表され、かつ該式におけるｎが６以上である樹脂を20
モル％以上含む感光性ジアゾ樹脂、 （ｂ） 水酸基を有する親油性高分子化合物、及び、 （ｃ） ポリアクリル酸若しくはその共重合体、ポリメ
タクリル酸若しくはその共重合体、又はカルボン酸変性
のノボラツク樹脂 を含有する組成物であつて、かつ該（ｃ）成分の含有量
が、該組成物の固形分中２〜８重量％であることを特徴
とする。
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、ジアゾ樹脂とし
て高分子量の特定のPF6塩を使用し、且つ、特定量の高
分子の有機酸を併用することによつて高感度で、かつ地
汚れが発生せず保存安定性が著しく改良された、更に
は、良好な膜強度を有する感光層を与えるジアゾ感光性
組成物が得られることを見出し本発明を完成したもので
ある。
以下本発明を具体的に説明する。
本発明におけるジアゾ樹脂は、前記一般式Ｉで示され、
しかも、該式におけるｎが６以上である樹脂を20モル％
以上、好ましくは、20〜60モル％含むものである。式
中、R1、R2及びR3のアルキル基及びアルコキシ基として
は、例えばＣ１〜５のアルキル基及びＣ１〜５のアルコ
キシ基が挙げられ、また、Ｒのアルキル基としては、Ｃ
１〜５のアルキル基が挙げられる。
かかるジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、フオトグラ
フイツク サイエンス アンド エンジニアリング（Ph
oto.Sci.Eng.）第17巻、第33頁（1973）、米国特許第20
63631号、同第2679498号各明細書に記載の方法に従い、
硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジアゾニウム塩とアルデ
ヒド類例えばパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒドとを重縮合させることによつて得
られる。
その際、ジアゾニウム塩とアルデヒド類をモル比で通常
1:0.6〜1:2、好ましくは、1:0.7〜1:1.5で仕込み、低温
で短時間、例えば10℃以下３時間程度反応させることに
より高感度ジアゾ樹脂が得られる。
かくして得られたジアゾ樹脂は、例えば、水酸基を有す
る親油性高分子化合物と混合することが有利である。こ
の目的に使用しうる水酸基を有する親油性高分子化合物
としては、例えば、下記のモノマーを含有する通常２万
〜20万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。
（１） 芳香族水酸基を有するモノマー、例えばＮ−
（４−ヒドロキシフエニル）アクリルアミド又はＮ−
（４−ヒドロキシフエニル）メタクリルアミド、ｏ−,m
−,p−ヒドロキシスチレン、ｏ−,m−,p−ヒドロキシフ
エニル−アクリレート又は−メタクリレート （２） 脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチル
メタクリレート 共重合する他のモノマーとしては （１） アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ酸等の
α，β−不飽和カルボン酸 （２） アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
−２−クロロエチル、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート等の（置換）アルキルアクリレート （３） メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の（置
換）アルキルメタクリレート （４） アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミ
ド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリ
ルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フエニルアクリル
アミド、Ｎ−ニトロフエニルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−フエニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類 （５） エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フエニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類 （６） ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類 （７） スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 （８） メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フエニルビニルケトン等のビニル
ケトン類 （９） エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフイン類 （10） Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有するモノマーと
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ樹脂、ノボラツク樹脂、天然樹脂等を添
加してもよい。
本発明に用いられる水酸基を有する親油性の高分子化合
物は、感光性組成物の固形分中に通常40〜99％重量％、
好ましくは50〜95重量％含有させる。また、ジアゾ樹脂
は通常１〜60重量％、好ましくは３〜30重量％含有させ
る。
本発明に使用される高分子の有機酸は、例えばポリアク
リル酸若しくはその共重合体、ポリメタクリル酸若しく
はその共重合体、又はカルボン酸変性のノボラツク樹脂
等である。これらの中で特にポリアクリル酸が好まし
い。これらの高分子の有機酸の分子量は1000〜10万であ
り、好ましくは2000〜３万である。本発明に用いられる
高分子の有機酸の量は２〜８重量％である。
本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
（１） 画像を可視画化することを目的とした染料 （２） 塗布性を改良するためのフツ素系界面活性剤や
アルキルエーテル類 （３） 塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑
