JPH04105062A - ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法 - Google Patents
ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法Info
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- JPH04105062A JPH04105062A JP22350990A JP22350990A JPH04105062A JP H04105062 A JPH04105062 A JP H04105062A JP 22350990 A JP22350990 A JP 22350990A JP 22350990 A JP22350990 A JP 22350990A JP H04105062 A JPH04105062 A JP H04105062A
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- Japan
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- pressure
- flow rate
- flow
- rate
- carrier gas
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
- G01N30/06—Preparation
- G01N30/10—Preparation using a splitter
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、キャピラリーカラムを用いたガスクロマト
グラフのキャリヤガス流量制御方法に関する。
グラフのキャリヤガス流量制御方法に関する。
キャピラリーカラムを用いたガスクロマトグラフではキ
ャピラリーカラムにはごく微量の試料しか流すことが出
来ないので、注入された試料は完全に気化させた後、ス
プリッタによってその内の一部分のみをキャピラリカラ
ムに通し、残りは大気中に排出するスプリット注入法が
用いられる。
ャピラリーカラムにはごく微量の試料しか流すことが出
来ないので、注入された試料は完全に気化させた後、ス
プリッタによってその内の一部分のみをキャピラリカラ
ムに通し、残りは大気中に排出するスプリット注入法が
用いられる。
即ち、キャピラリーカラムに流れるキャリヤガスの流量
をＵＩ、スプリント出口から排出される流量をＵ、とす
るとスプリント比Ｓは、ＬＬ ／Ｕ＋ ＋Ｕ３である。
をＵＩ、スプリント出口から排出される流量をＵ、とす
るとスプリント比Ｓは、ＬＬ ／Ｕ＋ ＋Ｕ３である。
従来、スプリット比を設定する場合、ますカラム出口の
キャリヤガス流量Ｕ１を流量計で測定するか、又は分析
を一回行ってメタンの保持時間から流量Ｕ１を求め、次
に、スプリット出口の流量Ｕ、を測定しながらスプリッ
ト出口側のニードルバルブを調節し、Ｕ ｌ ／ Ｕ
ｌ ＋ Ｕ ３が目的とするスプリント比になるよう流
量Ｕ３を設定するという煩わしい操作を必要としていた
。そこでキャリヤガス入口にキャリヤガス流量をモニタ
出来る圧力／流量レギュレータを設はスプリット側にそ
のモニタ流量に応じて流路の抵抗を可変出来るフラッパ
を設けることによりスプリット比を自動設定出来るよう
にした。
キャリヤガス流量Ｕ１を流量計で測定するか、又は分析
を一回行ってメタンの保持時間から流量Ｕ１を求め、次
に、スプリット出口の流量Ｕ、を測定しながらスプリッ
ト出口側のニードルバルブを調節し、Ｕ ｌ ／ Ｕ
ｌ ＋ Ｕ ３が目的とするスプリント比になるよう流
量Ｕ３を設定するという煩わしい操作を必要としていた
。そこでキャリヤガス入口にキャリヤガス流量をモニタ
出来る圧力／流量レギュレータを設はスプリット側にそ
のモニタ流量に応じて流路の抵抗を可変出来るフラッパ
を設けることによりスプリット比を自動設定出来るよう
にした。
上記するように、スプリント比を自動設定出来るガスク
ロマトグラフを含め一般にスプリッタを備えたガスクロ
マトグラフはキャリヤガスの消費量が大きく、また昇温
分析中カラム流量（線速度）が変化する等の問題がある
。特に、カラム温度が高くなると、第４図に示すように
キャリヤガス流量が減少する。そして第５図に示すよう
にキャリヤガス流量の線速度がある値になるとカラム効
率を表す指標であるＨＥＴＰが最小となりカラム効率が
良くなるが、ある値より小さくなっても大きくなっても
ＨＥＴＰが大きくなり悪くなっていくという問題がある
。この発明はこれらの課題を解決するためになされたも
のである。
ロマトグラフを含め一般にスプリッタを備えたガスクロ
マトグラフはキャリヤガスの消費量が大きく、また昇温
分析中カラム流量（線速度）が変化する等の問題がある
。特に、カラム温度が高くなると、第４図に示すように
キャリヤガス流量が減少する。そして第５図に示すよう
