JPH0397874A - 無電解銅めっきのプロセス水から連続的にエチレンジアミン四酢酸を除去しそして取得する方法 - Google Patents
無電解銅めっきのプロセス水から連続的にエチレンジアミン四酢酸を除去しそして取得する方法Info
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1617—Purification and regeneration of coating baths
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無電解銅めっきのプロセス水から連bc 的に
エチレンジアミン四酢#(EDTA)を除去しそして取
得する方法およびこ0方法を実施するための装置に関す
る。
エチレンジアミン四酢#(EDTA)を除去しそして取
得する方法およびこ0方法を実施するための装置に関す
る。
印1’!1回路板の作製1こi−Eいて、しばしば銅の
堆積( depos i t ion)のため化学反応
lこ頼る必要がある。これらの、いわゆる無電解銅めっ
き浴の危も重要な戊分は、硫酸銅および水酸化ナトリウ
ム0他Iこ還元剤好ましくはホルムアルデヒド、および
錯化剤としてのエチレンジアミン四酢酸( EDTA)
である。還元剤の効力は通常高いpll値と共に高度l
こ増加するので、EDTAJ度は水酸化銅の沈澱を防止
するため非常に高くなければならない。このプロセスに
おいて、EDTAは化学的に変性されていないため、プ
ロセスの間に使い果たされない。したがって、経済的お
よび環境的理由のため、EDTAは取り除かれそしてフ
ロセス水から再生されなければならない。
堆積( depos i t ion)のため化学反応
lこ頼る必要がある。これらの、いわゆる無電解銅めっ
き浴の危も重要な戊分は、硫酸銅および水酸化ナトリウ
ム0他Iこ還元剤好ましくはホルムアルデヒド、および
錯化剤としてのエチレンジアミン四酢酸( EDTA)
である。還元剤の効力は通常高いpll値と共に高度l
こ増加するので、EDTAJ度は水酸化銅の沈澱を防止
するため非常に高くなければならない。このプロセスに
おいて、EDTAは化学的に変性されていないため、プ
ロセスの間に使い果たされない。したがって、経済的お
よび環境的理由のため、EDTAは取り除かれそしてフ
ロセス水から再生されなければならない。
慣用の無電解銅堆積の間に、次の反応がめつき浴中で起
こる。
こる。
CuSOt + dNaOH 千2HC}10−>CI
J + Na .SO, +2Na(HCOO)→−}
+3 +2}120 ( I )硫酸鋼、ホルムアル
デヒドおよび水酸化ナトリウムの急速な消費のほかに、
堆積銅の品質は硫酸ナトリウムおよびギ酸ナトリウムを
用いてのめっき浴を並行に豊富にすることにより否定的
に影響される。その結果としての浴保持時間の減少は消
費物質の同時添加を伴なう製品物質の連続的処理により
打ち消される。例えばDE−PS第3,022,962
号から、還元剤の酸化により生威し、めっきプロセスを
阻止するものである銅イオンのカウンターイオンが電気
透析により除去される、化学的銅めっき溶液を再生する
ことが知られている。
J + Na .SO, +2Na(HCOO)→−}
+3 +2}120 ( I )硫酸鋼、ホルムアル
デヒドおよび水酸化ナトリウムの急速な消費のほかに、
堆積銅の品質は硫酸ナトリウムおよびギ酸ナトリウムを
用いてのめっき浴を並行に豊富にすることにより否定的
に影響される。その結果としての浴保持時間の減少は消
費物質の同時添加を伴なう製品物質の連続的処理により
打ち消される。例えばDE−PS第3,022,962
号から、還元剤の酸化により生威し、めっきプロセスを
阻止するものである銅イオンのカウンターイオンが電気
透析により除去される、化学的銅めっき溶液を再生する
ことが知られている。
しかし、なから、これらの方法は延長された試験期間I
こわたって“安定状態゛″を達或することができないた
め、または入手しうる物質が銅俗の攻撃的媒体(agg
ressive medium)に関して十分な保持時
間を有さないため、実際の使用において容認されなかっ
た。1つの例どして、生或した阻止体( inhibi
tors)を電気透析によって直接分離することは商業
的に入手しうるアニオ〉・交換膜の耐アルカリ性が不十
分なため失敗した。
こわたって“安定状態゛″を達或することができないた
め、または入手しうる物質が銅俗の攻撃的媒体(agg
ressive medium)に関して十分な保持時
間を有さないため、実際の使用において容認されなかっ
た。1つの例どして、生或した阻止体( inhibi
tors)を電気透析によって直接分離することは商業
的に入手しうるアニオ〉・交換膜の耐アルカリ性が不十
分なため失敗した。
結果として、無篭解銅めっき浴は実際の使用において遊
離物の補充のためちょうど体積増量に等しい連続オーバ
ーフローを伴なって操作しなければならない。浴から取
り出した後めっきされた印刷L!!]絡板は完全脱塩水
で洗浄されるが、このずすぎ洗いの水はオーバーフロー
溶液に加えることができる。その結果、溶液は硫酸ナト
リ’:’ 14およびギ酸ナ1・リウムの他に@跡量の
ホルムアルデヒドおよび特に多量の銅−EDTAを含有
する。経済的理由上、特に含まれる廃棄問題の観点から
、すべての環境問題関連の戊分は完全に分離しなければ
ならない。銅は同時にホルムアルデヒドをギ酸ナトリウ
ムに酸化しながら電解により完全に除去することができ
るため、EDTAの分離に含まれる廃棄問題は相当なも
のである。
離物の補充のためちょうど体積増量に等しい連続オーバ
ーフローを伴なって操作しなければならない。浴から取
り出した後めっきされた印刷L!!]絡板は完全脱塩水
で洗浄されるが、このずすぎ洗いの水はオーバーフロー
溶液に加えることができる。その結果、溶液は硫酸ナト
リ’:’ 14およびギ酸ナ1・リウムの他に@跡量の
ホルムアルデヒドおよび特に多量の銅−EDTAを含有
する。経済的理由上、特に含まれる廃棄問題の観点から
、すべての環境問題関連の戊分は完全に分離しなければ
ならない。銅は同時にホルムアルデヒドをギ酸ナトリウ
ムに酸化しながら電解により完全に除去することができ
るため、EDTAの分離に含まれる廃棄問題は相当なも
のである。
一方法どして、EDTA含有溶液はEDTAを分解ずる
ことによって処理される。このような分解は化学的まl
:は陽極酸化によって行なうことができる。しかしなが
ら、これらの方法は必要な薬品またはエネルギーのため
のコストが高い。その上、環境に及ぼすその影響に関し
て無害で非毒性の分解生戒物のみが生戊されるようにこ
れらの反応をしむけることは技術的に全く複雑であるが
、この問題は法規制によって固定された放出量の下でE
DTAが下水処理される場合1二特に関連してくる。
ことによって処理される。このような分解は化学的まl
:は陽極酸化によって行なうことができる。しかしなが
ら、これらの方法は必要な薬品またはエネルギーのため
のコストが高い。その上、環境に及ぼすその影響に関し
て無害で非毒性の分解生戒物のみが生戊されるようにこ
れらの反応をしむけることは技術的に全く複雑であるが
、この問題は法規制によって固定された放出量の下でE
DTAが下水処理される場合1二特に関連してくる。
これらの分解反応の別の欠点は連続したEDTA消費で
ある。EDTAはもっぱら錯化剤としてのみ作用するも
