JPH0410021B2 - - Google Patents
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- JPH0410021B2 JPH0410021B2 JP57213961A JP21396182A JPH0410021B2 JP H0410021 B2 JPH0410021 B2 JP H0410021B2 JP 57213961 A JP57213961 A JP 57213961A JP 21396182 A JP21396182 A JP 21396182A JP H0410021 B2 JPH0410021 B2 JP H0410021B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- diluter
- pipe
- dilution
- gas
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、放射性試料ガスの採取・希釈装置に
関するものである。
関するものである。
（従来の技術）
原子力発電所では、必要に応じて放射能濃度の
高いガスを採取、希釈して、分析する必要があ
る。
高いガスを採取、希釈して、分析する必要があ
る。
（発明が解決しようとする課題）
前記放射能濃度の高いガスの採取、希釈作業を
作業者自身が行うのは、(1)被爆の危険性が大き
い。(2)作業の効率が悪い。という問題がある。
作業者自身が行うのは、(1)被爆の危険性が大き
い。(2)作業の効率が悪い。という問題がある。
本発明は前記の問題点に鑑み提案するものであ
り、その目的とする処は、高い希釈率を容易に得
られる。また装置を小型化できる。さらに採取、
希釈作業を自動化できる放射性試料ガスの採取・
希釈装置を提供しようとする点にある。
り、その目的とする処は、高い希釈率を容易に得
られる。また装置を小型化できる。さらに採取、
希釈作業を自動化できる放射性試料ガスの採取・
希釈装置を提供しようとする点にある。
（課題を解決するための手段）
上記の目的を達成するために、本発明は、試料
ガス導入管に第１の開閉弁を介して連絡した計量
管と、同計量管の出口側に第２の開閉弁をもつ連
絡管を介して連絡するとともに圧力計を具えた希
釈器と、同希釈器に第３の開閉弁を介して連絡し
た真空ポンプと、前記計量管の入口側に第４の開
閉弁を介して連絡した希釈ガス供給装置と、前記
希釈器に連絡した第１の排気管と、同第１の排気
管に設けた第５の開閉弁と、前記計量管の出口側
に連絡した第２の排気管と、同第２の排気管に設
けた第６の開閉弁とを有する放射性試料ガスの採
取・希釈装置において、前記計量管と前記希釈器
とを連絡する連絡管から前記希釈器の内部側にか
けて試料ガスと希釈ガスとを旋回流として混合さ
せる混合促進機構を設け、同希釈器を別の弁を介
して分析器へ連絡している。
ガス導入管に第１の開閉弁を介して連絡した計量
管と、同計量管の出口側に第２の開閉弁をもつ連
絡管を介して連絡するとともに圧力計を具えた希
釈器と、同希釈器に第３の開閉弁を介して連絡し
た真空ポンプと、前記計量管の入口側に第４の開
閉弁を介して連絡した希釈ガス供給装置と、前記
希釈器に連絡した第１の排気管と、同第１の排気
管に設けた第５の開閉弁と、前記計量管の出口側
に連絡した第２の排気管と、同第２の排気管に設
けた第６の開閉弁とを有する放射性試料ガスの採
取・希釈装置において、前記計量管と前記希釈器
とを連絡する連絡管から前記希釈器の内部側にか
けて試料ガスと希釈ガスとを旋回流として混合さ
せる混合促進機構を設け、同希釈器を別の弁を介
して分析器へ連絡している。
（実施例）
次に本発明の放射性試料ガスの採取・希釈装置
を第１，２，３図に示す一実施例により説明する
と、第１図の０１が試料ガス冷却器、０２がサン
プル計量管、０３が希釈器、０４が真空ポンプ、
エジエクタ等の真空化機能を有する機器、１１が
