JPH0410468B2 - - Google Patents

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JPH0410468B2
JPH0410468B2 JP2201284A JP2201284A JPH0410468B2 JP H0410468 B2 JPH0410468 B2 JP H0410468B2 JP 2201284 A JP2201284 A JP 2201284A JP 2201284 A JP2201284 A JP 2201284A JP H0410468 B2 JPH0410468 B2 JP H0410468B2
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trifluoromethyl
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mmole
nitrosotrifluoromethanesulfonamide
acid
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は構造式 で表わされる新規物質N−トリフルオロメチル−
N−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミド
に関するものである。 本発明のN−トリフルオロメチル−N−ニトロ
ソトリフルオロメタンスルホンアミドはトリフル
オロメチル基導入試剤として有用である。トリフ
ルオロメチル基が医薬、農薬の合成において重要
な官能基であることはよく知られていることであ
る〔参考書 石川延男、小林義郎著“フツ素の化
合物”p202〜p232、講談社サイエンテイフイ
ク〕。例えば、本発明のN−トリフルオロメチル
−N−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミ
ドを入手容易なβ−メルカプトプロピオン酸と反
応させることにより容易に農薬として有用なβ−
トリフルオロメチルチオプロピオン酸〔米国特許
第3522293号参照〕へ導くことができる。 従来、トリフルオロメチル基を導入する基本方
法として、(1)官能基をトリフルオロメチル基へ変
換する方法及び(2)トリフルオロメチル基導入試剤
を用いる方法が知られている。(1)の代表例として
は所望のメチル基を塩素ガスでトリクロロメチル
基とした後五フツ化アンチモン等又は金属触媒存
在下フツ化水素を反応させトリフルオロメチル基
に変換する方法、及び所望のカルボキシル基を四
フツ化イオウで処理してトリフルオロメチル基に
変換する方法〔例えばHelv.Chim.Acta、30、107
(1947)、J.Am.Chem.Soc.、82、543(1960)参
照〕が知られている。しかしながらこれらの方法
はいずれも目的とする官能基が必要であり、しか
も腐食性及び毒性の強い塩素ガス、フツ化水素、
四フツ化イオウ、五フツ化アンチモンを用いなけ
ればならずおのずと適用範囲は限定されてしま
う。(2)の方法としては、(a)加熱又は光照射条件下
ヨードトリフルオロメタンを芳香族化合物等と反
応させる方法〔例えばChem.Pharm.Bull.、26
1247(1978)参照〕、(b)金属又は金属塩存在下、ヨ
ードトリフルオロメタン又はトルフルオロ酢酸塩
とハロゲン化物とを反応させる方法〔例えば
Tetrahedron Lett.、42、4071(1979)、Chem.
Lett.、1981、1679、Chem.Lett.、1981、1719参
照〕、(c)電解条件下、トリフルオロ酢酸中で反応
させる方法〔例えばElectrochim.Acta、21、987
(1976)参照〕、(d)光照射条件下N−トリフルオロ
メチル−N−ニトロソアレーンスルホンアミドと
芳香族化合物又はジスルフイドとを反応させる方
法〔Tetrahedron Lett.、23、3929(1982)、特開
昭56−122344号参照〕が知られている。しかしな
がら(a)の方法では収率が低い上にトリフルオロメ
チル化剤であるヨードトリフルオロメタンが気体
状物質であるため反応を効率よく行なおうとする
ためには加圧条件が必要であること、また沃素原
子及び沃素分子が生成するのでそれによる副反応
及び反応容器の腐食等が問題となる。(b)の方法で
は目的物を収率よく得るためにはハロゲン化合物
として高価なヨード化合物を用いなければならな
いし、又金属を用いるため排水規制によつて回収
しなければならないなど反応後の後処理に問題が
ある。(c)の方法では電解反応という特別の条件を
用いなければならず、又トリフルオロ酢酸溶媒中
で行なうためトリフルオロメチル基導入試剤とし
ての効率は非常に悪い。(d)の方法では収率が芳し
くなく、N−トリフルオロメチル−N−ニトロソ
アレーンスルホンアミドがトリフルオロメチル化
剤として働いた後固体のアレーンスルホン酸又は
アレーンスルフイン酸となるため分離等に問題が
あつた。 以上、トリフルオロメチル基を導入する基本方
法及びその欠点について説明したが、本発明の具
体的用途として前記したβ−トリフルオロメチル
チオプロピオン酸を製造する場合もトリフルオロ
メチル基の導入に関しては基本的には前記した従
来法をもつて行つているものであり
〔Tetrahedron Lett.、22、1997(1981)、23
3929(1982)及び特開昭56−122344号参照〕、又、
他の文献〔J.Org.Chem.、22、1275(1957)、米国
特許第3522293号参照〕に見られる方法はトリフ
ルオロメチルチオ基導入剤であるトリフルオロメ
チルメルカプタンを合成するのに毒性の強い水銀
塩を用いなければならないため排水に問題が生じ
ること、又収率の低い工程を含むことから工業的
製法とはいたしがたい。 本発明は従来法の欠点を克服すべく鋭意研究を
重ねた結果本発明を完成したものである。 本発明は2つのトリフルオロメチル基を有する
ことによりトリフルオロメチル化剤としての有用
性が飛躍的に増大し(比較例参照)、又分解生成
物がすべて気体であるため所望の生成物であるト
リフルオロメチル化合物の分離が非常に容易とな
る特徴を有している。 本発明のN−トリフルオロメチル−N−ニトロ
ソトリフルオロメタンスルホンアミドはトリフル
オロニトロソメタンとヒドロキシルアミンとを反
応させた後、塩基の存在下トリフルオロメタンス
ルホニルフロリドと反応させることにより製造す