ので、かくして使い果たされないものであるため、その
再生利用はどんな場合でも望ましい。このような再生利
用は無電荷のEDTA(charge−neutral
EDTA)を分離することにより達成される。その目
的のために、約13のpH値における電解により錯体化
された銅が溶液から分離されそして同時にEDTAが錯
体から遊離される。
ある。EDTAはもっぱら錯化剤としてのみ作用するも
ので、かくして使い果たされないものであるため、その
再生利用はどんな場合でも望ましい。このような再生利
用は無電荷のEDTA(charge−neutral
EDTA)を分離することにより達成される。その目
的のために、約13のpH値における電解により錯体化
された銅が溶液から分離されそして同時にEDTAが錯
体から遊離される。
第2の反応において、ホルムアルデヒドがギ酸に酸化さ
れる。続いて、無電荷のEDTAを沈澱させるために強
鉱酸例えば硫酸を混合することによってpH値を1.7
に設定しなければならない。
れる。続いて、無電荷のEDTAを沈澱させるために強
鉱酸例えば硫酸を混合することによってpH値を1.7
に設定しなければならない。
1 , 500ppmまでのEDTAを含有する上澄み
の液体が分離され、水酸化ナトリウムで中和されそして
蒸発系に付される。このようにして得られた中性塩は主
として、沈澱および中和プロセスからの硫酸ナトリウム
とわずか約2%のNa.EDTAを含有する。この低い
錯化剤%はしかしながら特殊な廃棄物として申告および
貯蔵することを要する。
の液体が分離され、水酸化ナトリウムで中和されそして
蒸発系に付される。このようにして得られた中性塩は主
として、沈澱および中和プロセスからの硫酸ナトリウム
とわずか約2%のNa.EDTAを含有する。この低い
錯化剤%はしかしながら特殊な廃棄物として申告および
貯蔵することを要する。
従って、本発明の目的は実質的に連続して、そして可能
ならばさらに補助物質なしに無電解銅めっきのプロセス
水からEDTAが除去されそして抽出され、しかもそれ
により再利用が可能となる方法を提供することである。
ならばさらに補助物質なしに無電解銅めっきのプロセス
水からEDTAが除去されそして抽出され、しかもそれ
により再利用が可能となる方法を提供することである。
さらに、本発明の目的は本発明によって開示されるよう
な方法を実施するための装置を提供することである。
な方法を実施するための装置を提供することである。
本目的はEDTA含有プロセス水をそれに電位差が印加
されておりそして代わるがわるに二極性膜およびアニオ
ン交換膜および/またはカチオン交換膜を備えている電
気透析電解槽( EDZI)中に導入すること;電気透
析電解槽( EDZI)中のEDTAをその無電荷(c
harge neutra1)の形態に変換すること;
そのプロセスに要求されるプロトンは電気透析により二
極性膜を経て生或すること:そしてpH値は二極性膜を
介するpH一制御された電界調節(pH−contro
lled electricfield regula
tion)により調整することによって達戒される。
されておりそして代わるがわるに二極性膜およびアニオ
ン交換膜および/またはカチオン交換膜を備えている電
気透析電解槽( EDZI)中に導入すること;電気透
析電解槽( EDZI)中のEDTAをその無電荷(c
harge neutra1)の形態に変換すること;
そのプロセスに要求されるプロトンは電気透析により二
極性膜を経て生或すること:そしてpH値は二極性膜を
介するpH一制御された電界調節(pH−contro
lled electricfield regula
tion)により調整することによって達戒される。
本発明によって開示されるような方法の利点はEDTA
を無電荷の状態に変換するのに必要な7口トンは鉱酸(
シたがって追加のアニオンを用いて)を介してではなく
、二極性膜による電気透析的な水の解離を介して加えら
れ、ここで必ずプロトン付与のためのpH値は二極性膜
を介するpH一制御された電界調節により設定する必要
があり、すなわち、pHのドリフトを避け、その結果本
発明によって開示されるような方法は最適のpH値で連
統して実施することができる、という点にある。
を無電荷の状態に変換するのに必要な7口トンは鉱酸(
シたがって追加のアニオンを用いて)を介してではなく
、二極性膜による電気透析的な水の解離を介して加えら
れ、ここで必ずプロトン付与のためのpH値は二極性膜
を介するpH一制御された電界調節により設定する必要
があり、すなわち、pHのドリフトを避け、その結果本
発明によって開示されるような方法は最適のpH値で連
統して実施することができる、という点にある。
残りの液体中にまだ存在するEDTA ( 1,000
ppmのオーダー)を他の存在するイオンから分離する
ために、その液体は有利には代わるがわるにイオンおよ
びカチオン交換膜を備えている第2の電気透析電解槽(
EDZ2)を通過させる。最適pH値1.7で電気透析
において硫酸塩およびギ酸塩イオンのいわゆる濃縮サイ
クル( concentracecycle)中への輸
送が行なわれ、一方EDTAが希釈サイクル(dilu
ate cycle)中に残留しそしてそこで濃縮され
、ざらにEDTA沈澱が生じる。電気透析電解槽EDZ
2の使用は、前記で指摘したようにあまり好ましくない
結果を与えるが装置上の観点からあまり複雑でない鉱酸
好ましくは硫酸を用いて酸性化してプロトン付与を行な
うことにより、電気透析電解槽EDZIをあらかじめ使
用することなく可能である。プロトン付与において、p
H値は好ましくは0.9〜2.2の範囲の値まで下げら
れ、1.7が最良値である。
ppmのオーダー)を他の存在するイオンから分離する
ために、その液体は有利には代わるがわるにイオンおよ
びカチオン交換膜を備えている第2の電気透析電解槽(
EDZ2)を通過させる。最適pH値1.7で電気透析
において硫酸塩およびギ酸塩イオンのいわゆる濃縮サイ
クル( concentracecycle)中への輸
送が行なわれ、一方EDTAが希釈サイクル(dilu
ate cycle)中に残留しそしてそこで濃縮され
、ざらにEDTA沈澱が生じる。電気透析電解槽EDZ
2の使用は、前記で指摘したようにあまり好ましくない
結果を与えるが装置上の観点からあまり複雑でない鉱酸
好ましくは硫酸を用いて酸性化してプロトン付与を行な
うことにより、電気透析電解槽EDZIをあらかじめ使
用することなく可能である。プロトン付与において、p
H値は好ましくは0.9〜2.2の範囲の値まで下げら
れ、1.7が最良値である。
第1〜3図は本発明によって開示されるような方法およ
び個々のチェンバー中における反応を行なうのに重要で
ある特別に開発された電気透析電解槽EDZ lの構戊
要素を示すものである。
び個々のチェンバー中における反応を行なうのに重要で
ある特別に開発された電気透析電解槽EDZ lの構戊
要素を示すものである。
第1図の電気透析篭解槽は次の配置
A一K+−KM−K2−(BM−K s−AM−Ka
−KM−K s−)nBM−KM−AM−Ki −K(
ここでAは陽極であり、 Kは陰極であり、 IEは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 K1はチェンバーであり、 nは1〜100でありそして 二極性膜のアニオン選択的層は陰極に面している) から構戊されるものである。
−KM−K s−)nBM−KM−AM−Ki −K(