試料ガス流通系統配管で、必要ならばこの試料ガ
ス流通系統配管１１にポンプが付加される。
を第１，２，３図に示す一実施例により説明する
と、第１図の０１が試料ガス冷却器、０２がサン
プル計量管、０３が希釈器、０４が真空ポンプ、
エジエクタ等の真空化機能を有する機器、１１が
試料ガス流通系統配管で、必要ならばこの試料ガ
ス流通系統配管１１にポンプが付加される。
また１４が希釈ガス供給配管で、希釈ガスに
は、窒素ガスなどが用いられる。また１２が希釈
後の気体試料を分析器（或いは分析器へ導入する
ための採取器）に導く配管、１３，１５，１６が
排気系統であり、所定の気体廃棄物処理装置へ導
かれる。このうち、１３が第２の排気管、１５が
第１の排気管である。
は、窒素ガスなどが用いられる。また１２が希釈
後の気体試料を分析器（或いは分析器へ導入する
ための採取器）に導く配管、１３，１５，１６が
排気系統であり、所定の気体廃棄物処理装置へ導
かれる。このうち、１３が第２の排気管、１５が
第１の排気管である。
また３３が第１の開閉弁、３５が第２の開閉
弁、４１が第３の開閉弁、３４が第４の開閉弁、
３８が第５の開閉弁、３６が第６の開閉弁、３
１，３２，３７，３９，４０がその他の開閉弁、
５０，５１が試料ガスの圧力計及び温度計、５
２，５３が希釈器０３の気体の圧力計及び温度
計、Ｖがベントである。
弁、４１が第３の開閉弁、３４が第４の開閉弁、
３８が第５の開閉弁、３６が第６の開閉弁、３
１，３２，３７，３９，４０がその他の開閉弁、
５０，５１が試料ガスの圧力計及び温度計、５
２，５３が希釈器０３の気体の圧力計及び温度
計、Ｖがベントである。
また第２図の１７が上記計量管０２と上記希釈
器０３とを連絡する連絡管で、同連絡管１７から
上記希釈器０３の内部入口側にかけて混合促進機
構（エジエクタ形式の希釈ガス吐出口管）が設け
られている。また１７ａが同希釈ガス吐出管１７
の吐出口部で、試料ガス導入管１１に第１の開閉
弁３３を介して計量管０２を連絡し、同計量管０
２の出口側に第２の開閉弁３５を介して希釈器０
３を連絡し、同希釈器０３に第３の開閉弁４１を
介して真空ポンプ０４を連絡し、計量管０２の入
口側に第４の開閉弁３４を介して希釈ガス供給装
置１４を連絡する一方、希釈器０３の内部入口側
に促進機構１７を設け、同希釈器０３を別の開閉
弁３７を介して分析器の系統の配管１２に連絡し
ている。
器０３とを連絡する連絡管で、同連絡管１７から
上記希釈器０３の内部入口側にかけて混合促進機
構（エジエクタ形式の希釈ガス吐出口管）が設け
られている。また１７ａが同希釈ガス吐出管１７
の吐出口部で、試料ガス導入管１１に第１の開閉
弁３３を介して計量管０２を連絡し、同計量管０
２の出口側に第２の開閉弁３５を介して希釈器０
３を連絡し、同希釈器０３に第３の開閉弁４１を
介して真空ポンプ０４を連絡し、計量管０２の入
口側に第４の開閉弁３４を介して希釈ガス供給装
置１４を連絡する一方、希釈器０３の内部入口側
に促進機構１７を設け、同希釈器０３を別の開閉
弁３７を介して分析器の系統の配管１２に連絡し
ている。
なお上記促進機構（エジエクタ形式の希釈ガス
吐出管）１７は、第３図及びに示すように希
釈器０３内に接線方向の流れを生起させるものに
代えても差し支えない。
吐出管）１７は、第３図及びに示すように希
釈器０３内に接線方向の流れを生起させるものに
代えても差し支えない。
次に前記第１図に示す放射性試料ガスの採取・
希釈装置の作用を具体的に説明する。特に断らな
い弁は閉とする。
希釈装置の作用を具体的に説明する。特に断らな
い弁は閉とする。
(i) 試料ガスの採取に先立ち、開閉弁３９，４１
を開にし、真空ポンプ０４を作動して、圧力計
５２を監視しながら希釈器０３内を真空化す
る。次いで開閉弁４０，４１を開にし、窒素ガ
ス等の希釈ガスを希釈ガス供給配管１４→開閉
弁４０，４１を経て希釈器０３内へ導入する。
以下の工程を繰り返し行うことにより、希釈器
