JPH0397718A - 反応生成物、その製造方法及びこれを使用して製造され得る感放射線混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はウレイド及びカルボキシル基を有する新規反応
生成物、この生成物の製造方法及びこの反応生成物と、
重合可能のエチレン性不飽和化合物と、必要に応じてさ
らに光重合開始剤とを含有し、化学線照射により遊離基
をもたらす感放射線混合物に関するものである。この放
射線照射により水、アルカリ水溶液に対して可溶性なら
しめられる感放射線混合物も本発明の対象をなす。

（従来技術） ボジチブ処理感光性組成物、すなわち放射線照射により
所定溶媒に対する溶解性が増大せしめられる化合物混合
物は公知である。再生技術に最も類繁に使用されるこの
種の化合物は、ナフトキノンジアジド及びその誘導体で
ある（「ヘミー　イン、ウンゼレル、ツァイトＪ　１７
　（　１９８３）　１０頁における１フラースの論槁及
び「アンゲヴアンテン、ヘミーＪ　９２　（　１９８０
）　９５頁におけるＯ．Ｗ．フォノレマンの論稿参照）
。放射線照射により、これら化合物は窒素を排除し、ウ
ォルフ転位して、疏水性ジアゾケトン単位をカルボキシ
ル基に転化し、この化合物乃至これを含有する混合物を
アルカリ水溶液に可溶性ならしめる。

またポジチブ処理感光性混合物を調製するに適するさら
に他の化合物は、芳香族或はヘテロ芳香族二トロ化合物
である。ジアゾケトン構造を有する前述化合物は、一般
的に低分子量化合物とじて感光性混合物中に存在するが
、上記感光性二トロ化合物は、低分子量化合物（西独出
願公開２２０７５７４、米国特許４１８１５３１号）と
して使用され得るのみなラス、また０−ニトロカルビノ
ールエステル構造のモノマーから得られる重合体或はこ
の七ノマーと他のビニル化合物との共重合体（西独出願
公開２１５０６９１号、２９２２７４６号及びヨーロッ
パ出聞公開１９７７０号）としても使用され得る。この
場合にも放射線照射によりアルカリ水溶液に対する溶解
性を高めるカルボキシル基が形成される。

例えば米国特許４４６９７７４号に開示されている、側
鉛に光化学的に分解され得るべ冫ゾインエステルを有す
るポジチブ処理剤についても同様の事態が生ずる。

カルボキシル基による可溶性化のさらに他の原理が、例
えばヨーロッパ出願公開６２４７４号、同９９９４９号
、米国特許４４１５６５２号に開示されている。この混
合物は水不溶性の結合剤、メルカプトカルボン酸、及び
放射線照射により遊離基をもたらす光重合開始剤を含有
する。この照射により結合剤にメルカプト力ルボン酸の
遊離基が結合され、これにより結合剤がアルカリ水溶液
に対して可溶性化される。

前述した各種原理の一つにより調製された感光性混合物
にわいては、多くてもわずか１個のカルボキシル基が、
吸収光１単位当たりで結合剤に結合乃至形成されるに止
まる。一般的にこの１単位の収率は明白に１以下である
。このためにいかなる場合にも長時間の露出時間を必要
とするにかかわらず、もたらされる溶解性の増大は一般
的に極めて僅かである。従って上述した感光性紐成物の
うち、ジアゾケトンのウォルフ転位に基づくもののみが
、実際的に使用され、しかもこれはポジチブオフセット
版及び集積回路製造用のボジチブレジストに使用されて
いるに過ぎない。その他の製品、ことに長時間の露出及
び半水性現像液を必要とするプリント回路板製造用のフ
ォトレジストフィルムにおいては使用され得ない。現像
液にいかに対応するかの問題は、将来次第に重要になる
筈である。

放射線ｐＢ射により感光性層の溶解性を増大させるため
の全く従来と相違する態様は、線照射により結合剤の平
均分子量が減少するように感光性層の組成を選択するこ
とである。このために、化学線により分解するべき基を
、重合体主鎖に含有させるる。このような紐成の例は、
０−ニトロベンズアルデヒド或はその誘導体を主鎖中に
有するアセタール含何ポリオキシメチレン重合体である
。

このような重合体及びこれを含有する感光性層は、例え
ば米国特許３９９１０３３号及び同４１８９６１１号に
開示されている。同様にして、ジカルボン酸及び２官能
性アルコールから形成される実質的にポリエステルであ
る重合体主鎖中に０−ニトロベンズアルデヒドのアセタ
ールを組入れることも可能である（米国特許４０８６２
１０号）。線照射により主鎖が分裂され、これにより分
子量が減少せしめられるものとして、主鎖にヘキサアリ
ールビスイミダゾール単位を含有する重合体もある（米
国特許４（ｉｉ）９０４０号）。

この主鎖の分裂とカルボキシル基の付加の両者を組合わ
せた態様が、ヨーロッパ特許出願公開５７１６２号公報
に記載されている。ここでは不飽和カルボン酸とベンゾ
イン単位を有するポリマーが主鎖中に存在せしめられる
。線照射によりベンゾイン車位が分鯉し、平均分子量が
減少せしめられ、同時に不飽和カルボン酸が分裂個所に
形成された遊［Ｊに付加されることによりアルカリ水溶
液における溶解性が増大せしめられる。

しかしながら、前述した原理の一つによる適当なボリマ
ーの主鉛分裂に基づくボジチブ処理感光性層は、感光性
が充分でない。さらに多くの場合、後露光加熱処理が必
要である。この理由から、従来このような組成物は全く
実用化されていない。

そこで、原画を透過して画像形成露光することにより重
合禁止部分を形成し、次いで第２段処理で非重合禁止部
分を重合させることにより、ポジチブ処理層を形成する
ための高感光度光重合性層を使用する試みがなされて来
た。このような線照射による重合禁止部分形成用に提案
されている化合物の例としては、ニトロソニ量体（西独
出頭公開２５４２１５１号）或は若干のＯ−ニトロ芳香
族化合物（同２７１０４１７号及びヨーロッパ出願公開
１０３１９７号）が挙げられている。しかしながら、こ
れらはすべて追加的な露光処理が必要であり、その他の
ポジチブ処理剤に比し全体的な処理時間が長くなる。