ここでAは陽極であり、 Kは陰極であり、 IEは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 K1はチェンバーであり、 nは1〜100でありそして 二極性膜のアニオン選択的層は陰極に面している) から構戊されるものである。
ヂエンバーK1は陽極部分を形成しそして陰極側はカチ
オン交換膜により境界が設けられており、チェンハK
!は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二極
性膜により境界が設けられており、チェンバーK,は陽
極側が二極性膜によりそして陰極側がアニオン交換膜に
より境界が設けられている。チ五ンバーK7は陰極部分
を形成しそして陽極側はアニオン交換膜により境界が設
けられている。チェンバーK,、K1およびK,は直列
に配置された1つのユニットヲ形成し、それはn個存在
し、ここでnは1〜100好ましくは2〜10の値を採
用することができる。
オン交換膜により境界が設けられており、チェンハK
!は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二極
性膜により境界が設けられており、チェンバーK,は陽
極側が二極性膜によりそして陰極側がアニオン交換膜に
より境界が設けられている。チ五ンバーK7は陰極部分
を形成しそして陽極側はアニオン交換膜により境界が設
けられている。チェンバーK,、K1およびK,は直列
に配置された1つのユニットヲ形成し、それはn個存在
し、ここでnは1〜100好ましくは2〜10の値を採
用することができる。
チェンバーK,は陽極側が二極性膜によりそして陰極側
がア二オン交換膜により境界が設けられており、チェン
バーK4は陽極側がアニオン交換膜によりそして陰極側
がカチオン交換膜により境界が設けられており、チェン
バーK,は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側
が二極性膜により境界が設けられている。
がア二オン交換膜により境界が設けられており、チェン
バーK4は陽極側がアニオン交換膜によりそして陰極側
がカチオン交換膜により境界が設けられており、チェン
バーK,は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側
が二極性膜により境界が設けられている。
第2図の電気透析電解槽は次の配置
A−K,−KM−K,−(BM−K.−KM−K4−)
nBM−K,−AM−K@−K(ここでAは陽極であり
、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1〜[0でありそして 二極性膜のア二オン選択的層は陰極に面している) から構戊されるものである。
nBM−K,−AM−K@−K(ここでAは陽極であり
、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1〜[0でありそして 二極性膜のア二オン選択的層は陰極に面している) から構戊されるものである。
チェンバーK,は陽極部分を形戊しそして陰極側はカチ
オン交換膜lこより境界が設けられており、チェンバー
K2は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二
極性膜により境界が設けr., ftており、チェンバ
ーK,は陽極側が二極性膜によりそして陰極側がアニオ
ン交換模により境#が設けられている。チェンバーK,
は陰極部分全形戒しモして渦極側はアニオン交換膜によ
り境界が設けられている。チェンバーK,、およびK,
は直列に配置された1つのユニットを形威し、それはn
側存在し、ここでnは1〜I00好ましくは2〜lOの
値を採用することができる。チェンバーK3は陽極側が
二極性膜lコよりそして陰極側がカチオン交換膜により
境界が設けられており、チェンバー×4は陽極側がカチ
才ン交換[31二よりそして陰極側が二極性膜により境
界が設けられている。
オン交換膜lこより境界が設けられており、チェンバー
K2は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二
極性膜により境界が設けr., ftており、チェンバ
ーK,は陽極側が二極性膜によりそして陰極側がアニオ
ン交換模により境#が設けられている。チェンバーK,
は陰極部分全形戒しモして渦極側はアニオン交換膜によ
り境界が設けられている。チェンバーK,、およびK,
は直列に配置された1つのユニットを形威し、それはn
側存在し、ここでnは1〜I00好ましくは2〜lOの
値を採用することができる。チェンバーK3は陽極側が
二極性膜lコよりそして陰極側がカチオン交換膜により
境界が設けられており、チェンバー×4は陽極側がカチ
才ン交換[31二よりそして陰極側が二極性膜により境
界が設けられている。
第3図の電気透析電解槽は次の配置
A−K+−KM−Kg−(BM−Kx−AM−K4−)
nBM−Kg−AM−Ka−K(ここでAは陽極であり
、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 0は1〜100でありそして 二極性膜のア二オン選択的層は陰極に面している) から構成されるものである。
nBM−Kg−AM−Ka−K(ここでAは陽極であり
、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 0は1〜100でありそして 二極性膜のア二オン選択的層は陰極に面している) から構成されるものである。
チェンバーK1は陽極部分を形成しそして陰極側はカチ
オン交換膜により境界が設けられており、チェンバーK
!は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二極
性膜により境界が設けラレテオリ、チェンバーK,は陽
極側が二極性膜によりそして陰極側がア二オン交換膜に
より境界が設けられている。チェンバーK6は陰極部分
を形成しそして陽極側はアニオン交換膜により境界が設
けられている。チェンバーK,およびK4は直列に配置
された1つのユニントを形戒し、それはn個存在し、こ
こでnは1〜100好ましくは2〜IOの値を採用する
ことができる。チェンバーK,は陽極側が二極性膜によ
りそして陰極側がア二オン交換膜により境界が設けられ
ており、チェンバーK,は陽極側がア二オン交換膜によ
りそして陰極側が二極性膜により境界が設けられている
。
オン交換膜により境界が設けられており、チェンバーK
!は陽極側がカチオン交換膜によりそして陰極側が二極
性膜により境界が設けラレテオリ、チェンバーK,は陽
極側が二極性膜によりそして陰極側がア二オン交換膜に
より境界が設けられている。チェンバーK6は陰極部分
を形成しそして陽極側はアニオン交換膜により境界が設
けられている。チェンバーK,およびK4は直列に配置
された1つのユニントを形戒し、それはn個存在し、こ
こでnは1〜100好ましくは2〜IOの値を採用する
ことができる。チェンバーK,は陽極側が二極性膜によ
りそして陰極側がア二オン交換膜により境界が設けられ
ており、チェンバーK,は陽極側がア二オン交換膜によ
りそして陰極側が二極性膜により境界が設けられている
。
本発明によって開示されるような方法は第1〜3図に関
する3つの実施態様により下記に詳細に説明される。
する3つの実施態様により下記に詳細に説明される。