０３内を希釈ガスのみにして、清浄化する。
を開にし、真空ポンプ０４を作動して、圧力計
５２を監視しながら希釈器０３内を真空化す
る。次いで開閉弁４０，４１を開にし、窒素ガ
ス等の希釈ガスを希釈ガス供給配管１４→開閉
弁４０，４１を経て希釈器０３内へ導入する。
以下の工程を繰り返し行うことにより、希釈器
０３内を希釈ガスのみにして、清浄化する。
(ii) このように希釈器０３内を清浄化したら、開
閉弁３１，３２，３３，３６を開にして、採取
対象ガスを試料ガス流通系統配管１１→開閉弁
３１，３２，３３→サンプル計量管０２→開閉
弁３６→排気系統１３へ流す。一定時間経過
後、開閉弁３１，３２，３３，３６を閉にし
て、一定容積の試料ガスをサンプル計量管０２
内へ封じ込める。
閉弁３１，３２，３３，３６を開にして、採取
対象ガスを試料ガス流通系統配管１１→開閉弁
３１，３２，３３→サンプル計量管０２→開閉
弁３６→排気系統１３へ流す。一定時間経過
後、開閉弁３１，３２，３３，３６を閉にし
て、一定容積の試料ガスをサンプル計量管０２
内へ封じ込める。
(iii) 開閉弁３９，４１を開にし、真空ポンプ０４
を作動して、圧力計５２を監視しながら希釈器
０３内を真空化する。定められた圧力になれ
ば、開閉弁３９，４１を閉にして、真空ポンプ
０４を止める。
を作動して、圧力計５２を監視しながら希釈器
０３内を真空化する。定められた圧力になれ
ば、開閉弁３９，４１を閉にして、真空ポンプ
０４を止める。
(iv) 開閉弁３５を開にして、サンプル計量管０２
内の試料ガスを開閉弁３５→第２図または第３
図，に示す促進機構（エジエクタ形式の希
釈ガス吐出管）１７→希釈器０３内へ導入す
る。またこのとき、開閉弁３４を開にし、希釈
ガスを希釈ガス供給配管１４→開閉弁３４→サ
ンプル計量管０２→開閉弁３５→上記促進機構
１７→希釈器０３内へ導入する。つまりサンプ
ル計量管０２内の試料ガスを希釈ガス供給配管
１４からの希釈ガスにより希釈器０３へ押し出
し、希釈器０３内へ流入させて、このときに発
生する旋回流と相挨つて試料ガスの希釈を促進
する。またこのとき、サンプル計量管０２の内
周面に付着している微細固形粒子等を流入する
希釈ガスにより洗い流し、除去して、精確な試
料ガスを入手できるようにする。
内の試料ガスを開閉弁３５→第２図または第３
図，に示す促進機構（エジエクタ形式の希
釈ガス吐出管）１７→希釈器０３内へ導入す
る。またこのとき、開閉弁３４を開にし、希釈
ガスを希釈ガス供給配管１４→開閉弁３４→サ
ンプル計量管０２→開閉弁３５→上記促進機構
１７→希釈器０３内へ導入する。つまりサンプ
ル計量管０２内の試料ガスを希釈ガス供給配管
１４からの希釈ガスにより希釈器０３へ押し出
し、希釈器０３内へ流入させて、このときに発
生する旋回流と相挨つて試料ガスの希釈を促進
する。またこのとき、サンプル計量管０２の内
周面に付着している微細固形粒子等を流入する
希釈ガスにより洗い流し、除去して、精確な試
料ガスを入手できるようにする。
(v) 希釈の完了は、圧力計５２によつて判る。
なお圧力範囲が広いため、複数の圧力計を設
けて、広い圧力範囲をカバーすることは言うま
でもない。
けて、広い圧力範囲をカバーすることは言うま
でもない。
(vi) 以上の希釈では、計量管０２の容積、希釈器
０３の容積、及び希釈前後の圧力によつて定ま
る一定限度の希釈しか得られないが、本発明に
よれば、次の操作が可能で、さらに高い希釈率
を得ることができる。即ち、 (vii) 開閉弁３８を開にし、圧力計５２を監視しな
がら一定圧力（これは排気系統１３からガスが
逆流しないため）まで希釈器０３内の気体を排
出する。次いで開閉弁４１，３９を開にし、真
空ポンプ０４を作動して、圧力計５２を監視し
ながら希釈器０３内の減圧を行う。定められた
圧力になれば、開閉弁３９，４１を閉にし、真
空ポンプ０４を停止させ、次いで開閉弁３４，
３５を開にして、希釈ガスを希釈器０３内内へ