これまでにポジチブ処理感光性層の感光度を増大させる
ための最も成功した試みは化学的増感剤である。この場
合、線照射により最終的に感光性別の溶解ＶＬを第２段
加熱処理で増大させる反応を促追させる触媒が形成され
る。この触媒は一般的に（ｒ機ハロゲン化合物、ことに
ハロゲン原子含訂トリアジン化合物（例えば西独出願公
開２３０６２４８号）、芳香族二トロ化合物（例えばヨ
ーロッパ出Ｇｎ　公開７８９８　１号）、ジアゾニウム
塩或は芳香族イオジニウムもしくはスルホニウム塩（例
えば西独出願公開３６３０６７７号及び米国特許４４９
１６２８号）から光化学的に形成される強酸である。こ
の形成された酸は第２段加熱処理で酸不安定性基を分裂
さぜるために使用される。使用される酸不安定化合物の
柱類に応じて、この分裂により疏水性基から親水性基が
形成される（例えば上記西独出願公開３６２０６７７号
及び米国特許４４９１６２８号）か、或は分子量が低減
せしめられる。後者の場合の酸不安定性基として適当で
あるのは、例えばアセタール（西独出頭公開２３０６２
４８号、ヨーロッパ出願公開７８９８　１号、同８２４
６３号、米国特許３７７９７７８号）、オルトカルボン
酸エステル（ヨーロッハ出ｍ　公開７８９８　１’＋　
、１７’Ｊ　８２４６３’＋　）　、エノールエーテル
（ヨーロッパ出願公開６６２７号、同８２４６３号）、
シリルエーテル（西独出願公開３５４４１６５号、ヨー
ロッパ出願公開１３０５９９号）　或は冫リルエーテル
（ヨーロッパ出願公開１３０５９９号）の各基である。

これらは最善の場合、ネガチブ処理層の場合と同様の感
光度をもたらし得るが、化学的増感によりもたらされた
製品は集積回路製造用のレジストの分野においてのみ蛍
要なものとなっているが、必要とされる第２段加熱処理
は、他の分野では容認され得ない。

ボジチブ処理感光性混合物のさらに他の類型がヨーロッ
パ出願公開１０６１５６号公報に記載されている。この
混合物は主鎖に或る種の基を、末端に不飽和基をイｆす
る重縮合物と光重合開始剤との組合わせから成る。主鎖
を形成する上述の基は、芳香族炭化水素、ジアリールエ
ーテル、ジアリールスルフィド、ジアリールスルホン、
ジアリールアミン、ノアリールケトン及びジアリールジ
ケトンの各，！Ｉ（である。また末端基はアルケニル基
或は不飽和カルボン酸基である。線照射による溶解度の
増大は、遊離基より誘起される連鎖退化によるものと考
えられている。一般的には２５重量％にも及ぶ大Ｌ１の
開始剤含有量にかかわらず、ほどほどの感光度が達成さ
れるに過ぎない。

実施した諸例により、多くの分野で高感光度と易処理性
、ことに追加的処理の不要であることを兼ねそなえた新
規なボジチブ処理感光性層乃至そのための混合物に対す
る要望は依然として強いものがある。

そこで、この分野における技術的課題は、上述した特性
を有するポジチブ処理感光性混合物を開発し、その根底
をなす反応生成物をもたらすことである。

（発明の要約） しかるに上記の技術的課題は、０）少なくとも１１（Ｉ
ｔ　Ｍのジ或はポリイソシアナートを、（１ｉ）一般式
（１） Ｒ’　［−Ｒ−４１１　　　　　　　　（　Ｉ　）で表
わされ、Ｒが置換或は非置換アルカン、アレン、エーテ
ル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、エステル、ポ
リエステル、アミド或はポリアミドの二価基、Ｒ′が水
素、アルキル、アリール、アルアルキル、ヒドロキシア
ルキル、アミノアルキル、メルカプトアルキル、これら
の誘導体或は一価基Ｈ＋０−（ＣＩ２）．−ＣＨＲ”÷
．、或はその異性体、ｎが１から３の数値、ｍが１から
ＩＯの数ｆａ、Ｒ″が水素或はＣ　Ｉ”　Ｃ　４アルキ
ル、ＸがＯ１Ｓ或はＮＲ”　、Ｒ”が水素、アルキル、
アリール、アルアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノ
アルキル、メルカプトアルキル或はこれらの誘導体をそ
れぞれ意味する、少なくとも１種類のアミノ化合物及び
／或は 一般式（ＩＩ） で表わされ、Ｒ’１Ｒ２が互いに同じであるか或は異な
ってもよく、それぞれ置換或は非置換アルヵン、アレン
、エーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、エス
テル、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価基　
１７３が水素、アルキル、アＩＪ−ル、アルアルキル、
ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカプトアル
キル或はこれらの誘導体を意味する、少なくとも１種類
のアミノ化合物及び、 Ｇｉｉｌ少なくとも二塩基性の、少なくとも１種類のカ
ルボン酸無水物と、場合によってはさらに（Ｉｖ）構成
分（ｉｉ）とは異なるが、少なくとも１個のヒドロキシ
ル基或は窒素に少なくとも１個の水素を有するアミノ基
を有する有機化合物と、（ｉ）及びＧｉｉｌにおけるＮ
ＣＯ基と無水物基の合計個数が、（ｊＯおよびＧ→にお
ける基の個数と等しいか或はこれにょり少なくなるよう
に、また一般式（Ｉ）における構成分θ０のＸが０であ
る場合には構成分Ｇｖ）の少なくとも１種類が反応に関
与せしめられるように反応させることにより得られるウ
レイド及びカルボキシル含有反応生成物により解決され
得ることが本発明者らにより見出された。

（発明の構成） 上記ウレイド及びカルボキシル含有反応生成物は、感放
射線混合物用の原材料として使用するのに適する。こと
に線照射により水溶液溶解性が増大せしめられる皮膜を
形成するのに適当である。

本発明の特別の実施例によれば、この反応生成物は構成
分０》としてジイソシアナート、構成分（ｉｉ）として
１種類或は複数種類のヒドロキシアルキルアミン、及び
構成分（ｉｉｉ）として環式カルボン酸無水物を使用し
て製造される。