にキャリヤガス流量の線速度がある値になるとカラム効
率を表す指標であるＨＥＴＰが最小となりカラム効率が
良くなるが、ある値より小さくなっても大きくなっても
ＨＥＴＰが大きくなり悪くなっていくという問題がある
。この発明はこれらの課題を解決するためになされたも
のである。
即ち、この発明は上記課題を解決するために、■ガスク
ロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法が、カラムに
つながる試料注入口のキャリヤガス入口に圧力と流量を
検出出来る圧力／流量レギュレータと、前記試料注入口
のスプリント出口に電気信号により流路抵抗を可変出来
る抵抗器と、前記圧力／流量レギュレータによりカラム
入口圧を設定圧力にするとともに、前記圧力／流量レギ
ュレータによる検出流量が設定スプリット比により定ま
る流量になるように前記抵抗器を制御する制御部とを備
えたスプリット比自動設定可能なガスクロマトグラフに
おいて、試料注入後スプリット側の抵抗を無限大とする
ことを特徴とする。
ロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法が、カラムに
つながる試料注入口のキャリヤガス入口に圧力と流量を
検出出来る圧力／流量レギュレータと、前記試料注入口
のスプリント出口に電気信号により流路抵抗を可変出来
る抵抗器と、前記圧力／流量レギュレータによりカラム
入口圧を設定圧力にするとともに、前記圧力／流量レギ
ュレータによる検出流量が設定スプリット比により定ま
る流量になるように前記抵抗器を制御する制御部とを備
えたスプリット比自動設定可能なガスクロマトグラフに
おいて、試料注入後スプリット側の抵抗を無限大とする
ことを特徴とする。
■更に、試料注入後スプリット側の抵抗を無限大とし、
その後前記圧力／流量レギギュレータを流量制御に切り
換えることを特徴とする。
その後前記圧力／流量レギギュレータを流量制御に切り
換えることを特徴とする。
上記手段とすれば、恒温分析時でのキャリヤガス流量が
押さえられ、また昇温分析の際にもキャリヤガスのカラ
ム流量（線速度）は一定に保てるため常にカラム効率を
落とすことなく分析が可能となる。
押さえられ、また昇温分析の際にもキャリヤガスのカラ
ム流量（線速度）は一定に保てるため常にカラム効率を
落とすことなく分析が可能となる。
以下、この発明の具体的実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
第１図はこの発明にかかるキャリヤガス流量制御方法を
実施するためのガスクロマトグラフの制御部の配置図で
ある。１は試料注入口であり、キャリヤガスはバルブ２
より圧力／流量レギュレータＦＣを経由して供給される
。圧力／流量レギュレータＦＣは後述するように、圧力
レギュレータとしても流量コントローラとしても用いる
ことが出来る装置である。
実施するためのガスクロマトグラフの制御部の配置図で
ある。１は試料注入口であり、キャリヤガスはバルブ２
より圧力／流量レギュレータＦＣを経由して供給される
。圧力／流量レギュレータＦＣは後述するように、圧力
レギュレータとしても流量コントローラとしても用いる
ことが出来る装置である。
前記試料注入口１にはキャピラリーカラム３、スプリッ
ト出口４及びセプタムバージ出口６が接続されている。
ト出口４及びセプタムバージ出口６が接続されている。
スプリント出口４にはフィルタ５を介して電気信号によ
り流路抵抗を可変に出来る抵抗器Ｒが設けられている。
り流路抵抗を可変に出来る抵抗器Ｒが設けられている。
この抵抗器Ｒは後述するようにフラップを電磁石で制御
するようにした抵抗器である。セプタムパージ出口６に
はフィルタ７を介してニードルバルブ８が設けられてい
る。
するようにした抵抗器である。セプタムパージ出口６に
はフィルタ７を介してニードルバルブ８が設けられてい
る。
１２は電気制御部であって圧力／流量レギュレータＦＣ
に電気信号を送ってカラム入口圧Ｐａが一定になるよう
に制御すると共に、圧力／流量レギュレータＦＣから圧
力Ｐ０とキャリヤガス流量ＵＯを検出してモニタし１、
スプリット流量Ｕ３＝０のときの検出流量Ｕｏ （＝
Ｕ＋ ＋Ｕ２ ）と与えられたスプリント比Ｓにより流
量Ｕを Ｕ＝Ｕ、（１−３）／Ｓ＋Ｕ２ として算出し、抵抗器Ｒに電気信号を送って圧力／流量
レギュレータＦＣを流れる全流量Ｕ。が前記算出流量Ｕ
となるように抵抗器Ｒを制御する。
に電気信号を送ってカラム入口圧Ｐａが一定になるよう
に制御すると共に、圧力／流量レギュレータＦＣから圧
力Ｐ０とキャリヤガス流量ＵＯを検出してモニタし１、
スプリット流量Ｕ３＝０のときの検出流量Ｕｏ （＝
Ｕ＋ ＋Ｕ２ ）と与えられたスプリント比Ｓにより流
量Ｕを Ｕ＝Ｕ、（１−３）／Ｓ＋Ｕ２ として算出し、抵抗器Ｒに電気信号を送って圧力／流量
レギュレータＦＣを流れる全流量Ｕ。が前記算出流量Ｕ
となるように抵抗器Ｒを制御する。
ここで、Ｓ＝Ｕ＋ ／ （Ｕｔ ＋Ｕ３） 、ＩＪｔ