導入する。この(vii)項に記載した一連の工程を繰
り返し行うことにより、高い希釈率が得られ
る。
０３の容積、及び希釈前後の圧力によつて定ま
る一定限度の希釈しか得られないが、本発明に
よれば、次の操作が可能で、さらに高い希釈率
を得ることができる。即ち、 (vii) 開閉弁３８を開にし、圧力計５２を監視しな
がら一定圧力（これは排気系統１３からガスが
逆流しないため）まで希釈器０３内の気体を排
出する。次いで開閉弁４１，３９を開にし、真
空ポンプ０４を作動して、圧力計５２を監視し
ながら希釈器０３内の減圧を行う。定められた
圧力になれば、開閉弁３９，４１を閉にし、真
空ポンプ０４を停止させ、次いで開閉弁３４，
３５を開にして、希釈ガスを希釈器０３内内へ
導入する。この(vii)項に記載した一連の工程を繰
り返し行うことにより、高い希釈率が得られ
る。
(viii) 希釈率が所定の値になれば、全ての開閉弁を
閉じ、開閉弁３７を開にして、分析に供する。
閉じ、開閉弁３７を開にして、分析に供する。
なお以上の操作において、希釈器０３内に残存
する試料ガスの絶対量は、圧力計５２及び温度計
５３を用いて気体の状態方程式から容易に算出す
ることができる。
する試料ガスの絶対量は、圧力計５２及び温度計
５３を用いて気体の状態方程式から容易に算出す
ることができる。
（発明の効果）
本発明の試料ガスの採取・希釈装置は前記のよ
うに構成されており、次の効果を達成できる。
うに構成されており、次の効果を達成できる。
(a) 高い希釈率を容易に得られる。即ち、放射能
濃度の高いガスの場合、測定機器の測定可能範
囲から考えて、103，104，105などの高い希釈
率が要求される。このような場合、本発明によ
れば、例えば、減圧時の圧力を絶対圧力150mm
Hg（−0.8Kg／cm2Ｇ）、希釈ガスの導入圧力を絶
対圧力1500mmHg（１Kg／cm2Ｇ）とすれば、１回
の真空−希釈ガス導入操作で、10倍毎の希釈が
できる。
濃度の高いガスの場合、測定機器の測定可能範
囲から考えて、103，104，105などの高い希釈
率が要求される。このような場合、本発明によ
れば、例えば、減圧時の圧力を絶対圧力150mm
Hg（−0.8Kg／cm2Ｇ）、希釈ガスの導入圧力を絶
対圧力1500mmHg（１Kg／cm2Ｇ）とすれば、１回
の真空−希釈ガス導入操作で、10倍毎の希釈が
できる。
また減圧時の圧力を絶対圧力15mmHg（−0.98
Kg／cm2Ｇ）、希釈ガスの導入圧力を絶対圧力
1500mmHg（１Kg／cm2Ｇ）とすれば、１回の真空
−希釈ガス導入操作で、100倍毎の希釈ができ
る。
Kg／cm2Ｇ）、希釈ガスの導入圧力を絶対圧力
1500mmHg（１Kg／cm2Ｇ）とすれば、１回の真空
−希釈ガス導入操作で、100倍毎の希釈ができ
る。
このように本発明によれば、高い希釈率を容
易に得られる。
易に得られる。
(b) 装置を小型化できる。即ち、上記(1)項で述べ
たように排気−希釈ガス導入の繰り返しで、希
釈を行うのが本発明の特徴である。例えば104
の希釈を行うのに、10mlのサンプル計量管０２
が用意されていれば、圧力一定のとき、通常の
希釈方法では、100の希釈器０３を必要とし
ているが、本発明では、例えば１，10など
の容量の希釈器０３で十分目的を達成すること
ができて、装置を小型化できる。
たように排気−希釈ガス導入の繰り返しで、希
釈を行うのが本発明の特徴である。例えば104
の希釈を行うのに、10mlのサンプル計量管０２
が用意されていれば、圧力一定のとき、通常の
希釈方法では、100の希釈器０３を必要とし
ているが、本発明では、例えば１，10など
の容量の希釈器０３で十分目的を達成すること
ができて、装置を小型化できる。
(c) 自動化が可能で、放射線被爆の危険性を小さ
くできる上に、作業の効率化を達成できる。即
ち、本発明の構成機器は、計量管、希釈器、真
空ポンプ、希釈ガス供給装置、開閉弁等であ