適当な構成分Ｇ→は、ことにモノアルコールならびに１
級及び２級モノアミンである。

本発明はまた上記反応生成物を製造するための３方法を
提供する。すなわち、第１工程において、ｔＬＵ類或は
複数種類のジもしくはポリイソシアナート０）を、少な
くとも１種類のアミノ化合物（ｉｉ）と、また選択的に
同時に少なくとも１個のヒドロキシル基或はアミノ基を
有する化合物ＧＯと反応させて、無水物基と反応し得る
尿素化合物を形成し、第２工程においてこれを少なくと
も１種類の酸１１！（水物０−のと反応させて酸官能化
尿素化合物を形成するか、或は第１工程において、１Ｐ
Ｉｌ類或は複数種類のジもしくはポリイソシアナート（
ｉ）を、ヒドロキシル払もしくはアミ７基を有する１種
類或は複数種類の化合物θ０と反応させて、イソシアナ
ート置換ウレタン或は尿素化合物を形成し、第２工程に
おいてこれを少なくとも１種類のアミノ化合物θ０と反
応させて、無水物基と反応可能の尿素化合物を形成し、
第３工程においてこれを少なくとも１種類の酸無水物（
ｉｉｉ）と反応させて酸官能化尿素化合物を形成する。

本発明は、さらに（ａ）ウレイド及びカルボキシル含有
反応生成物、（ｂ）少なくとも１種類のエチレン性モノ
不飽和もしくはポリ不飽和化合物、必要に応じ、てさら
に、（Ｃ）光重合開始剤もしくは開始剤組成物及び必要
に応じてさらに（ｄ）添加剤及び助剤から成る感放射線
混合物であって、上記組成分（ａ）が ０）少なくともＩＷ類のジ或はポリイソシアナートを、 （ｉｉ）一般式（Ｉ） Ｒ’　ＩＩＮ−Ｒ−ＸＩ　　　　　　　　　　（　Ｉ　
）で表わされ、Ｒが置換或は非ｒａ換アルカン、アレン
、エーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、エス
テル、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価基　
Ｒ　Ｉが水素、アルキル、アリール、アルアルキル、ヒ
ドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカプトアルキ
ル、これらの誘導体或は一価基■＋Ｏ−（ＣＨ２）．−
ＣＩＩＲ”÷１、或はその異性体、ｎが１から３の数値
、ｍが１からＩＯの数値、Ｒ＃が水素或はＣ　Ｉ”　Ｃ
　ａアルキル、Ｘがｏ，　ｓ或はＮＲ”　　Ｒ”が水素
、アルキル、アリーノレ、アノレアルキル、ヒドロキシ
アルキル、アミノアルキル、メルカプトアルキル或はこ
れらの誘導体をそれぞれ意味する、少なくともｌｆｆｆ
ｌ類のアミノ化合物及び／或は 一般式（ＩＩ） で表わされ　Ｒｌ、Ｒ２が互いに同じであるか或は異な
ってもよく、それぞれ置換或は非置換アルカン、アレン
、エーテノレ、ポリエーテノレ、アミン、ポリアミン、
エステル、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価
基、Ｒ３が水素、アルキル、アリール、アルアルキル、
ヒドロキンアルキル、アミノアルキル、メルカプトアル
キル或はこれらの誘導体を意味する、少なくとも１種類
のアミノ化合物及び、 Ｇｉａ少なくとも二塩基性の、少なくとも１種類のカル
ボン酸無水物と、場合によってはさらにＧｖ）ＩＮ成分
（ｉｉ）とは異なるが、少なくとも１個のヒドロキンル
基或は窒素に少１４　（とも１個の水素を有するアミノ
基を有する有機化合物と０）及び（ｉｉｉ）におけるＮ
ＣＯ基と無水物基の合計個数が、（ｉｉ）及び（ｉｖ）
における基の個数と等しいか或はこれより少なくなるよ
うに、反応させることにより得られるウレイド及びカル
ボキシル含有反応生成物であることを特徴とする混合物
を提供する。

本発明はことに線放射により水或はアルカリ水溶液にお
ける溶解性が増大せしめられる感放射線性混合物をもた
らす。

この感放射線混合物における好ましい光重合開姶Ｍ（ｃ
）は、ペンゾフェノンもしくはその誘導体、ヘキサアリ
ールビスイミダゾール誘導体もしくはＮ−アルコキシビ
リジニウム塩或はこれらの混合物である。

また好ましいエチレン性不飽和化合物（ｂ）は、α，β
一エチレン性不飽和カルボニル化合物、例えばアクリラ
ート或はメタクリラートである。

本発明反応精製物は、尿素化合物或は尿素／ウレタン化
合物の製造のための公知の方法により、過剰情のＮｉｌ
及びＯＨ基化合物θＱ及び必要に応じてさらに化合物（
ｉｉ）を、イソシアナート化合物０）に付加することに
より製造される。この場合イソシアナートと反応する（
ｉｔ）及びＧｖ）における基の数はイソシアナート基１
個に対して１．０１から６個、ことに１．５から４個で
ある。化合物６→が添加される場合、イソシアナート化
合物０）は、化合物θ０及びＧＶ１と同時に反応させて
もよく、また任意の順序で段階的に反応させてもよい。

その後で、無水物基と反応し得る残存基のすべて或は若
干のもの（ｌから４個が好ましい）を、同様に公知の方
法により、構成分Ｇｉｉｌの無水物基と反応させて、カ
ルボン酸化合物を形成する。

生成物の処理を容易にするために、反応は不活Ｖｌ：溶
媒中で行うのが有利である。この目的のため、ことに大
気圧下沸点１５０℃以下の溶媒、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、エチルアセタート、プチルアセタート
、テトラヒドロフラン、トルエン、トリクロルエタンな
どが適当である。さらに他の適当な溶媒は、液状のエチ
レン性不飽和化合物（ｂ）自体である。

イソシアナート基の反応温度は、一般的にＯから１（ｉ
ｉ）゜Ｃ１ことに２０から７０℃の範囲である。

反応を促進するため、例えばホウベン／ワイルの「メト
ーデン、デル、オルガニツシェ、へミ−Ｊ　　（１９６
３年シュツットガルトのゲオルク、チーメ、フェルラー
ク社刊）ＸＩＶ／２巻、６０頁以ＦＭ及びウルマンの「
エンチクロペディー　デル、テヒニッシェン、ヘミーＪ
　　（１９８１）　１９巻３０６頁に記載されている触
媒を使用することができる。ことに好ましいのは、錫含
有化合物、例えばジｆチル錫ジラウラートである。