剤 （４） 感脂化剤 （５） 安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対し0.01〜30重量％
である。
本発明の感光性組成物は適当な溶媒、例えばメチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、シク
ロヘキサノン、ジオキサン、酢酸エチル、ベンジルアル
コール、ジアセトンアルコール等に溶解して支持体に塗
布する。
かかる支持体としては、公知のいずれのものも使用でき
るが、アルミニウム板、その他の金属板、金属ラミネー
トフイルム等が好適であり、特にアルミニウム板が好ま
しく、塗布量としては、乾燥重量で通常約0.5〜約5g/m2
である。このとき、用いるアルミニウム板はあらかじめ
周知の方法に従い、砂目立て処理、陽極酸化処理、親水
性処理等の表面処理を行つておくことが好ましい。
砂目立て法としてはブラシ研摩及び電解エツチング法等
が用いられるが均質な砂目が得られる電解エツチングが
より好ましい。陽極酸化処理は、硫酸、リン酸及びその
混酸等で行われるが、陽極酸化被膜量としては２〜50mg
/dm2が好ましく、更に好ましくは５〜30mg/dm2である。
2mg/dm2未満では非画線部の耐摩耗性が弱く、耐刷力不
足となり、50mg/dm2超では画像再現性が不良となる。
親水化処理としては熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残り、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。ケイ酸ソーダ処理の条件とし
ては濃度0.1〜５％のメタケイ酸ソーダ溶液中に、温度5
0℃〜95℃で10秒間〜５分間浸漬して行われる。好まし
くは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間〜５分間浸漬
して処理される。
こうして製造した感光性平版印刷版上に、常法に従つて
被写物を重ねて露光するか電子線等を照射して画像の書
込みを行つた後、現像液を用いて現像すれば支持体上に
対応する画像を形成させることができる。露光に好適な
光源としては、メタルハライドランプ、水銀灯、カーボ
ンアーク灯等が挙げられる。
本発明に係る感光性印刷版の現像処理に用いられる現像
液は公知のいずれのものであつても良いが、好ましくは
以下のものがよい。すなわち本発明に係る感光性印刷版
を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒及び
／又はアルカリ剤を含む水溶液が挙げられる。ここに特
定の有機溶媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感
光性組成物層の非露光部（非画像部）を溶解又は膨潤す
ることができ、しかも常温（20℃）において水に対する
溶解度が10重量％以下の有機溶媒をいう。このような有
機溶媒としては上記のような特性を有するものでありさ
えすればよく、以下のもののみに限定されるものではな
いが、これらを例示するならば、例えば酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、
エチレングリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチ
ル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル；エ
チルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；エチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、
エチレングリコールモノフエニルエーテル、ベンジルア
ルコール、メチルフエニルカルビノール、ｎ−アミルア
ルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコール
類；キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素；メ
チレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。こ
れら有機溶媒は一種以上用いてもよい。これら有機溶媒
の中では、エチレングリコールモノフエニルエーテルと
ベンジルアルコールが特に有効である。また、これら有
機溶媒の現像液中における含有量はおおむね１〜20重量
％であり、特に２〜10重量％のときより好ましい結果を
得る。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としては、 （Ａ） ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は
第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤 （Ｂ） モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又は
トリエチルアミン、モノ又はジイソブロピルアミン、ｎ
−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、
モノ、ジ又はトリイソプパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン等の有機アミン化合物等が挙げら
れる。
これらアルカリ剤の現像液中における含有量は通常0.05
〜４重量％で、好ましくは0.5〜２重量％である。
また、保存安定性、耐刷性等をより以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有量は通常0.05〜４重量％で、好まし
くは0.1〜１重量％である。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。このような可溶
化剤としては、本発明の所期の効果を実現するため、用
いる有機溶媒より水易溶性で、低分子のアルコール、ケ
トン類を用いるのがよい。また、アニオン活性剤、両性
活性剤等も用いることができる。このようなアルコー
ル、ケトン類としては、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、メトキシブタノ
ール、エトキシブタノール、４−メトキシ−４−メチル
ブタノール、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることが好