本発明の方法の第lの実施態様は次の通りである:銅イ
オンを12.5〜13のpH値で(場合によっては電解
により)プロセス水から除去しそして未使用のホルムア
ルデヒドをギ酸に酸化した後、浴の液体はl2,5〜l
3のpH値を示しそして水の他に硫酸塩、ギ酸塩、ナト
リウムおよびEDTAイオンを含有する。反応式(I)
もまた参照されたい。この液体を電気透析電解槽EDZ
lのチェンバーK,中に導入した後、硫酸塩、ギ酸塩
およびED丁AイオンはDC電界を付与した後にアニオ
ン交換膜を通ってチェンバーK3中に移動し、そしてナ
トリウムイ万ンはカチオン交換膜を通ってチェンバーK
,中に移動する。
オンを12.5〜13のpH値で(場合によっては電解
により)プロセス水から除去しそして未使用のホルムア
ルデヒドをギ酸に酸化した後、浴の液体はl2,5〜l
3のpH値を示しそして水の他に硫酸塩、ギ酸塩、ナト
リウムおよびEDTAイオンを含有する。反応式(I)
もまた参照されたい。この液体を電気透析電解槽EDZ
lのチェンバーK,中に導入した後、硫酸塩、ギ酸塩
およびED丁AイオンはDC電界を付与した後にアニオ
ン交換膜を通ってチェンバーK3中に移動し、そしてナ
トリウムイ万ンはカチオン交換膜を通ってチェンバーK
,中に移動する。
付与されたDC電界により、電気透析的な水の解離が二
極性膜を経て行なわれ、そして二極性膜からプロトンが
チェンバーK3およびK.中に導入され、またヒドロキ
シルイオンがチェンバーK,およびK2中に導入される
。チェンバーK.中において、相当するpH値でギ酸塩
イオンがプロトン付与されてギ酸となりモしてEDTA
がその無電荷の形態に変換される。3.3以後のpH値
で無電荷のEDTAの結晶化が始まるのが見えるように
なり、1.7のみのpH値で上澄み液のEDTA含量は
その最小値に達する。チェンバーK,中において、水酸
化ナトリウムはチェンバーK.のナトリウムイオンおよ
び二極性膜からのヒドロキシルイオンから形戊される。
極性膜を経て行なわれ、そして二極性膜からプロトンが
チェンバーK3およびK.中に導入され、またヒドロキ
シルイオンがチェンバーK,およびK2中に導入される
。チェンバーK.中において、相当するpH値でギ酸塩
イオンがプロトン付与されてギ酸となりモしてEDTA
がその無電荷の形態に変換される。3.3以後のpH値
で無電荷のEDTAの結晶化が始まるのが見えるように
なり、1.7のみのpH値で上澄み液のEDTA含量は
その最小値に達する。チェンバーK,中において、水酸
化ナトリウムはチェンバーK.のナトリウムイオンおよ
び二極性膜からのヒドロキシルイオンから形戊される。
チェンバーK,は陽極液として硫酸ナトリウムまたは水
酸化ナトリウムを含有し、チェンバーK,は陰極液とし
て硫酸ナトリウムまたは硫酸を含有する。カチオン交換
膜を通してナトリウムイオンがチェンバーK1からチェ
ン,( K,中に移動し、そして二極性膜カラノヒド
ロキシルイオンとともに水酸化ナトリウムを形戒する。
酸化ナトリウムを含有し、チェンバーK,は陰極液とし
て硫酸ナトリウムまたは硫酸を含有する。カチオン交換
膜を通してナトリウムイオンがチェンバーK1からチェ
ン,( K,中に移動し、そして二極性膜カラノヒド
ロキシルイオンとともに水酸化ナトリウムを形戒する。
アニオン交換膜を通して硫酸塩イオンがチェンバーK7
からチェンバーK6中に移動し、そして二極性膜からの
プロトンとともに硫酸を形戊する。チェンパーK,から
精製されたフロセス水が除去されそしてチェンバー×3
からその懸濁液からろ過により純粋なEDTAが単離さ
れうる。チェンバーK,およびK,から純粋な水酸化ナ
トリウムがそしてチェンパーK,から純粋な硫酸が得ら
れ、これらは両方ともチェンバーK,およびK7のサイ
クル中に再び加えられる。このようにして連続したプロ
セスが可能となる。
からチェンバーK6中に移動し、そして二極性膜からの
プロトンとともに硫酸を形戊する。チェンパーK,から
精製されたフロセス水が除去されそしてチェンバー×3
からその懸濁液からろ過により純粋なEDTAが単離さ
れうる。チェンバーK,およびK,から純粋な水酸化ナ
トリウムがそしてチェンパーK,から純粋な硫酸が得ら
れ、これらは両方ともチェンバーK,およびK7のサイ
クル中に再び加えられる。このようにして連続したプロ
セスが可能となる。
本発明の方法の第2の実施態様は次の通りである:銅イ
オンを12.5〜13のpH値で(場合によっては電解
により)廃浴( spent bath)から除去しそ
して未使用のホルムアルデヒドをギ酸に酸化した後、浴
の液体は12.5〜13のpH値を示しそして水の他に
硫酸塩、ギ酸塩、ナトリウムおよびEDTAイオンを含
有する。反応式(I)もまた参照されたい。この液体を
電気透析電解槽EDZ 1のチェンバーK,中に導入し
た後、硫酸塩、ギ酸塩RよびEDTAイオンはDC電界
を付与した後1こカブオン交換膜を通ってチェンバーK
.中に移動する。付与されたDC電界により、電気透析
的な水0解離が二極性膜を経て行なわれ、そして二極性
膜からプロトンがチエ〉・バーK,およびK,中に導入
され、またヒドロキシルイオンがチェンバK,8よびK
,中1こ導入される。チェンバーK,中において、相当
するpH値でギ酸塩イオンがプロトン付与されてギ酸と
なりモしてEDTAがその無電荷の形態に変換される.
3.3以後のpl値で無電荷のED丁Aの拮晶化が始ま
るのが見えるようになり、1,7のみのpH (ftで
上澄み液のEIIITA含量はその最小値に達する。チ
ェンバーK,中において、水酸化ナトリウムはチェンバ
ーK,のナトリウムイオンおよび二極性膜からのヒドロ
キシルイオンから形或される。チェンバーK,は陽極液
として硫酸ナトリつムまたは水酸化ナトリウムを含有し
、チェンバーK6は陰極液として硫酸ナトリウムまたは
Wt酸を含有する。カチオン交換膜を通してナトリウム
イオンがチェンバーK,からチェンバーK,中に移動し
、そして二極性膜からのヒドロキシルイオンとともに水
酸化ナトリウムを形戊する。アニオン交換膜を通して硫
酸塩イオンがチェンバ〜K6からチェンバーK,中に移
動し、そして二極性膜からのプロトンとともに硫酸を形
戊する。チェンバーK,から懸濁液が除去されそしてそ
の懸濁液からろ過により純粋なEDTAが単離されうる
。チェンバーK2およびK,から純粋な水酸化ナトリウ
ムがそしてチェンバK,から純粋な硫酸が得られ、これ
らは両方ともチェンバーLおよびK,のサイクル中に再
び加えられる。このようにして連続したプロセスが可能
となる。
オンを12.5〜13のpH値で(場合によっては電解
により)廃浴( spent bath)から除去しそ
して未使用のホルムアルデヒドをギ酸に酸化した後、浴
の液体は12.5〜13のpH値を示しそして水の他に
硫酸塩、ギ酸塩、ナトリウムおよびEDTAイオンを含
有する。反応式(I)もまた参照されたい。この液体を
電気透析電解槽EDZ 1のチェンバーK,中に導入し
た後、硫酸塩、ギ酸塩RよびEDTAイオンはDC電界
を付与した後1こカブオン交換膜を通ってチェンバーK
.中に移動する。付与されたDC電界により、電気透析
的な水0解離が二極性膜を経て行なわれ、そして二極性
膜からプロトンがチエ〉・バーK,およびK,中に導入
され、またヒドロキシルイオンがチェンバK,8よびK
,中1こ導入される。チェンバーK,中において、相当
するpH値でギ酸塩イオンがプロトン付与されてギ酸と
なりモしてEDTAがその無電荷の形態に変換される.