触媒は一般的に反応干与体全量に対して０．（ｉｉ）１
から２．５重景％、ことに０　．（ｉｉ）５から１．５
重量％の蚤で使用される。

感放射線混合物を安定ならしめるため、ｏ．ｏｏｔから
２重蚤％、ことに０．（ｉｉ）５から１．０重量％の重
合禁止剤を添加することができる。これは熱重合禁止の
ための慣用の剤、例えばヒドロキノン、ヒドロキノンモ
ノアルキルエーテル、２，６−ジーｔ−ブチルフェノー
ル、Ｎ−ニトロンアミン、フエノチアノン或は燐酸エス
テルタイプの化合物テある。

このようにして得られた精製物は、次いで少なくとも１
種類の酸無水物Ｇｉ６と反応せしめられて、カルボン酸
化合物を形成する。この化合物のため、無水物に対して
反応性の基は、当量或は過剰ａで使用される。１：１か
ら４：１の当量割合で使用するのが好ましい。反応を促
進するため、ルイス酸或はルイス塩基タイプの触媒を０
．０１　から２重量％の量で使用することができる。好
ましいのは４−（Ｎ．Ｎ−ジメチルアミ／）一ビリジン
及びＮ−メチルイミダゾールである。反応は２０から１
２０゜Ｃの温度で行われ、必要に応じて溶媒を使用する
ことができる。

ことに溶媒を使用せずに反応を行う場合には、室温で固
状もしくは著しく粘稠な生成物は冷却前に稀釈される。

この反応後に使用される溶媒としては、前述したものの
ほか、アルコール性稀釈剤、例えばメタノール、エタノ
ール、インプロバノールなども使用可能である。

以下において本発明反応生成物を製造するための構成分
及びこれを感放射線混合物に使用する場合についてさら
に詳細に説明する。

構成分０）乃至０→の反応のための適当な化合物は、例
えば以下のものである。

イソシアナート０）として使用されるべき適当な化合物
は、アルコール或は１級もしくは２級アミンと反応し得
るイソシアナート基を少なくとも２個有するものであれ
ばどのような化合物でもよい。ことにジイソシアナート
ジフェニルメタン、ジイソシアナートトルエン、ヘキサ
メチレンジイソシアナート及びインホロンジイソシアナ
ートならびにインシアヌラート及びビウレットタイプの
これらのオリゴマーが好ましい。

適当なアミノ化合物θ０は以下の一般式（Ｉ）及び／或
は（ＩＩ）で表わされるものである。

Ｒ’ｌｌＮ−Ｒ−ＸＨ　　　　　　　　（Ｉ　）一般式
（Ｉ）においてＲは置換或は非置換アルカンの二価基、
例えば炭素原子２からｌＯ個のもの、すなわち−（ＣＩ
’ｌＪｐ　（　ｐは２から１０の数値を示す）　，−（
：Ｉ１２−Ｃ（Ｃ｝１．１１）２−Ｃｌ＋．一或は一Ｃ
Ｈ（ＣＢ３）−ＣＨ２−、アレンの二価基、例えばフェ
ニレン、置換アレンの２価基、例えば−（ＣＨ２），−
ＣｔＪ．，（ＯＨ）−　（　ｒは１から６の数値ことに
２を示す）、エーテルの二価基、例エハ−（ＣＢ２−Ｃ
ＨＲｌｖ−０）−ＣＨ２−ＣＨＲ１ｖ（　ｑ　ハ１　カ
ラ５　（’）数値　ＲＩＶは水素或は炭素原子１から４
個のアルキルを示す）、アミンの二価基、例えば炭素原
子２から２０個の−（ＣＬ）３−ｆｆ（ＣＩ１３）−（
ＣＦ？２）３−、ポリアミンの２ｆＳ基、例えば−（Ｃ
Ｈ２−ＣＨ２−ＮＨ）。−（Ｏは２から５の数値を示す
）、炭素原子２から５個のエステルの二価基、例えば−
（ＣＨ２）２−ＣＯＯ−（ＣＨ２）．　（　ｓは２から
６の数値を示す）、炭素原子４から２０個のアミド、例
えば＝（ＣＨ２）２−ＣＯＮＨ−ＣＩ’ｌ２〜或は−（
ＣＨ２）２−ＣＯＮＢ−（ＣＨ２）５−Ｎ［ＩＯＣ−（
Ｃ■２）２−を意味する。

またＲ′は水素、炭素原子１から３０個、ことに１から
１０個のアルキル、例えばメチル、エチル、プロビル、
ブチル及びこれらの異性体、シクロヘキシル、炭素原子
６から！８個のアリール、例えばフェニル、炭素原子７
から２０個のアルアルキル、例えばベンジル、１−メチ
ル−３−フェニルプロビル、１−フェニルエチル、炭素
原子２からＩＯ個のヒドロキシアルキル、例えばヒドロ
キシエチル、ヒドロキシプロビル、ヒドロキシルブチル
、炭素原子２からｌＯ個のアミノアルキル、例えばアミ
ノエチル、アミノブロビル、ジメチルアミノブチル、ノ
メチルアミノネオベンチル、炭素原子２から１０個のメ
ルカプトアルキル、例えばメルカプトエチル或はこれら
の誘導体、すなわちアルキル、ハロゲン、ニトロ、ニト
リル、カルポキシル、エステル、アシル、ＯＨ１アミノ
、スルホ或はジアゾで置換された上記の基或は一価基１
１　−｛−　０−（Ｃｌｌ２　）ｎ　−Ｃ　Ｉ１　Ｒ″
÷，（ＩＩは１から３、ｍは１から１０の数値ヲ、Ｒ＃
はｌｉ或はＣＩ−Ｃ４アルキルを示す）或は単に環式エ
ーテル、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド
或はテトラヒドロフランの簡単な付加或は重付加により
得られるその異性体、例えばヒドロキシエチルオキシエ
チルを意味する。

ＸがＯ１Ｓ或はＮ　Ｒ　”を意味する。このＲ＃′は水
素、炭素原子１からｌＯ個を有するアルキル、例えばメ
チル或はエチル、フェニル或はナフチルのよ？なアリー
ル、ベンジル或はフェニルエチルのようなアルアルキル
、ヒドロキシアルキル、ア■ノアルキル或はメルカブト
アルキル（ただしこれらアルキルは１から１０個の炭素
原子を有するもの，である）、或はＲ′について上述し
た類型の上記基の誘導体を意味する。