ましい。また、活性剤としては例えばイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、ｎ−ブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンタデシルア
ミノ酢酸ナトリウム、ラウリルサルフエートナトリウム
塩等が好ましい。これらアルコール、ケトン類等の可溶
化剤の使用量については特に制限はないが、一般に現像
液全体に対し約30重量％以下とすることが好ましい。
本発明に係る感光性印刷版は、像様露光した後、上述の
現像液に接触させたり、あるいはこすつたりすれば、お
おむね常温〜40℃にて10〜60秒後には、感光性組成物層
の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非露光部の感光性
組成物が完全に除去されることになる。この場合、現像
能力は高く、また、経時現像性（保存安定性）も耐刷性
も良好で、更には色抜け、仕上り悪化等も生じることな
く、加えて公害及び労働衛生面からも問題はない。
以下、本発明のジアゾ化合物及びポリマー更に支持体の
製造例を示す。
（ポリマー１の合成） Ｎ−（４−ヒドロキシフエニル）メタクリルアミド10.0
g、アクリロニトリル25g、エチルアクリレート60g、メ
タクリル酸5g及びアゾビスイソブチロニトリル1.642gを
アセトン−メタノール1:1混合溶媒112mlに溶解し、窒素
置換した後60℃で８時間加熱した。
反応終了後液を水5l中にかくはん下注ぎ、生じた白色沈
殿を取乾燥してポリマー１を90g得た。
このポリマーをゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイ
ー（以下GPCと略記する）により分子量の測定をしたと
ころ、重量平均分子量は8.5万であつた。
（ポリマー２の合成） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート50.0g、アクリロ
ニトリル20g、メチルメタクリレート25g、メタクリル酸
5gと1.2gの過酸化ベンゾイルの混合液を、100℃に加熱
したエチレングリコールモノメチルエーテル300gに２時
間かけて滴下した。滴下終了後エチレングリコールモノ
メチルエーテル300gと過酸化ベンゾイル0.3gを加えてそ
のまま４時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈
して水5l中にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿を取乾燥
してポリマー２を93g得た。
このポリマーをGPCにより分子量の測定をしたところ、
重量平均分子量は6.5万であつた。
（ポリマー３の合成） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート45g、アクリロニ
トリル10g、エチルメタクリレート35g、メタクリル酸10
gと1.2gの過酸化ベンゾイルの混合液をポリマー２の合
成の場合と同様にエチレングリコールモノメチルエーテ
ルに滴下しポリマー３を90g得た。
このポリマーをGPCにより分子量の測定をしたところ重
量平均分子量で6.2万であつた。
（ジアゾ樹脂−１の合成） ｐ−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩14.5g（50ミリモ
ル）を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反応液
に1.5g（50ミリモル）のパラホルムアルデヒドをゆつく
り滴下した。この際、反応温度が10℃を超えないように
添加していつた。その後、２時間氷冷下かくはんを続け
た。
この反応混合物を氷冷下、500mlのエタノールに滴下
し、生じた沈殿を過した。エタノールで洗浄後、この
沈殿物を100mlの純水に溶解し、この液に6.8gの塩化亜
鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を過
した後エタノールで洗浄し、これを150mlの純水に溶解
した。この液に8gのヘキサフルオロリン酸アンモニウム
を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を取し
水洗した後、30℃、１昼夜乾燥してジアゾ樹脂−１を得
た。
このジアゾ樹脂−１をGPCにより分子量の測定をしたと
ころ、６量体以上が約50モル％含まれていた。
（ジアゾ樹脂−２の合成） ジアゾ樹脂−１と同様にし合成し、最後のヘキサフルオ
ロリン酸アンモニウムの代りに２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−ベンゾフエノン−５−スルホン酸15gを溶解し
た水溶液で処理しジアゾ樹脂−２を得た。
このジアゾ樹脂−２をGPCにより測定したところ、６量
体以上が約55モル％含まれていた。
（ジアゾ樹脂−３の合成） ４−ジアゾジフエニルアミン硫酸塩とパラホルムアルデ
ヒドの縮合比が1:0.6となるようにした以外は、ジアゾ
樹脂−１と同様にして合成し、ジアゾ樹脂−３を得た。
このジアゾ樹脂−３をGPCで測定したところ、５量体以
上が約12モル％であつた。
（アルミニウム板−１） アルミニウム板を３％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て脱脂し水洗し、１％塩酸、１％ホウ酸水溶液中25℃で
3A/dm2の電流密度で５分間電解エツチングし、水洗し、
0.9％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、水洗し、40％
硫酸水溶液中、30℃で1.5A/dm2の電流密度で２分間陽極
酸化し、水洗し、90℃の水pH8.5に25秒間浸漬し、水洗
乾燥してアルミニウム板−１を作成した。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例１〜３及び比較例１〜５ 上記製造例で得たアルミニウム板−１に次のような組成
を有する感光液−１又は感光液−２をホワラーを用いて
塗布した。その後85℃の温度で３分間乾燥し感光性平版
印刷版を得た。塗布量は乾燥重量で1.5g/m2であつた。
（感光液−１） （感光液−２） 得られた感光性平版印刷版を3kWの超高圧水銀灯で60cm
の距離から30秒間露光し、現像液−１中でソフパツトに
より軽くこすることで現像し、平版印刷版を得た。ま
た、その結果を表１に示した。
（現像液−１） 表１から、本発明の感光性組成物は、高感度で保存安定
性が極めて優れていることが判つた。
また、実施例１で得られた平版印刷版を使用し、枚葉オ
フセツト印刷機で上質紙に印刷したところ、18万枚の良
好な印刷物が得られた。
