JPH04102206A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH04102206A
JPH04102206A JP21692190A JP21692190A JPH04102206A JP H04102206 A JPH04102206 A JP H04102206A JP 21692190 A JP21692190 A JP 21692190A JP 21692190 A JP21692190 A JP 21692190A JP H04102206 A JPH04102206 A JP H04102206A
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head
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薫 青木
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Katsumi Sakata
勝美 坂田
Atsushi Suzuki
篤 鈴木
Yukari Uchiumi
内海 ゆかり
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッド特に磁気コアの磁気ギャップ形成
面に高飽和磁束密度の軟磁性金属膜が被着形成されて成
るいわゆるM I G(Metal in Gap)型
磁気ヘッドに係わる。
口発明の概要〕 本発明は磁気ギャップ形成面に、高飽和磁束密度の軟磁
性金属磁性膜が被着形成されて成る磁気ヘッドにおいて
、金属磁性膜にトラック幅方向に磁化容易軸を誘導して
記録及び再生出力特性の向上をはかる。
〔従来の技術〕
磁気ヘッドに用いられる磁性材には、高透磁率を有する
ことが要求される。そして、この高透磁率はMHz帯以
上の高周波において、磁化困難軸方向に磁路を形成する
ことによって得られることができることが知られている
したがって、この磁性材の磁気異方性の大きさや、方向
を制御することで磁気ヘッドの電磁変換特性が大きく左
右される。
例えば、特開昭62−139114号公開公報(資料1
)には、基板上に磁気抵抗効果(MR)型磁気ヘッドと
誘導型磁気ヘッドとが積層されたすなわち薄膜型の磁気
ヘッドにおいて両ヘッドのトラック幅方向、すなわち、
誘導型磁気ヘッドの薄膜ヨークについてもその膜面方向
に一軸異方性が発生するようにしてこれとほぼ直交する
膜面方向の磁束が通る方向を磁化困難軸方向として、高
周波帯域で高い透磁率を示すようにしてヘッドの記録効
率の向上をはかるものである。
更に、特開昭63−304414号公報(資料2)には
、強磁性薄膜と絶縁薄膜とを交互に積層した多層膜構造
のへラドコアによる磁気ヘッドにおいて、ヘッドコアの
磁化容易軸の方向をトラック幅方向と平行にして特性の
向上をはかるに、形状による反磁界係数が大なることに
よるトラック幅方向を磁化容易軸とすることの困難性を
、多層膜の積層面をテープ摺動面に対してトラック幅方
向に傾斜させることによって補償することの記載がある
しかしながら第2図に示すように、例えば高周波特性に
すぐれた磁性フェライト等より成る対の磁気コア(IA
)及び(IB)を互いに対向させ、これらの前方端面間
に形成される磁気ギャップgの形成面すなわちその前方
対向端面に高飽和磁束密度Bsを有する軟磁性金属磁性
膜(2)が形成されてなる磁気ヘッドいわゆるMIG磁
気ヘッドにおいては、その軟磁性金属磁性膜(2)に対
する磁路の方向が、前述した資料1及び2における薄膜
の磁気コアとは異なる態様を採ることから、例えば特開
平1−158606号公開公報(資料3)に示されるよ
うに、ギャップデプス方向に一軸異方性を誘導すること
で少くともその軟磁性金属磁性膜(2)に対して垂直方
向の透磁率の向上をはかるようにしたMIG型の磁気ヘ
ッドの提案がなされている。
しかしながら、この種磁気ヘッドにおいて必ずしも充分
その記録及び再生特性において周波数特性の改善がはか
るれなし)ことが究明された。
二発明が解決しようとする課題〕 本発明においては、上述したMIG型磁気ヘッドにおい
てその記録及び再生特性が安定して低域及び高域におい
て優れた特性を有するようにした磁気ヘッドを提供する
二課題を解決するための手段: 本発明においては、第1図にその路線的拡大斜視図を示
すように、磁気コア(1人)及び(IB)の磁気ギャッ
プgの形成面に高飽和磁束密度Bsを有する軟磁性金属
磁性膜(2)が被着形成されてなる磁気ヘッドにおいて
、その金属磁性膜(2)にトラック輻Tw方向に磁化容
易軸を誘導する。
〔作用〕
上述の本発明構成によれば、低域及び高域において優れ
た記録及び再生特性が得られることが確認された。
〔実施例〕
さらに、第1図を参照して本発明による磁気ヘッドの一
例を詳細に説明する。
実施例1 例えば周波数特性の高いMn2nフェライトよりなり主
たる磁気コア(IA)及び(IB)の磁気ギャップgの
形成面に高飽和磁束密度Bsを有する例えばCo2r系