一般式１！’ＮＨ−Ｒ−ＸＩの化合物の具体例はエチレ
ンジアミン、ブタンジアミン、ネオペンタンジアミン、
ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシエチレンジ
アミン、Ｎ一エチルエチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、モノイソプロバノールアミンなどである。こと
に好ましいのは、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、ジイソプ口バノールアミン、ネオペンタノールアミ
ン、エチルイソブロバノールアミン、ブチルエタノール
アミン及び２−メルカプトエチルアミンである。

において　Ｒｌ、Ｒ２は互いに同じでも異なってもよく
、それぞれ置換或は非置換の炭素原子２から４個を仔す
るアルカンの二価基、例えば−（ＣＩＩ２）ｔ（ｔは１
から４の数値を示す）、例えば０−フェニレンのような
アレンの二価基、炭素原子２から４個をａするエーテル
の二価基、例えば−ＣＨａ−０−ＣＨ２−を意味する。

上記式中のＲ３は水素、アルキル、アリール、アルアル
キル、ヒドロキシアルキル、メルカプトアルキル或はＲ
ｌにつき前述した類型のその誘導体を竜味する。

一般式（Ｉ［）の化合物として好ましいのは、ピベラジ
ン及びｌ−（２−ヒドロキシエチル）ビベラジンである
。

上述した各化合物Ｑｉ）の混合物も同様に使用可能であ
る。

適当な酸無水物ＯｉＯは、少なくとも２個のカルボン酸
基を有するあらゆる化合物の無水物である。

ことは好ましいのは環式カルボン酸、例えばフタル酸、
マレイン酸、トリメリット酸、ビロメリット酸及びペン
ゾフェノンテトラカルボン酸の無水物である。

少なくとも１個のヒドロキシル基或は少なくとも１個の
水素を窒素部分に有するアミ７基を有し、上記構成分θ
０とは異なる選択的構成分６０は、アルコール或は第１
もしくは第２アミンである。

好ましいのは炭素原子１から６個を有するアルカンの単
官能性アミン或はアルコールを使用することである。ポ
リアルコールの使用も可能である。

本発明反応生成物を製造するために使用される構成分（
＋）乃至６切は、本発明による感放射線混合物が水或は
アルカリ水溶液に溶解可能であるように使用される。反
応生成物は３（ｉｉ）■（　ＫＯ）Ｉ／ｇ）まで、こと
にＩＯから２（ｉｉ）ｗｇ（ＫＯ■／ｇ）の酸価を有す
る。また分子量は良好なフィルム形成特性をもたらし得
るように選択される。

本発明による感放射線混合物を製造するために、上述し
た本発明反応生成物（ａ）と共に使用されるべきエチレ
ン性モノ不飽和或はポリ不飽和化合物（ｂ）は、少なく
とも１個のエチレン性二重結合を有する低分子量化合物
或はオリゴマー化合物である。この化合物としては、上
記尿素化合物（ａ）と相客性を有するものが選択される
。好ましいのはα．β一不飽和力ルボニル化合物、例え
ばアクリラート及びメタクリラートである。このエチレ
ン性不飽和化合物（ｂ）は、感放射線混合物全滑に対し
て、０．１から４０重量％、ことに５から４０重量％の
量で含有される。

本発明による感放射線混合物中に添加されるべき光重合
開始剤（ｃ）は、感光性の光重合可能記録材料に慣用さ
れている、それ自体公知の開始剤乃至開始剤組成物であ
る。好ましいのはベンゾイン、ベンゾインエーテル、こ
とにペンゾインアルキルエーテル、置換ベンゾイン、そ
のアルキノレエーテノレ、例えばα−メチノレベンゾイ
ンアノレキノレエーテノレ或はヒドロキシメチルベンゾ
インアルキノレエーテノレ、ベンジル、ペンジルケター
ル、ことにベンジルジメチルケタール、有効な光重合開
始剤として公知のアシルホスフィン酸化物、例えば２．
４．８−｝リメチルベンゾイルジアリールホスフィンオ
キシド、ペンゾフェノン、その誘導体、例えば４．４′
−ジメチルアミノベンゾフエノン、ミヒラーケトン誘導
体、アントラキノン、置換アントラキ／ン、アリール置
換イミダゾール、その誘導体、例えば２．４．５−トリ
アリールイミダゾールニ量体、チオキサントン誘導体、
活性開始剤アクリジンもしくはフェナシン誘導体、Ｎ−
アルフキシピリジニウム塩及びその誘導体である。適当
な光重合開始剤としては、さらにジアゾニウム塩、例え
ばｐ−フェニルアミノベンゼンジアゾニウムへキサフル
オルホスファート、ヨードニウム塩、例えばジフェニル
ヨードニウム、スルホニウム塩、例えばトリフェニルス
ルホニウムへキサフルオルアルセナートが挙げられる。

開始剤組成物の例としては、上述した開始剤と増感助剤
或は活性化剤、ことに３級アくン、例えばトリエタノー
ルアミン或は主ヒラーケトンとの組合わせ混合物が挙げ
られる。さらに２，４．５−トリアリールイミダゾール
ニ量体及びミヒラーケトン或はトリフェニルメタン染料
ロイコ塩基との組合わせ混合物も使用され得る。適当な
光重合開始剤或はその組成物の選択は当業者には周知の
ことである。ことに好ましい開始剤はミヒラーケトン、
ペンゾフェノン、ヘキサアリールビスイミダゾール誘導
体及びＮ−アルコキシビリジニウム塩である。これら開
始剤混合物を使用することも極めて有効である。これら
開始剤或はその組成物は、感放射線混合物に対して０．
１からｌＯ重爪％の量で使用される。