り、プログラム−ケンサー等を用いて操作する
ことができ、自動化が可能で、放射線被爆の危
険性を小さくできる上に、作業の効率化を達成
できる。また採取サンプル量が極小で済み、作
業者は希釈後の濃度の低いガスに近接すること
なつて、この点からも放射線被爆の危険性を低
減できる。
くできる上に、作業の効率化を達成できる。即
ち、本発明の構成機器は、計量管、希釈器、真
空ポンプ、希釈ガス供給装置、開閉弁等であ
り、プログラム−ケンサー等を用いて操作する
ことができ、自動化が可能で、放射線被爆の危
険性を小さくできる上に、作業の効率化を達成
できる。また採取サンプル量が極小で済み、作
業者は希釈後の濃度の低いガスに近接すること
なつて、この点からも放射線被爆の危険性を低
減できる。
(d) 精確な希釈試料ガスを短時間で得られる。即
ち、本発明のように実プラントから採取される
試料ガスが放射性を有し、しかもガス成分以外
に微細固形分を含んでいる場合には、循環ポン
プ等の循環系にこの微細固形分が付着し易く
て、適切な希釈試料ガスが得られない。つまり
上記循環系が放射能により汚染されると、放射
線被爆の危険性が増大するとともに、その除染
も容易でないが、本発明では、サンプル計量管
内の試料ガスを希釈ガス供給配管からの希釈ガ
スにより希釈器へ押し出し、希釈器内へ強制的
に流入させて、このときに発生する旋回流と相
挨つて試料ガスの希釈を促進する。またこのと
き、サンプル計量管の内周面に付着している微
細固形粒子等を強制的に流入する希釈ガスによ
り洗い流して、除去するので、精確な試料ガス
を短時間で得られる。
ち、本発明のように実プラントから採取される
試料ガスが放射性を有し、しかもガス成分以外
に微細固形分を含んでいる場合には、循環ポン
プ等の循環系にこの微細固形分が付着し易く
て、適切な希釈試料ガスが得られない。つまり
上記循環系が放射能により汚染されると、放射
線被爆の危険性が増大するとともに、その除染
も容易でないが、本発明では、サンプル計量管
内の試料ガスを希釈ガス供給配管からの希釈ガ
スにより希釈器へ押し出し、希釈器内へ強制的
に流入させて、このときに発生する旋回流と相
挨つて試料ガスの希釈を促進する。またこのと
き、サンプル計量管の内周面に付着している微
細固形粒子等を強制的に流入する希釈ガスによ
り洗い流して、除去するので、精確な試料ガス
を短時間で得られる。
第１図は本発明に係わる試料ガスの採取・希釈
装置の一実施例を示す系統図、第２図は希釈器内
での促進手段の一例を示す横断側面図、第３図
は同促進手段の他の例を示す横断側面図、第３図
はその横断平面図である。 ０２……計量管、０３……希釈器、０４……真
空ポンプ、１１……試料ガス導入管、１４……希
釈ガス供給装置、１３……第２の排気管、１５…
…第１の排気管、１７……連絡管、３３……第１
の開閉弁、３５……第２の開閉弁、４１……第３
の開閉弁、３４……第４の開閉弁、３７……別の
開閉弁、３６……第６の開閉弁、３８……第５の
開閉弁、３２，３７，３９，４０……その他の開
閉弁。
装置の一実施例を示す系統図、第２図は希釈器内
での促進手段の一例を示す横断側面図、第３図
は同促進手段の他の例を示す横断側面図、第３図
はその横断平面図である。 ０２……計量管、０３……希釈器、０４……真
空ポンプ、１１……試料ガス導入管、１４……希
釈ガス供給装置、１３……第２の排気管、１５…
…第１の排気管、１７……連絡管、３３……第１
の開閉弁、３５……第２の開閉弁、４１……第３
の開閉弁、３４……第４の開閉弁、３７……別の
開閉弁、３６……第６の開閉弁、３８……第５の
開閉弁、３２，３７，３９，４０……その他の開
閉弁。
Claims (1)
- １ 試料ガス導入管に第１の開閉弁を介して連絡
した計量管と、同計量管の出口側に第２の開閉弁
をもつ連絡管を介して連絡するとともに圧力計を
具えた希釈器と、同希釈器に第３の開閉弁を介し