3.3以後のpl値で無電荷のED丁Aの拮晶化が始ま
るのが見えるようになり、1,7のみのpH (ftで
上澄み液のEIIITA含量はその最小値に達する。チ
ェンバーK,中において、水酸化ナトリウムはチェンバ
ーK,のナトリウムイオンおよび二極性膜からのヒドロ
キシルイオンから形或される。チェンバーK,は陽極液
として硫酸ナトリつムまたは水酸化ナトリウムを含有し
、チェンバーK6は陰極液として硫酸ナトリウムまたは
Wt酸を含有する。カチオン交換膜を通してナトリウム
イオンがチェンバーK,からチェンバーK,中に移動し
、そして二極性膜からのヒドロキシルイオンとともに水
酸化ナトリウムを形戊する。アニオン交換膜を通して硫
酸塩イオンがチェンバ〜K6からチェンバーK,中に移
動し、そして二極性膜からのプロトンとともに硫酸を形
戊する。チェンバーK,から懸濁液が除去されそしてそ
の懸濁液からろ過により純粋なEDTAが単離されうる
。チェンバーK2およびK,から純粋な水酸化ナトリウ
ムがそしてチェンバK,から純粋な硫酸が得られ、これ
らは両方ともチェンバーLおよびK,のサイクル中に再
び加えられる。このようにして連続したプロセスが可能
となる。
本発明の方法の第3の実施態様は次の通りである:銅イ
オンを12.5〜l3のpu値で(場合によっては電解
により)廃浴( spent bath)から除去しモ
し、て未使用のホルムアルデヒドをギ酸に酸化した後、
浴の液体は12.5〜13のpH値を示しそして水の他
に硫酸塩、ギ酸塩、ナl・リウムおよびEDTAイオン
を含有する。反応式(1)もまた参照されたい。この液
体を電気透析電解槽EDZ 1のチェンバーK,中に導
入した後、硫酸塩、ギ酸塩およびEDTAイオンはDC
M’Rを付ケした後Iこアニ才ン交換膜を通ってチェン
バーKi中に移動した。付与されたDC電界により、電
気透析的な水の解離が二極性膜を経て行なわれ、そして
二極a膜からプロトンがチLンバーK,およびK,中に
導入され、またヒドロキノルイオンがチェンバ−K.お
よびK,中に導入される。チゴンバーR,中1.7..
i; (・て、相当するpt+値でギ酸塩イオンがブ
ロトン付与されてギ酸となりそしてEDTAがその無電
荷の形態に変換される。3。3以後のpH値で無電荷の
EDTAの結晶化が始まるのが見えるようになり、1.
7のみのpH値で上澄み液のEDTA含9はその最小値
に達する。チェンバーK4中においで、水酸化ナトリウ
ムはチェンバーK,のナトリウムイオンおよび二極性膜
からのヒドロキシルイオンから形戊される。チェンバー
K,は陽極液として硫酸ナトリウムまたは水酸化ナトリ
ウムを含有し、チェンバーK.は陰極液として硫酸ナ1
・1ウムまたは硫酸を含有する。カチ才ン交換膜を通し
てナトリウムイオンがチェンバーK,から4−エンバー
K2中に移動し、そして二極性膜かものヒドロキシルイ
オンとどもに水酸化ナトリウムを形戊する。アニオン交
換膜を通して硫酸塩イオンがチェンバーK,からチェン
バーK,中に移動し、そして二極性膜からのプロト〉・
とともに琉汽}を形戊する。チェンバーK,から懸濁液
がrγ;(Sされそしてその懸濁液からろ過により純粋
なEDTAが単離されうる。チェンバーK,から純粋な
水酸化ナトリウムがそしてチェンバーK5から純粋な硫
酸が得られ、これらは両方ともチェンバ−K,およ・び
K6のサイクル中に再び加えられる。
オンを12.5〜l3のpu値で(場合によっては電解
により)廃浴( spent bath)から除去しモ
し、て未使用のホルムアルデヒドをギ酸に酸化した後、
浴の液体は12.5〜13のpH値を示しそして水の他
に硫酸塩、ギ酸塩、ナl・リウムおよびEDTAイオン
を含有する。反応式(1)もまた参照されたい。この液
体を電気透析電解槽EDZ 1のチェンバーK,中に導
入した後、硫酸塩、ギ酸塩およびEDTAイオンはDC
M’Rを付ケした後Iこアニ才ン交換膜を通ってチェン
バーKi中に移動した。付与されたDC電界により、電
気透析的な水の解離が二極性膜を経て行なわれ、そして
二極a膜からプロトンがチLンバーK,およびK,中に
導入され、またヒドロキノルイオンがチェンバ−K.お
よびK,中に導入される。チゴンバーR,中1.7..
i; (・て、相当するpt+値でギ酸塩イオンがブ
ロトン付与されてギ酸となりそしてEDTAがその無電
荷の形態に変換される。3。3以後のpH値で無電荷の
EDTAの結晶化が始まるのが見えるようになり、1.
7のみのpH値で上澄み液のEDTA含9はその最小値
に達する。チェンバーK4中においで、水酸化ナトリウ
ムはチェンバーK,のナトリウムイオンおよび二極性膜
からのヒドロキシルイオンから形戊される。チェンバー
K,は陽極液として硫酸ナトリウムまたは水酸化ナトリ
ウムを含有し、チェンバーK.は陰極液として硫酸ナ1
・1ウムまたは硫酸を含有する。カチ才ン交換膜を通し
てナトリウムイオンがチェンバーK,から4−エンバー
K2中に移動し、そして二極性膜かものヒドロキシルイ
オンとどもに水酸化ナトリウムを形戊する。アニオン交
換膜を通して硫酸塩イオンがチェンバーK,からチェン
バーK,中に移動し、そして二極性膜からのプロト〉・
とともに琉汽}を形戊する。チェンバーK,から懸濁液
がrγ;(Sされそしてその懸濁液からろ過により純粋
なEDTAが単離されうる。チェンバーK,から純粋な
水酸化ナトリウムがそしてチェンバーK5から純粋な硫
酸が得られ、これらは両方ともチェンバ−K,およ・び
K6のサイクル中に再び加えられる。
このようにして連続したプロセスが可能となる。
自己調節系に達するためそして連続した廃棄およびEA
TAの再生を行なうtこめ、本発明によって開示される
ような方法の重要な特色は二極性膜を経てのpH一制御
された電界調節による第l〜3図の電気透析電解槽ED
ZIのチェンバーK,中におけるpH一調整である。そ
の目的のために、pH測定装置の電極が第1〜3図の電
気透析電解槽EDZIのチェンバーK,中に備えられ、
そしてこの測定装置は電圧調整器を制御するコンピュー
ターに接統される。従って、電気透析電解槽EDZ I
に印加された電位差はチェンバーK,中のp}1値の関
数として制御され、そしてこれによりチェンバーK,中
のpH一値は二極性膜を経て制御される。結果的に、こ
のようにしてEDTAをその無電荷の形態に変換するた
めのそれぞれのpH値を設定することができる。
TAの再生を行なうtこめ、本発明によって開示される
ような方法の重要な特色は二極性膜を経てのpH一制御
された電界調節による第l〜3図の電気透析電解槽ED
ZIのチェンバーK,中におけるpH一調整である。そ
の目的のために、pH測定装置の電極が第1〜3図の電
気透析電解槽EDZIのチェンバーK,中に備えられ、
そしてこの測定装置は電圧調整器を制御するコンピュー
ターに接統される。従って、電気透析電解槽EDZ I
に印加された電位差はチェンバーK,中のp}1値の関
数として制御され、そしてこれによりチェンバーK,中
のpH一値は二極性膜を経て制御される。結果的に、こ
のようにしてEDTAをその無電荷の形態に変換するた
めのそれぞれのpH値を設定することができる。
第4図はこの電界調節の配置を示すものであり、ここで
(1)はpH測定装置、(2)はコンピューター、(3
)は電圧調整器、(4)は電気透析電解槽そして(5)
は電気透析電解槽のチェンバーのためのすすぎ用容器を
表わす。本発明を制限することなく、電気透析電解槽E
DZIは本発明によって開示されるような方法を実施す
るために1〜150mA/cm”好ましくは2〜20m
A/cm’の電流密度を用いて動作される。
(1)はpH測定装置、(2)はコンピューター、(3
)は電圧調整器、(4)は電気透析電解槽そして(5)
は電気透析電解槽のチェンバーのためのすすぎ用容器を
表わす。本発明を制限することなく、電気透析電解槽E
DZIは本発明によって開示されるような方法を実施す
るために1〜150mA/cm”好ましくは2〜20m
A/cm’の電流密度を用いて動作される。
本発明によって開示されるような方法を実施するための
電気透析電解槽EDZIに、商業的に入手しうるカチオ
ンおよびアニオン交換膜を使用することができる。カチ
オン交換膜としては例えばNEOSEPTA@ CL−
25T, NEOSEPT^■CK3(徳山ンーダ(株
)、日本)およびSELEMION@CMV(旭硝子(
株)、日本)が挙げられる。アニオン交換膜としては例
えばNEOSEPTA@ACH−45T, NEOSE
PTA@AK3, SELEMION@AIJV,
SELEMION@AMPおよびSELEMION@
AMFが挙げられる。本発明によって開示されるような
方法を実施するだめの電気透析電解槽において、陽極部
分はカチオン交換膜によりそして陰極部分はアニオン交
換膜により境界が設けられている。本発明を制限するこ
となく、徳山ソーダ(株)(7)NEOSEPTA@C
MXおよびAMXタイプの交換膜が好ましくはここで使
用される。本発明を制限することなく、好ましくはNE
OSEPTA■ACM,NEOSEPTA■AFNまた
はNEOSEPTA@AM− 3タイプのア二オン交換
膜そしてNEOSEPTA ’3CK3またはNEOS
EPTAOCIJ− 2タイプのカチオン交換膜が電解
槽スタック(ce l lstack)に使用される。
電気透析電解槽EDZIに、商業的に入手しうるカチオ
ンおよびアニオン交換膜を使用することができる。カチ
オン交換膜としては例えばNEOSEPTA@ CL−
25T, NEOSEPT^■CK3(徳山ンーダ(株
)、日本)およびSELEMION@CMV(旭硝子(
株)、日本)が挙げられる。アニオン交換膜としては例
えばNEOSEPTA@ACH−45T, NEOSE
PTA@AK3, SELEMION@AIJV,
SELEMION@AMPおよびSELEMION@
AMFが挙げられる。本発明によって開示されるような
方法を実施するだめの電気透析電解槽において、陽極部