本発明による感放射線混合物に添加されるべき添加剤及
び／或は助剤（ｄ）として好ましいのは、例えば染料及
び／或は顔料、ホトクロム化合物及びこれを含有する組
成物、感光度制御剤、可塑剤、流動性制御剤、つや消し
剤、滑剤、塩基性組成分などである。コントラスト剤の
みならず層補強剤としても作用する染料及び／或は顔料
の例としては、ことにブリリアントグリーン（Ｃ．！．
４２０４０）、ビクトリアピュアブルーＦＧＡ１　ビク
トリアビュアブルー８０　（Ｃ．１．４２５９５）　、
ビクトリアブルーＢ　（Ｃ．１．４４０４５）　、ロー
ダミンｅ　Ｇ　（Ｃ．Ｉ．４５１６０）、トリフェニル
メタン染料、ナフタールイミド染料及び３′−フェニル
ー７−ジメチルアミノ−２．２’−スピロジ（２Ｈ−１
−ペンゾピラン）が挙げられる。ホトクロム剤或は変色
剤、すなわち光重合処理を阻害することなく可逆的或は
非可逆的に化学線照射により色の変化をもたらす剤釘ｌ
成物は、例えばロイコ染料と適当な活性化剤との組合わ
せ混合物である。このロイコ染料としては、トリフェニ
ルメタン染料ロイコ塩基、例えばクリスタルバイオレッ
トロイコ塩基、マラカイトグリーンロイコ塩基、ロイコ
塩基ブルー　口イコバラローズアニリン、ロイコパテン
トフノｌ／−ＡもしくはＶであり、ローダミンＢ塩基を
使用することもできる。このホトクロム剤に使用される
活性化剤として適当であるのは、ことに化学線照射によ
りハロゲン遊離基を除去する有機ハロゲン化合物或はヘ
キサアリールビスイミダゾールである。適当な色変化剤
組成物は西独出願公開３８２４５５１号公報にも記載さ
れているが、ことに遊離であるのは、線放射により色の
彩度を減少させるもの、例えばスダン染料、ボリメチン
染料或はアゾ染料と適当な光重合開始剤との組合わせ混
合物である。適当な感光度制御剤は、９−ニトロアント
ラセン、１０．　１０’−ビスアントロン、フェナジニ
ウム、フェノキサジニウム、アクリジニウム或はフェノ
チアジニウム東料、ことにこれらと穏和な還元剤、１，
３−ジニトロベンゼンなどとの組合わせ混合物である。

適当な可塑剤は、周知慣用の低或は高分子ｎエステル、
例えばフタラートもしくはアジバート、トルエンスルホ
ンアミド或はトリクレシルホスファートである。適当な
塩基性組成分は、アミン、ことに３級アミン、例えばト
リエチノレアミンもしくはトリエタノーノレアミン、或
はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物も
しくはカルボナートである。これらの添加剤及び／或は
助剤は、周知慣用の有効量で使用されるが、一般的に感
放射線混合物全量に対して３０ｆｆ（ｉｉｔ％、ことに
２０重皿％を超えるべきではない。

多くの場合、本発明感放射線混合物には、酸性ボリマー
　ことにエステル化スチレン／無水マレイン酸共重合体
、スチレン／メチルメタクリラート／エチルアクリラー
ト／メタクリル酸共重合体、メチルメタクリラート／エ
チルへキンルアクリラート／アクリル酸もしくはメタク
リル酸共重合体を添加することが好ましい。このような
酸性ボリマーは、感放射線混合物全量に対して、１−４
０重量％、ことに５−３０重λ％の割合で使用される。

皮膜乃至被覆は、上述した感放射線混合物を溶媒に溶解
させ、この混合物溶液を恒久的或は暫定的２１（板上ド
クタブレードを使用し或は使用することなく塗布、遠心
力塗布、ローラ塗布、その他の方法により形成され得る
。

溶媒としては、芳香族炭化水素、低分子量ケトン、アル
コール、エーテル、エステル、塩素化炭化水素などが適
当である。

本発明による感放射線被覆のための適当な基板は、印刷
及びエレクトロニクス産業における回路板の製造に慣用
されているどのような材料のものでもよい。しかしなが
ら、重要な条件は、塗布に使用される感放射線混合物に
対して不活性であること、すなわち反応性でないことで
ある。

適当な支承材料としては、スチール、アルミニウム合金
、機械的、化学的或は電気化学的に粗面化されたアルミ
ニウム、シリコン，ポリエステルその他のプラスチック
スである。この場合の層厚さは広い範囲で変えられ得る
が、感放射線混合物が例えば凸版乃至凹版印刷用版体の
ために使用される場合には一般的に５０から５（ｉｉ）
μ■の範囲であり、プリント回路板作製用フォトレジス
トのためには２０から１（ｉｉ）μｍの範囲であり、半
導体材料形成用フォトレジストのためには０．３から５
μ■の範叩である。この感放射線混合物がオフセット印
刷版体作製のために使用される場合、皮膜は乾燥層重■
が０．５から５ｇ／１となるような厚さに形成される。

本発明による感放射線混合物は、印刷版体或はレジスト
パターン形成のためにｔｉ用の態様で有利に使用され得
る。このために感放射線記録層は、フォトレジストフィ
ルム及び積層材料の場合、化学線による画像露出処理に
付される。このための適当な根源は、慣用のＵＶ蛍光灯
、高圧、中圧、低圧の水銀灯、超化学線蛍光灯、バルス
キセノン灯、さらにはＵＶレーザ、アルゴンレーザなど
である。これら線源から放射される線の波長は、一般的
に２３０から４５０ｎｍ１　ことに３（ｉｉ）から４２
０ｎｓの範囲であり、光重合性記録層中に含有される光
重合開始剤の吸収特性に適合せしめられる。

画像形成露光後、版体或はレジストパターンの記録層に
おける線照射部分は、水或はことにアルカリ水溶液によ
り洗除により現像される。この現像は、洗浄、噴射、塗
擦などにより行われ得る。

本発明によるこの記録素子、広い露出許容度及び極めて
低い耐過浣ゆ感度を有する。適当な幻想液は、アルカリ
性物質、例えばボラックス（硼砂）、燐酸水素二ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、アルカリ金属水酸化物、或は有
機塩基、例えばジモシくはトリエタノールアミンを水に
溶解させた、最適ｐＨ値、一般的には８−１４、ことに
９−１３に設定されたアルカリ水溶液である。この水性
アルカリ現像液は、さらに緩衝塩、例えば水溶性のアル
カリ金属燐酸塩、珪酸塩、硼酸塩、醋酸塩或は安息香酸
塩を含有することができる。現像液のさらに他の含有成
分として、湿潤剤、ことに非イオン性湿潤剤及び水溶性
ポリマー、例えばナトリウムカルボキンメチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ポリナトリウムアクリラー
トなどがある。零発明記録素子は一般的に水或はアルカ
リ水溶液により洗除され得るが、必須的でないにしても
少量の水溶性有機溶媒、例えば脂肪族アルコール、アセ
トン或はテトラヒド口フランを含有するのが好ましい。