実施例４〜６及び比較例６〜８ 実施例１と同様にアルミニウム板−１に以下の組成の感
光液−３を塗布した。これを露光、現像して、感度及び
保存安定性を測定した。その結果を表２に示した。塗布
量は乾燥重量で1.5g/m2であつた。
（感光液−３） 以上の結果から、本発明の感光性組成物は、高感度で保
存安定性が極めて優れていることがわかる。
また、実施例６で平版印刷版を枚葉オフセツト印刷機に
かけて上質紙に印刷したところ20万枚まで良好な印刷物
が得られた。
実施例７〜８及び比較例９〜10 実施例１と同様に、アルミニウム板−１に以下の組成の
感光液を塗布した。塗布量は乾燥重量で1.5g/m2であつ
た。得られた感光性平版印刷版を実施例１と同様に露光
及び現像し、平版印刷版を得、感度を測定した。また、
この版の所定期間保存後の現像性を測定した。
一方、同様にして得られた感光性平版印刷版を、実施例
１と同様に露光し、現像液−１に10分浸漬後、現像液中
でソフパツトにより軽く10回若しくは30回縦方向にこす
り、段数若しくは画線部の変化を観察した。その結果を
表３に示した。
（感光液） 以上の結果から、本発明の感光性組成物はオーバー現像
性等膜強度も優れていることがわかつた。
比較例11 高分子の有機酸（例えばポリアクリル酸）の代りに低分
子の有機酸であるシユウ酸を使用した場合の例を示す。
実施例１と同様に以下の感光液をアルミニウム板−１に
塗布し、露光現像することによつて印刷版を得た。
（感光液） D.T（55℃）に３日間保存して枚葉印刷機にかけて印刷
したところ、両者共汚れが発生し、保存安定性に問題が
あることがわかつた。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の感光性組成物を使用すれ
ば、高感度で保存安定性に優れ、かつ地汚れの発生がな
く、そして膜強度、したがつてオーバー現像性、耐刷力
に優れた感光層が得られるという顕著な効果が奏せられ
る。
フロントページの続き (72)発明者 前田 佳宏 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 後藤 聖 東京都日野市さくら町１番地 小西六写真 工業株式会社内 (72)発明者 鈴木 則人 東京都日野市さくら町１番地 小西六写真 工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−78340（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−107238（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ） 下記一般式I: （式中、R1、R2及びR3は水素原子、アルキル基又はアル
    コキシ基を示し、Ｒは水素原子、アルキル基又はフエニ
    ル基を示し、ＸはPF6を示し、ｎは１〜200の数を示す）
    で表され、かつ該式におけるｎが６以上である樹脂を20
    モル％以上含む感光性ジアゾ樹脂、 （ｂ） 水酸基を有する親油性高分子化合物、及び、 （ｃ） ポリアクリル酸若しくはその共重合体、ポリメ
    タクリル酸若しくはその共重合体、又はカルボン酸変性
    のノボラツク樹脂 を含有する組成物であつて、かつ該（ｃ）成分の含有量
    が、該組成物の固形分中２〜８重量％であることを特徴
    とする感光性組成物。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3404366A1 (de) * 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPS62123444A (ja) * 1985-08-07 1987-06-04 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポジ型感放射線性樹脂組成物
US5215857A (en) * 1985-08-07 1993-06-01 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 1,2-quinonediazide containing radiation-sensitive resin composition utilizing methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate or methyl 3-methoxypropionate as the solvent
JPS63204248A (ja) * 1987-02-20 1988-08-23 Konica Corp 感光性組成物
US5182183A (en) * 1987-03-12 1993-01-26 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
JPH07117748B2 (ja) * 1987-04-21 1995-12-18 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2646579B2 (ja) * 1987-10-06 1997-08-27 三菱化学株式会社 感光性組成物
DE3814178A1 (de) * 1988-04-27 1989-11-09 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3819457A1 (de) * 1988-06-08 1989-12-14 Basf Ag Lichtempfindliche, negativ arbeitende offset-druckplatten
DE3828551C3 (de) * 1988-08-23 1995-02-23 Du Pont Deutschland Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
US5112743A (en) * 1989-05-24 1992-05-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates
EP0415422A3 (en) * 1989-08-31 1991-06-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for forming images
DE4022740A1 (de) * 1990-07-18 1992-01-23 Basf Ag Mit carbonylamino-n-alkancarbonsaeure-gruppen substituierte vinylaromaten und ihre verwendung