分はカチオン交換膜によりそして陰極部分はアニオン交
換膜により境界が設けられている。本発明を制限するこ
となく、徳山ソーダ(株)(7)NEOSEPTA@C
MXおよびAMXタイプの交換膜が好ましくはここで使
用される。本発明を制限することなく、好ましくはNE
OSEPTA■ACM,NEOSEPTA■AFNまた
はNEOSEPTA@AM− 3タイプのア二オン交換
膜そしてNEOSEPTA ’3CK3またはNEOS
EPTAOCIJ− 2タイプのカチオン交換膜が電解
槽スタック(ce l lstack)に使用される。
二極性膜として、反対の極性を有する2つのイオンー選
択的7イルムからなるラミネートを使用することができ
、それは2つの商業的に入手しうるカチオンおよびアニ
オン交換膜を一緒に置くことにより得られ、または膜の
両側にカチオンおよびアニオンー選択的特性を有する機
能化された複合7イルムであってよい。その製作のため
に、B. Bauer, F.J. Garnerおよ
びH、S L ra thmannの塩水中における゛
二極性膜の開発(Development of Bi
polar Membranes)″’ 68.279
〜292(1988年)を参照した。
択的7イルムからなるラミネートを使用することができ
、それは2つの商業的に入手しうるカチオンおよびアニ
オン交換膜を一緒に置くことにより得られ、または膜の
両側にカチオンおよびアニオンー選択的特性を有する機
能化された複合7イルムであってよい。その製作のため
に、B. Bauer, F.J. Garnerおよ
びH、S L ra thmannの塩水中における゛
二極性膜の開発(Development of Bi
polar Membranes)″’ 68.279
〜292(1988年)を参照した。
錯体からEDTAを解離させるために、(ある場合にお
いては電解的に)銅イオンをプロセス水から本発明の方
法に従ってプロセス処理する前に、すなわち電気透析電
解槽EDZI中に導入する前に除去することが望ましい
。
いては電解的に)銅イオンをプロセス水から本発明の方
法に従ってプロセス処理する前に、すなわち電気透析電
解槽EDZI中に導入する前に除去することが望ましい
。
それぞれの場合に応じて、EDZI中の無電荷のEDT
Aの分離後、すなわち鉱酸(好ましくは硫酸)の添加後
、まだl , 000ppmのオーグーでEDTAを含
有ずる残りの液体は代I)で)がわるにアニオンおよび
カチ74−ン交換膜を備えている第2の電気透析電解槽
EDZ2を通過させることが望ましい。第5図はこのよ
うな電気透析電解槽EDZ2を示すものである。それは
次の配置 A−K1〜KM−K!−(AM−K,−KM−K2−)
。AIJ−Ki−KM−K+−K(ここでAは陽極であ
1つ、 Kは陰極であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KIJはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1−100でありそして 二極性膜の値を採用することができる)から構成される
。nが2〜10の値を有する電解槽が好ましい。
Aの分離後、すなわち鉱酸(好ましくは硫酸)の添加後
、まだl , 000ppmのオーグーでEDTAを含
有ずる残りの液体は代I)で)がわるにアニオンおよび
カチ74−ン交換膜を備えている第2の電気透析電解槽
EDZ2を通過させることが望ましい。第5図はこのよ
うな電気透析電解槽EDZ2を示すものである。それは
次の配置 A−K1〜KM−K!−(AM−K,−KM−K2−)
。AIJ−Ki−KM−K+−K(ここでAは陽極であ
1つ、 Kは陰極であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KIJはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1−100でありそして 二極性膜の値を採用することができる)から構成される
。nが2〜10の値を有する電解槽が好ましい。
本発明を制限することなく、電気透析電解槽は好ましく
は5〜3 0 m A / c m ”の電流密度を用
いて動作される。
は5〜3 0 m A / c m ”の電流密度を用
いて動作される。
残りの溶液の電気透析において、約1.7のpH値で硫
酸塩8J′びギ酸塩イオンのいわゆる′t/F縮サイク
ル(チェンバーi<t)中への輸送そして同時に希釈サ
イクル(チェンバーK3)中におけるEDTAの保持が
起こる。これにより液体中でEDTAがゆっくりと濃縮
され、それはさらに希釈サイクルから濃縮サイクルへの
電気浸透水輸送により強化されそしてさらにEDTA沈
澱を開始させる。
酸塩8J′びギ酸塩イオンのいわゆる′t/F縮サイク
ル(チェンバーi<t)中への輸送そして同時に希釈サ
イクル(チェンバーK3)中におけるEDTAの保持が
起こる。これにより液体中でEDTAがゆっくりと濃縮
され、それはさらに希釈サイクルから濃縮サイクルへの
電気浸透水輸送により強化されそしてさらにEDTA沈
澱を開始させる。
濃縮サイクル中のEDTAを含まない液体は場合によっ
てはさらに慣用の洗浄ステージに挿入することにより下
水処理することができ、一方希釈サイクルからのEDT
A含有液体は有利にはEDTA沈澱後に残留する液体と
再び合一さJ1る(上記参照)。
てはさらに慣用の洗浄ステージに挿入することにより下
水処理することができ、一方希釈サイクルからのEDT
A含有液体は有利にはEDTA沈澱後に残留する液体と
再び合一さJ1る(上記参照)。
このようにして本発明の方法により場合によってはさら
に電解による予備洗浄および/または電気透析による補
足的な洗浄のようなプロセス工程と組み合わせて、連続
して銅めっき浴からEDTAを除去しそして取得するこ
と、並びにブ口セス水をそれを直接下水処理するかまた
はプロセス中Iこ再利用するかの何れかができるような
方法で精製することが可能となった。
に電解による予備洗浄および/または電気透析による補
足的な洗浄のようなプロセス工程と組み合わせて、連続
して銅めっき浴からEDTAを除去しそして取得するこ
と、並びにブ口セス水をそれを直接下水処理するかまた
はプロセス中Iこ再利用するかの何れかができるような
方法で精製することが可能となった。
第1〜第3図は、本発明の方法および個々のチェンバー
中における反応を行なうのに重要である持別に開発され
た電気透析電解槽EDZ 1の構成要素を示すものであ
り、 第4図は電解調節の配置を示すものであり、そして第5
図は本発明のもう1つの電気透析電解槽を示すものであ
る。 特許出願人 インターナショナル・ビジ不ス・マシー
ンズ・コーポレーション
中における反応を行なうのに重要である持別に開発され
た電気透析電解槽EDZ 1の構成要素を示すものであ
り、 第4図は電解調節の配置を示すものであり、そして第5
図は本発明のもう1つの電気透析電解槽を示すものであ
る。 特許出願人 インターナショナル・ビジ不ス・マシー
ンズ・コーポレーション
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1) エチレンジアミン四酢酸(EDTA)のプロトン
付与により無電解銅めっきのプロセス水から連続的にE
DTAを除去しそして取得する方法において、EDTA
を含有するプロセス水は代わるがわるに二極性膜および
アニオン交換膜および/またはカチオン交換膜を備えて
おりそしてそれに電位差が印加されている電気透析電解
槽中に導入されること;EDTAはその無電荷の形態に
変換されること;そのプロセスに要求されるプロトンは
電気透析により二極性膜を経て生成されること;および
要求されるpH値は二極性膜を経由するpH−制御され
た電界調節により調整されることを特徴とする該方法。 2) アニオンとして存在するEDTAは電気透析によ
りアニオン交換膜を経てプロトン付与前にプロセス水か
ら分離され、そして二極性膜およびアニオン交換膜によ
って境界が設けられているチェンバー中に輸送されるこ
とを特徴とする請求項1記載の方法。 3) カチオンはカチオン交換膜を経由する電気透析に
よりプロセス水から除去されることを特徴とする請求項
1または2の何れかの項に記載の方法。 4) 電気透析電解槽EDZ1は1〜150mA/cm
^2の電流密度を用いて動作されることを特徴とする請
求項1〜3の何れかの項に記載の方法。 5) 電気透析電解槽EDZ1は好ましくは2〜20m
A/cm^2の電流密度を用いて動作されることを特徴
とする請求項4記載の方法。 6) 無電荷のEDTAを含有する液体が代わるがわる
にアニオンおよびカチオン交換膜を備えた第2電気透析
電解槽EDZ2を通過させられることそして残りのイオ
ンは電気透析により除去されることを特徴とする請求項
1〜5の何れかの項に記載の方法。 7) エチレンジアミン四酢酸(EDTA)のプロトン
付与により無電解銅めっきのプロセス水から連続的にE
DTAを除去しそして取得する方法において、EDTA
を含有するプロセス水はそれ自体既知の方法で鉱酸を用
いて酸性化され、沈澱したEDTAはろ去され、そして
残留する液体は次に代わるがわるにアニオンおよびカチ
オン交換膜を備えた電気透析電解槽EDZ2を通過させ
られること;およびEDTAは電気透析により液体中の
残りのイオンから分離されることを特徴とする該方法。 8) プロトン付与の前に銅イオンがプロセス水から電
解により除去されることを特徴とする請求項1〜7の何
れかの項に記載の方法。 9) プロトン付与中に溶液のpH値が0.9〜2.2
好ましくはおよそ1.7の値まで低下されることを特徴
とする請求項1〜8の何れかの項に記載の方法。 10) 電気透析電解槽EDZ2が5〜30mA/cm
^2の電流密度を用いて動作されることを特徴とする請