本発明感放射ｆ；！混合物は、線放射に対して極めて高
い感度を有する場合、例えばエレクトロンビーム或はＸ
線によりパターン形成され得る。この場合には一般的に
別途の開始剤組成物を添加して対応し得る。これに対し
、本発明混合物が、従来の印刷版体及びフォトレジスト
作製におけるように、可視光線或は紫外線でパターン形
成される場合には、使用される光源から放射される光の
スペクトルに適合する感度の適当な開始剤を使用するべ
きである。

本発明による感放射線混合物は、ボジチブ処理用として
は極めて高い感光度を示し、これは同様の厚さの市販ネ
ガチブ処理用のものに匹適する。

従って、従来の多くのポジチブ処理用感光剤の場合に必
要であった加熱処理のような追加的後処理を必要としな
い。同様にして、使用される現像液も、ネガチブ処理層
に使用されるものと同じで差支えなく、従来のネガチブ
処理方式に完全に対抗し得る。本発明による感放射線記
録層は、多重露出に極めて適し、多くの用途において処
理工程を省餡し得る。多くのボジチブ処理剤を含むすべ
ての光重合性剤において多重露出は、基本的理由から行
われ得なかった。しかるに本発明感放射線混合物は、ま
た短い露出時間でのボジチブ処理剤として作用するが、
長い露出時間で架橋可能な剤として作用する特性を有す
る。この効果は、本発明混合物が５重量％以上のエチレ
ン性モノ不飽和或はポリ不飽和化合物（ｂ）を含有する
場合にことに発揮される。この特性は、第１の短時間の
画像形成露光後、現像液中で線リ．ａ射部分を洗除して
から、署しく長時問の第２の露光工程で架橋反応を行う
ために利用されることができる。これにより例えば印刷
版体の機械特性を著しく改善することができる。

以下の実施例により本発明をさらに詳細に説明する。特
に明示しない限りここで使用される部及び％は重量に関
するものである。

製造実施例 １２９ｇのジイソブチルアミン（１モル）　、１３３ｇ
のジイソプ口バノールアミン及び目２ｇのメチルエチル
ケトンから成る混合物を、２０−２５゜Ｃの温度におい
て、水冷し或は水冷することな＜、２２２ｇのイソホロ
ンジイソシアナート（１モル）　、１４８ｇのメチルエ
チルケトン及び０．１ｇのジブチル錫ノラウラート中に
４５分間にわたり滴下添加する。

次いで温度を８　０　’Ｃに上げ、１４８ｇのフタル酸
無水物（１モル）及び３。１ｇのＮ−メチルイミダゾー
ルを添加し、８０℃における加熱をさらに６時間継読す
る。

感ｂｋ射線混合物の使用 実施例Ｉ 上述反応生成物１０ｇ１ブチルアクリラート２．５ｇ１
Ｎ−メトキシビコリニウムトンラート７（ｉｉ）ｌＩｇ
及びミヒラーケトン１５−ｇを８ｇのメチルエチルヶト
ンに溶解させ、ポリエチレンテレフタラートの２３μｍ
厚さのシート」ユに塗布して、乾燥後の感放射線層の厚
さが４０μｍとなるようにした。この層をＰＥの３０μ
ｍ厚さの冫−トで被覆し保存した。

試験のためＰＥンートを剥離し、ポリエチレンテレフタ
ラー｝１１Ｊ定担体上の感光層上に回路板用銅ｈ（板を
積層し、Ｒｉｓｔｏｎ■ＰＣプリンターにより１５０Ｉ
ＩＪ／ｃＩ２で線照射した。ポリエチレンテレフタラー
トのシートを剥離してから、１％濃度の炭酸ナトリウム
水溶液で噴霧することにより３０℃で３０秒間現像した
。感放射線層の露！１４処理部分は完全に洗除されてお
り、非露出処理部分は完全に変化することなく残存して
いることが確認された。