ることができる。 本反応に用いる塩基としては例えば水素化ナト
リウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の金
属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカ
リ金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の金属水酸化物を用いることができ
る。 本発明の化合物を製造するにあたつては溶媒中
で反応を行うことが望ましく、例えばジメチルホ
ルムアミド、ホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホリツクトリアミド等の極
性溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
等のエーテル溶媒を使用することができる。ま
た、これらの混合溶媒を用いることもできる。 反応は−100℃〜−10℃で進行するが反応が収
率よく円滑に進行するためには−80℃〜−30℃が
好ましい。 以下、実施例、参考例及び比較例により本発明
を更に詳細に説明する。 実施例 300ml三口フラスコにアルゴン雰囲気下、ヒド
ロキシアミン塩酸塩(5.6g、80.6mmole)のジ
メチルホルムアミド−ジエチルエーテル(80ml−
21ml)溶液をとり、これに氷冷下t−ブトキシカ
リウム(9.05g、80.6mmole)を加えた後室温で
15分撹拌、ドライアイス−クロロホルム浴により
−62℃〜−65℃まで冷却し、トリフルオロニトロ
ソメタンをブルーの色が消えなくなるまで加えた
(8.3g、83.8mmole)。次にアルゴンガスで過剰
のトリフルオロニトロソメタンを追い出しフリス
ルオロメタンスルホニルフロリド(12.8g、84.2
mmole)を反応系内に導入した後、50%水素化
ナトリウム(4.26g、88.8mmole)を2時間で加
えた。全量加えた後−63℃で18時間撹拌後、ペン
タン(10ml)を加え−35℃まで昇温後水を加えペ
ンタンで抽出、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥後
真空ラインを用い分離精製し、N−トリフルオロ
メチル−N−ニトロソトリフルオロメタンスルホ
ンアミド10.0g(50%)を得た。物性値は次に示
す。 無色揮発性液体 19F−NMR(重クロロホルム中、トリクロロフ
ロロメタン内部標準);69.71ppm(m、3F、
【式】)、76.51(s、3F、CF3SO2−). IR(neat);1545cm-1(N=O)、1415(SO2). 参考例 パイレツクス製反応管に3−メルカプトプロピ
オン酸(107.2mg、1.0mmole)及びジアセチル
(88μ、1.0mmole)のアセトニトリル(5ml)
溶液をとり、これにN−トリフルオロメチル−N
−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミド
(156μ、1.0mmole)を加えた後脱気封管し、
高圧水銀灯を用いて5時間照射した。シリカゲル
カラムクロマトグラフイー(ペンタン:エーテル
=4:1)により生成物を分離、減圧蒸留により
(125℃/12mmHg)精製し、3−トリフルオロメ
チルチオプロピオン酸157mg(89.2%)を得た。
物性値は次に示す。 無色液体 19F−NMR(重クロロホルム中、トリクロロフ
ロロメタン内部標準);41.5ppm(s). 1H−HMR(重クロロホルム中);2.83ppm(t、
2H、−CH2−)、3.14(t、2H、−CH2−)、9.13
(b、1H、−COOH). IR(neat);3050cm-1、1720、1420、1300、
1250、1210、1115. 比較例 参考例で用いたN−トリフルオロメチル−N−
ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミドの代
わりにN−トリフルオロメチル−N−ニトロソベ
ンゼンスルホンアミド(0.263g、1.04mmole)
を用いた他はすべて参考例と同様のモル比及び操
作で反応を行つた。反応後反応液をガスクロマト
グラフイーで分析したところβ−トリフルオロメ
チルチオプロピオン酸の生成は5%以下であつ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 構造式 で表わされるN−トリフルオロメチル−N−ニト
    ロソトリフルオロメタンスルホンアミド
JP2201284A 1984-02-10 1984-02-10 Ν−トリフルオロメチル−ν−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミド Granted JPS60166658A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2201284A JPS60166658A (ja) 1984-02-10 1984-02-10 Ν−トリフルオロメチル−ν−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミド

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JP2201284A JPS60166658A (ja) 1984-02-10 1984-02-10 Ν−トリフルオロメチル−ν−ニトロソトリフルオロメタンスルホンアミド

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JPS60166658A JPS60166658A (ja) 1985-08-29
JPH0410468B2 true JPH0410468B2 (ja) 1992-02-25

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JP2008285419A (ja) * 2007-05-15 2008-11-27 Central Glass Co Ltd トリフルオロメタンスルホニルフロリドの製造方法

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JPS60166658A (ja) 1985-08-29

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