求項6または7記載の方法。 11) 次の配置 A−K_1−KM−K_2−(BM−K_3−AM−K
_4−KM−K_5−)_nBM−K_6−AM−K_
7−K(ここでAは陽極であり、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1〜100でありそして 二極性膜のアニオン選択的層は陰極に面し ている) から構成されていることを特徴とする請求項1〜6、8
および9の何れかの項に記載の方法を実施するための電
気透析電解槽EDZ1。 12) 次の配置 A−K_1−KM−K_2−(BM−K_3−KM−K
_4−)_nBM−K_5−AM−K_6−K(ここで
Aは陽極であり、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMまアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1〜100でありそして 二極性膜のアニオン選択的層は陰極に面し ている) から構成されていることを特徴とする請求 項1、3〜6、8および9の何れかの項に記載の方法を
実施するための電気透析電解槽 EDZ1。 13) 次の配置 A−K_1−KM−K_2−(BM−K_3−AM−K
_4−)_nBM−K_5−AM−K_6−K(ここで
Aは陽極であり、 Kは陰極であり、 BMは二極性膜であり、 AMはアニオン交換膜であり、 KMはカチオン交換膜であり、 Kiはチェンバーであり、 nは1〜100でありそして 二極性膜のアニオン選択的層は陰極に面し ている) から構成されていることを特徴とする請求 項1、2、4〜6、8および9の何れかの項に記載の方
法を実施するための電気透析電解槽EDZ1。 14) nは好ましくは2〜10であることを特徴とす
る請求項11、12または13記載の電気透析電解槽E
DZ1。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3929137A DE3929137C1 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | |
| DE3929137.5 | 1989-09-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0397874A true JPH0397874A (ja) | 1991-04-23 |
| JPH0723538B2 JPH0723538B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=6388464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2201590A Expired - Lifetime JPH0723538B2 (ja) | 1989-09-01 | 1990-07-31 | 無電解銅めっきのプロセス水から連続的にエチレンジアミン四酢酸を除去しそして取得する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5091070A (ja) |
| EP (1) | EP0416312B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0723538B2 (ja) |
| DE (2) | DE3929137C1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010037573A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Canon Electronics Inc | 無電解めっき液の再生方法および再生装置 |
| JP2013528480A (ja) * | 2010-04-16 | 2013-07-11 | アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 膜電解スタック、スタックを含む電気透析装置および無電解メッキ浴の再生方法 |
| JP2014095132A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Akita Univ | レアメタルの回収方法及び回収装置 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3929121C1 (ja) * | 1989-09-01 | 1991-02-28 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | |
| US5160417A (en) * | 1991-09-11 | 1992-11-03 | Environmental Systems (International) Ltd. | Electrolytic process for treatment of photographic wastewater effluent |
| US5472585A (en) * | 1994-11-30 | 1995-12-05 | At&T Corp. | Regeneration of spent electroless copper plating solution |
| US5792315A (en) * | 1995-02-27 | 1998-08-11 | Eka Chemicals Ab | Purifying aqueous effluent from a pulp mill using electro chemical membrane device |
| SE9500732L (sv) * | 1995-02-27 | 1996-08-28 | Eka Chemicals Ab | Förfarande för behandling av vätskor |
| US6596148B1 (en) | 1999-08-04 | 2003-07-22 | Mykrolis Corporation | Regeneration of plating baths and system therefore |
| US6391209B1 (en) | 1999-08-04 | 2002-05-21 | Mykrolis Corporation | Regeneration of plating baths |
| US6942779B2 (en) * | 2000-05-25 | 2005-09-13 | Mykrolis Corporation | Method and system for regenerating of plating baths |
| US6733679B2 (en) * | 2001-11-06 | 2004-05-11 | Intel Corporation | Method of treating an electroless plating waste |
| US7211682B2 (en) | 2003-07-21 | 2007-05-01 | Akzo Nobel N.V. | Aqueous solution of a sodium salt of HEDTA |
| EP2559666B1 (en) * | 2007-08-27 | 2014-07-23 | Technion Research & Development Foundation Ltd. | pH gradients controlled by electrolysis, and their use in isoelectric focusing |
| JP5550729B2 (ja) * | 2009-08-18 | 2014-07-16 | テクニオン リサーチ アンド ディベロップメント ファウンデーション リミテッド | プロトン濃度トポグラフィーならびにその生成方法および生成デバイス |
| DE102009037954A1 (de) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Voith Patent Gmbh | Verfahren zur Rückgwinnung von Chemikalien aus bei der Erzeugung lignozellulosischer Faserstoffe anfallendem Abwasser |
| WO2011021195A1 (en) | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Technion Research & Development Foundation Ltd. | Methods and devices of separating molecular analytes |
| WO2012059133A1 (de) * | 2010-11-05 | 2012-05-10 | Voith Patent Gmbh | Verfahren zur rückgewinnung von chemikalien aus bei der erzeugung lignozellulosischer faserstoffe anfallendem abwasser |
| ES2909508T3 (es) * | 2011-06-07 | 2022-05-06 | Imtex Membranes Corp | Reposición de material líquido a la membrana |
| SI23762A (sl) | 2011-06-17 | 2012-12-31 | Envit D.O.O. | Ponovna uporaba edta po pranju onesnaĺ˝enih tal |