て連絡した真空ポンプと、前記計量管の入口側に
第４の開閉弁を介して連絡した希釈ガス供給装置
と、前記希釈器に連絡した第１の排気管と、同第
１の排気管に設けた第５の開閉弁と、前記計量管
の出口側に連絡した第２の排気管と、同第２の排
気管に設けた第６の開閉弁とを有する放射性試料
ガスの採取・希釈装置において、前記計量管と前
記希釈器とを連絡する連絡管から前記希釈器の内
部側にかけて試料ガスと希釈ガスとを旋回流とし
て混合させる混合促進機構を設け、同希釈器を別
の弁を介して分析器へ連絡したことを特徴とする
放射性試料ガスの採取・希釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213961A JPS59104583A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 放射性試料ガスの採取・希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57213961A JPS59104583A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 放射性試料ガスの採取・希釈装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59104583A JPS59104583A (ja) | 1984-06-16 |
| JPH0410021B2 true JPH0410021B2 (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=16647924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57213961A Granted JPS59104583A (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | 放射性試料ガスの採取・希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59104583A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106596206A (zh) * | 2015-10-19 | 2017-04-26 | 富士电机株式会社 | 试料采集装置及试料采集方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0737954B2 (ja) * | 1987-03-05 | 1995-04-26 | フイガロ技研株式会社 | 有機溶剤蒸気の検出方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5073692A (ja) * | 1973-10-30 | 1975-06-17 | ||
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1982
- 1982-12-08 JP JP57213961A patent/JPS59104583A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106596206A (zh) * | 2015-10-19 | 2017-04-26 | 富士电机株式会社 | 试料采集装置及试料采集方法 |
| CN106596206B (zh) * | 2015-10-19 | 2019-03-01 | 富士电机株式会社 | 试料采集装置及试料采集方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59104583A (ja) | 1984-06-16 |
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