US5206349A (en) * 1990-08-10 1993-04-27 Toyo Gosei Kogy Co., Ltd. Aromatic diazo compounds and photosensitive compositions using the same
JP2652100B2 (ja) * 1991-12-17 1997-09-10 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE19518118C2 (de) * 1995-05-17 1998-06-18 Sun Chemical Corp Lichtempfindliche Zusammensetzung
DE19524851C2 (de) * 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
DE19525050C2 (de) * 1995-07-10 1999-11-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19644515A1 (de) * 1996-10-25 1998-06-25 Sun Chemical Corp Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
US6270938B1 (en) 2000-06-09 2001-08-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
KR20020077948A (ko) 2001-04-03 2002-10-18 삼성에스디아이 주식회사 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE565433A (ja) * 1956-12-28
US3064562A (en) * 1959-01-12 1962-11-20 Lithoplate Inc Acrylic acid monomer coatings for metal bases
NL132774C (ja) * 1960-10-07
US3679419A (en) * 1969-05-20 1972-07-25 Azoplate Corp Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material
US4123276A (en) * 1974-02-28 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JPS526202A (en) * 1975-07-04 1977-01-18 Oji Paper Co Photoosensitive lithographic press plate
LU75749A1 (ja) * 1976-09-08 1978-04-27
FR2400221A1 (fr) * 1977-08-09 1979-03-09 Kodak Pathe Compose de diazonium photosensible utile, en particulier, pour preparer des planches d'impression lithographique, procede de preparation de ce compose et plaque presensibilisee avec ce compose
JPS5498613A (en) * 1978-01-09 1979-08-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS55527A (en) * 1978-06-16 1980-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic plate
DE2834059A1 (de) * 1978-08-03 1980-02-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung
JPS5540406A (en) * 1978-09-14 1980-03-21 Oji Paper Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JPS56107238A (en) * 1980-01-31 1981-08-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition for photosensitive printing plate
JPS5865430A (ja) * 1981-05-27 1983-04-19 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性印刷版用感光性組成物
JPS582830A (ja) * 1981-06-30 1983-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物
JPS5862641A (ja) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4526854A (en) * 1982-09-01 1985-07-02 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Photoresist composition with water soluble bisazide and diazo compound
JPS5978340A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP0117013A3 (en) * 1983-01-04 1986-11-05 Sage Technology, Inc. Additive film and method
JPS603632A (ja) * 1983-06-21 1985-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US4614701A (en) * 1984-09-28 1986-09-30 Sekisui Fine Chemical Co., Ltd. Photocurable diazo or azide composition with acrylic copolymer having hydroxy and amino groups on separate acrylic monomer units

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