| DE202015002289U1 (de) * | 2015-03-25 | 2015-05-06 | Hartmut Trenkner | Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5811775A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 銅の化学メッキ廃液の再生方法 |
| JPS61207444A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-13 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | 二極性膜の製法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3674669A (en) * | 1970-04-01 | 1972-07-04 | Rai Res Corp | Concentration of electrolyte from dilute washings by electrodialysis in a closed system |
| EP0015737B1 (en) * | 1979-03-05 | 1983-05-11 | Electrochem International, Inc. | Process for the regeneration of electroless plating baths |
| US4289597A (en) * | 1979-03-05 | 1981-09-15 | Electrochem International, Inc. | Process for electrodialytically regenerating an electroless plating bath by removing at least a portion of the reacted products |
| US4324629A (en) * | 1979-06-19 | 1982-04-13 | Hitachi, Ltd. | Process for regenerating chemical copper plating solution |
| US4425205A (en) * | 1982-03-13 | 1984-01-10 | Kanto Kasei Co., Ltd. | Process for regenerating electroless plating bath and a regenerating apparatus of electroless plating bath |
| US4552635A (en) * | 1983-05-02 | 1985-11-12 | Allied Corporation | Electrodialytic methods for removal of sulfur oxides from waste gases |
| US4549946A (en) * | 1984-05-09 | 1985-10-29 | Electrochem International, Inc. | Process and an electrodialytic cell for electrodialytically regenerating a spent electroless copper plating bath |
| US4629545A (en) * | 1984-08-10 | 1986-12-16 | Allied Corporation | Electrodialytic water splitter and process for removal of SO2 from gases containing same and for recovery of SO2 and NaOH |
| US4600493A (en) * | 1985-01-14 | 1986-07-15 | Morton Thiokol, Inc. | Electrodialysis apparatus for the chemical maintenance of electroless copper plating baths |
| US4680098A (en) * | 1985-03-18 | 1987-07-14 | Amoco Corporation | Aqueous recovery of cobalt or cobalt and manganese from solution also containing oxygenated aromatic compounds |
| US4615780A (en) * | 1985-11-05 | 1986-10-07 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method of removing oxides of sulfur and oxides of nitrogen from exhaust gases |
| DE3603986A1 (de) * | 1986-02-08 | 1987-08-13 | Degussa | Verfahren zur aufarbeitung der nach abtrennung des enzysm verbleibenden loesung aus der enzymatischen racematspaltung einer n-acetyl-dl-aminocarbonsaeure in gegenwart einer l-aminosaeureacylase |
| US4839056A (en) * | 1988-06-02 | 1989-06-13 | Cahn Robert P | Recovery and concentration of aqueous acids and bases |
| US5006211A (en) * | 1989-04-19 | 1991-04-09 | Pulp And Paper Research Institute Of Canada | Electrodialylic water splitting process for the treatment of aqueous electrolytes |
| DE3929121C1 (ja) * | 1989-09-01 | 1991-02-28 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De |
-
1989
- 1989-09-01 DE DE3929137A patent/DE3929137C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-31 JP JP2201590A patent/JPH0723538B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-09 EP EP90115300A patent/EP0416312B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-09 DE DE69013825T patent/DE69013825T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-30 US US07/575,264 patent/US5091070A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5811775A (ja) * | 1981-07-13 | 1983-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 銅の化学メッキ廃液の再生方法 |
| JPS61207444A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-13 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | 二極性膜の製法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010037573A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Canon Electronics Inc | 無電解めっき液の再生方法および再生装置 |
| JP2013528480A (ja) * | 2010-04-16 | 2013-07-11 | アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 膜電解スタック、スタックを含む電気透析装置および無電解メッキ浴の再生方法 |
| JP2014095132A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Akita Univ | レアメタルの回収方法及び回収装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5091070A (en) | 1992-02-25 |
| EP0416312A3 (en) | 1991-08-07 |
| DE69013825D1 (de) | 1994-12-08 |
| DE3929137C1 (ja) | 1991-02-28 |
| DE69013825T2 (de) | 1995-05-18 |
| JPH0723538B2 (ja) | 1995-03-15 |
| EP0416312A2 (en) | 1991-03-13 |
| EP0416312B1 (en) | 1994-11-02 |
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