アモルファスのスパッタ膜による軟磁性金属磁性膜が被
着された構成を有する。このようにして磁気コア(IA
)及び(IB)が対向合体されて形成された磁気へラド
チップに対してこれを所要の磁界例えば4 kOe中で
そのギャップ長方向く磁気コア(IA)及び(IB)の
ギャップ形成面と直交する方向)に沿うチップの中央部
の第1図鎖線aで示す軸を中心として350℃の加熱下
で10分間回転させる方法による回転磁界中加熱アニー
ルいわゆるRFAによってまず磁気異方性を排除する。
その後、トラック幅Tr方向に外部磁界を一致させた状
態で停止した静止磁界加熱アニールいわゆるSFAを2
10℃で30分間行ってトラック幅方向Tiv に磁化
容易軸を誘導する。
このヘッドチップの両磁気コア(IA)及び(IB)に
はヘッド巻線(3)を巻装する。
比較例1 実施例1と同様にRFA及びSFAによるものの、ギャ
ップデプス方向にSFAを行ってギャップデプス方向に
磁化容易軸を誘導した磁気ヘッドを構成した。
上述の実施例1及び比較例1による各ヘッドの記録及び
再生の出力特性を測定した。この場合、各磁気ヘッドは
、その磁気コア(IA)及び(IB)の高さすなわちヘ
ッドチップの高さlをl、 9mmとし、幅Wを2.0
mmとし、厚さtを200μmとし、トラック幅Twを
85μmとし、ギャップ長を0.257μmとし、ギャ
ップデプスを20μmとし、軟磁性金属磁性膜(2)の
厚さ(ギャップ長方向の厚さ)を8μmとした。そして
、これら磁気ヘッドを、金属薄膜型磁気テープを走行速
度6.9m/secをもって各実施例1及び比較例1の
ヘッドについてその記録及び再生出力特性の各周波数に
対して行った測定結果を表1に示す。この場合、アニー
ル処理をRFAのみを行ったものについての特性をO[
]Bとした。
これより明らかなように、ギャップデプス方向に磁化容
易軸を誘導した比較例1の磁気ヘッドに比し本発明によ
る磁気ヘッドは、その周波数特性が低域及び高域におい
て改善されていることがわかる。
本発明による磁気ヘッドは、複数個のへラドチップの磁
気コア(IA)及び(IB)を形成する対の例えばフェ
ライトよりなる磁性ブロックを設け、これらを互いに対
向合体し、この合体ブロックから複数のヘッドチップを
切り出して形成し得る。
各磁性ブロックの互いの対向面には予め各巻線溝(4)
を掘り込み更にその互し)の対向面にそれぞれ高飽和磁
束密度Bsの軟磁性金属磁性膜(2)例えばCoXr系
アモルファスを例えばスパッタによって被着形成しおく
各磁性膜(2)は、これらを各ブロックに被着した状態
で前述したRFA及びS F Aを行うか、あるいは両
ブロックを合体して合体ブロックを形成して後に上述の
RFA及びSFAを行うか、更にまたはこの合体ブロッ
ク切断して各磁気へラドチップを形成して後に上述した
RFA及びSFAを行うか、いずれかの方法をも採り得
る。
また第1図に示した例では、磁気記録媒体との対向面の
中央部にトラック幅Tw を規制する凸部を形成するよ
うにその創外側に切込み(21)を形成したものである
が、このような形状に限らず、種々の構成によることが
できる。
〔発胡の効果〕
上述したように本発明によれば、MIG型磁気ヘッドに
おいて、その高飽和磁束密度Bsを有する軟磁性金属磁
性膜(2)の特にトラック幅方向に磁化容易軸を誘導す
るようにしたことによって低域及び高域に対して再生記
録特性の向上がはかられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気ヘッドの一例の路線的拡大斜
視図、第2図は従来の磁気ヘッドの説明に供する斜視図
である。 (IA)及び(IB)は磁気コア、(2)は軟磁性金属
磁性膜、(3)はヘッド巻線、gは磁気ギャップである
。 石蘇1了           4着4鬼jJk木発8
月1=よる石鼓叡ヘットの−Rりの梁叫ネ見ロ第1図 代  理  人     松  隈  秀  盛第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  磁気コアの磁気ギャップ形成面に高飽和磁束密度の軟
    磁性金属磁性膜が被着形成されて成る磁気ヘッドにおい
    て、 上記金属磁性膜に、トラック幅方向に磁化容易軸を誘導
    して成ることを特徴とする磁気ヘッド。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112048704A (zh) * 2020-08-13 2020-12-08 北京航空航天大学合肥创新研究院 一种超薄多层膜的集成式加工设备及应用方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112048704A (zh) * 2020-08-13 2020-12-08 北京航空航天大学合肥创新研究院 一种超薄多层膜的集成式加工设备及应用方法

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