実施例２ 前記方法により得られた反応生成物９ｇとエチルヘキシ
ルアクリラート１ｇとを、メチルエチルケトン８ｇに溶
解させ、３（ｉｉ）■のペンゾフェノン及び１　５　ｍ
ｇのミヒラーケトンと混合した。上記実施例１と同様に
溶液として４μ厘厚さの層を形成した。回路板用銅基板
を積層し、Ｒｉｓｔｏｎｌ２！ｌＰ　Ｃプリンターによ
りｌ（ｉｉ）ｍＪ／ｃ■２で露出処理した。炭酸ナトリ
ウム１％の水溶液で３５秒間現像したところ、銅ノ，（
板上に残渣を残すことなく、露出処理部分が完全に洗除
されていることが確認された。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ｉ）少なくとも１種類のジ或はポリイソシアナ
   ートを、 （ｉｉ）一般式（ I ） Ｒ′ＨＮ−Ｒ−ＸＨ（ I ） で表わされ、Ｒが置換或は非置換アルカン、アレン、エ
   ーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、エステル
   、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価基、Ｒ′
   が水素、アルキル、アリール、アルアルキル、ヒドロキ
   シアルキル、アミノアルキル、メルカプトアルキル、こ
   れらの誘導体或は一価基▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、或はその異 性体、ｎが１から３の数値、ｍが１から１０の数値、Ｒ
   ″が水素或はＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル、ＸがＯ、Ｓ或は
   ＮＲ″′、Ｒ″′が水素、アルキル、アリール、アルア
   ルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカ
   プトアルキル或はこれらの誘導体をそれぞれ意味する、
   少なくとも１種類のアミノ化合物及び／或は 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされ、Ｒ＾１、Ｒ＾２が互いに同じであるか或は
   異なってもよく、それぞれ置換或は非置換アルカン、ア
   レン、エーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、
   エステル、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価
   基、Ｒ＾３が水素、アルキル、アリール、アルアルキル
   、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカプトア
   ルキル或はこれらの誘導体を意味する、少なくとも１種
   類のアミノ化合物及び、 （ｉｉｉ）少なくとも二塩基性の、少なくとも１種類の
   カルボン酸無水物と、場合によってはさらに（ｉｖ）構
   成分（ｉｉ）とは異なるが、少なくとも１個のヒドロキ
   シル基或は窒素に少なくとも１個の水素を有するアミノ
   基を有する有機化合物と、（ｉ）及び（ｉｉｉ）におけ
   るＮＣＯ基と無水物基の合計個数が、（ｉｉ）および（
   ｉｖ）における基の個数と等しいか或はこれにより少な
   くなるように、また一般式（ I ）における構成分（ｉ
   ｉ）のＸがＯである場合には構成分（ｉｖ）の少なくと
   も１種類が反応に関与せしめられるように反応させるこ
   とにより得られるウレイド及びカルボキシル含有反応生
   成物。
2. （２）構成分（ｉｖ）がモノアルコール或は１級もしく
   は２級モノアミンであることを特徴とする、請求項（１
   ）による反応生成物。
3. （３）構成分（ｉ）がジイソシアナートであることを特
   徴とする、請求項（１）による反応生成物。
4. （４）構成分（ｉｉ）が１種類或は複数種類のヒドロキ
   シアルキルアミンを含有することを特徴とする反応生成
   物。
5. （５）構成分（ｉｉｉ）が環式カルボン酸無水物である
   ことを特徴とする反応生成物。
6. （６）請求項（１）による反応生成物を製造する方法で
   あって、第１工程において１種類或は複数種類のジもし
   くはポリイソシアナート（ｉ）を、少なくとも１種類の
   アミノ化合物（ｉｉ）及び必要に応じてさらに少なくと
   も１個のヒドロキシル基或はアミノ基を有する化合物（
   ｉｖ）と反応させて、無水物基と反応し得る尿素化合物
   を形成し、第２工程においてこれを少なくとも１種類の
   酸無水物（ｉｉｉ）と反応させて酸官能化尿素化合物を
   形成することを特徴とする方法。
7. （７）請求項（１）による反応生成物の製造方法であっ
   て、第１工程において１種類或は複数種類のジもしくは
   ポリイソシアナート（ｉ）を、少なくとも１種類のアミ
   ノ化合物（ｉｉ）と反応させて、イソシアナート置換尿
   素化合物を形成し、第２工程においてこれを１種類或は
   複数種類のヒドロキシル或はアミノ化合物（ｉｖ）と反
   応させて、無水物基と反応し得る尿素化合物を形成し、
   第３工程においてこれを少なくとも１種類の酸無水物（
   ｉｉｉ）と反応させて、酸官能化尿素化合物もしくはウ
   レタン尿素化合物を形成することを特徴とする方法。
8. （８）請求項（１）による反応生成物を製造する方法で
   あって、第１工程において１種類或は複数種類のジもし
   くはポリイソシアナート（ｉ）を、ヒドロキシル基もし
   くはアミノ基を有する１種類或は複数種類の化合物（ｉ
   ｖ）と反応させて、イソシアナート置換ウレタン或は尿
   素化合物を形成し、第２工程においてこれを少なくとも
   １種類のアミノ化合物（ｉｉ）と反応させて、無水物基
   と反応し得る尿素化合物を形成し、第３工程においてこ
   れを少なくとも１種類の酸無水物（ｉｉｉ）と反応させ
   て酸官能化尿素化合物を形成することを特徴とする方法
   。
9. （９）（ａ）ウレイド及びカルボキシル含有反応生成物
   、（ｂ）少なくとも１種類のエチレン性モノ不飽和もし
   くはポリ不飽和化合物、必要に応じてさらに、（ｃ）光
   重合開始剤もしくは開始剤組成物及び必要に応じてさら
   に（ｄ）添加剤及び助剤から成る感放射線混合物であっ
   て、上記組成分（ａ）が（ｉ）少なくとも１種類のジ或
   はポリイソシアナートを、 （ｉｉ）一般式（ I ） Ｒ′ＨＮ−Ｒ−ＸＨ（ I ） で表わされ、Ｒが置換或は非置換アルカン、アレン、エ
   ーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、エステル
   、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価基、Ｒ′
   が水素、アルキル、アリール、アルアルキル、ヒドロキ
   シアルキル、アミノアルキル、メルカプトアルキル、こ
   れらの誘導体或は一価基▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、或はその異 性体、ｎが１から３の数値、ｍが１から１０の数値、Ｒ
   ″が水素或はＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル、ＸがＯ、Ｓ或は
   ＮＲ″′、Ｒ″′が水素、アルキル、アリール、アルア
   ルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカ
   プトアルキル或はこれらの誘導体をそれぞれ意味する、
   少なくとも１種類のアミノ化合物及び／或は 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされ、Ｒ＾１、Ｒ＾２が互いに同じであるか或は
   異なってもよく、それぞれ置換或は非置換アルカン、ア
   レン、エーテル、ポリエーテル、アミン、ポリアミン、
   エステル、ポリエステル、アミド或はポリアミドの二価
   基、Ｒ＾３が水素、アルキル、アリール、アルアルキル
   、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、メルカプトア
   ルキル或はこれらの誘導体を意味する、少なくとも１種
   類のアミノ化合物及び、 （ｉｉｉ）少なくとも二塩基性の、少なくとも１種類の
   カルボン酸無水物と、場合によってはさらに（ｉｖ）構
   成分（ｉｉ）とは異なるが、少なくとも１個のヒドロキ
   シル基或は窒素に少なくとも１個の水素を有するアミノ
   基を有する有機化合物と（ｉ）及び（ｉｉ）におけるＮ
   ＣＯ基と無水物基の合計個数が、（ｉｉ）及び（ｉｖ）
   における基の個数と等しいか或はこれより少なくなるよ
   うに、反応させることにより得られるウレイド及びカル
   ボキシル含有反応生成物であることを特徴とする混合物
   。
10. （１０）請求項（９）による感放射線混合物であって、
    その水及びアルカリ水溶液に対する溶解性が放射線照射
    により増大せしめられる混合物。
11. （１１）請求項（９）或は（１０）による感放射線混合
    物であって、光重合開始剤組成物（ｃ）がベンゾフェノ
    ンもしくはその誘導体、ヘキサアリールビスイミダゾー
    ル誘導体、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩或はこれらの
    塩を含有するものであることを特徴とする混合物。
12. （１２）請求項（９）から（１０）のいずれかによる感
    放射線混合物であって、エチレン性不飽和化合物として
    α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物が使用され
    ることを特徴とする混合物。
13. （１３）請求項（９）から（１２）のいずれかによる感
    放射線混合物であって、エチレン性不飽和化合物として
    アクリラートもしくはメタクリラートが使用されること
    を特徴とする混合物。