はカラム流量、Ｕ２はセプタムパージ流量である。
はカラム流量、Ｕ２はセプタムパージ流量である。
第２図により圧力／流量レギュレータＦＣの構造につい
て説明する。
て説明する。
１４はキャリヤガスの一次側入口でありノズル１５を経
て二次側出口１６から排出される。入ロエ４からノズル
１５の間の流路は途中並列の流路となっており一方には
層流素子１８が、他方には該層流素子１８の両端部の圧
力差を検出するための差圧センサ２０が設けられている
。また、ノズル１５の前には鉄製フラップ２２が設けら
れ、該フラップ２２は電磁石２４で変位させるようにし
である。即ち、電磁石２４に印加される制御電圧によっ
てフラップ２２とノズル１５の間の隙間が調節され二次
圧力及び流量が制御される。２６は二次圧力を検出する
ための圧力センサである。
て二次側出口１６から排出される。入ロエ４からノズル
１５の間の流路は途中並列の流路となっており一方には
層流素子１８が、他方には該層流素子１８の両端部の圧
力差を検出するための差圧センサ２０が設けられている
。また、ノズル１５の前には鉄製フラップ２２が設けら
れ、該フラップ２２は電磁石２４で変位させるようにし
である。即ち、電磁石２４に印加される制御電圧によっ
てフラップ２２とノズル１５の間の隙間が調節され二次
圧力及び流量が制御される。２６は二次圧力を検出する
ための圧力センサである。
差圧センサ２０により検出される差圧と流量の間には一
対一の関係がある。従って、差圧センサ２０の検出信号
を電気制御部Ｉ２に入力し、その検出値が設定値になる
ように電磁石２４０制御電圧にフィードバックをかける
と、この装置は流量コントローラとして働く。また、圧
力センサ２６の圧力検出値を電気制御部１２に入力し、
その検出値が設定値になるように電磁石２４の制御電圧
にフィードバックをかけるとこの装置は圧力レギュレー
タとして働く。従って、圧力／流量レギュレータＦＣは
差圧（すなわち流量）と二次圧力の実際の値を常にモニ
タすることが出来る。
対一の関係がある。従って、差圧センサ２０の検出信号
を電気制御部Ｉ２に入力し、その検出値が設定値になる
ように電磁石２４０制御電圧にフィードバックをかける
と、この装置は流量コントローラとして働く。また、圧
力センサ２６の圧力検出値を電気制御部１２に入力し、
その検出値が設定値になるように電磁石２４の制御電圧
にフィードバックをかけるとこの装置は圧力レギュレー
タとして働く。従って、圧力／流量レギュレータＦＣは
差圧（すなわち流量）と二次圧力の実際の値を常にモニ
タすることが出来る。
次に、第１図における抵抗器Ｒの一例を第３図に示す。
３０は入口であり、入口３０から供給されたキャリヤガ
スを導くために流路が設けられ、ノズル３２を経て出口
３４から排出される。ノズル３２を含む流量の流路抵抗
を可変にするために鉄製フラップ３６が設けられ、該フ
ラップ３６を変位させるために電磁石３８が設けられて
いる。
スを導くために流路が設けられ、ノズル３２を経て出口
３４から排出される。ノズル３２を含む流量の流路抵抗
を可変にするために鉄製フラップ３６が設けられ、該フ
ラップ３６を変位させるために電磁石３８が設けられて
いる。
該電磁石３日には電気制御部１２から制御電圧が印加さ
れる。
れる。
次に第１図に戻ってこの抵抗器Ｒの動作について説明す
る。
る。
セプタムバージ出口６のニードルバルブ８を予め調整し
てセプタムパージ流量を設定しておく。
てセプタムパージ流量を設定しておく。
すなわち、圧力／流量レギュレータＦＣにより試料注入
口１の圧力Ｐａを設定圧力に制御したときのセプタムパ
ージ流量Ｕｔが設定値になるようにニードルバルブ８を
調整する。
口１の圧力Ｐａを設定圧力に制御したときのセプタムパ
ージ流量Ｕｔが設定値になるようにニードルバルブ８を
調整する。
スプリット比Ｓを自動的に設定する動作は次のようにし
て行う。
て行う。
即ち、スプリット出口４の抵抗器Ｒの抵抗を無限大（即
ち、フラップ３６を閉じる）にし、カラム入口圧Ｐ０が
設定圧力になるように圧力／流量レギュレータＦＣを電
気制御部により制御する。
ち、フラップ３６を閉じる）にし、カラム入口圧Ｐ０が
設定圧力になるように圧力／流量レギュレータＦＣを電
気制御部により制御する。
そのとき圧力／流量レギュレータＦＣにより検出される
流量Ｕ０はセプタムパージ流量Ｕ２とカラム３を流れる
流量Ｕ１の和（Ｕ、＋Ｕｚ ）である。
流量Ｕ０はセプタムパージ流量Ｕ２とカラム３を流れる
流量Ｕ１の和（Ｕ、＋Ｕｚ ）である。
次に設定しようとするスプリット比をＳとすると、電気
制御部１２はそのスプリット比Ｓと検出流量（Ｕｔ 十
０２ ）とから、圧力／流量レギュレータＦＣを流れる
流量Ｕを、 Ｕ＝Ｕ、（１−３）／Ｓ＋０２ と算出する。そして電気制御部１２は圧力／流量レギュ
レータＦＣにより検出される流量Ｕ０がその算出流量Ｕ
になるように、抵抗器Ｒの電磁石３８に制御電圧を送り
スプリット流量Ｕ３を制御する。即ち、カラム入口圧Ｐ
０は圧力／流量レギュレータＦＣによって設定値に制御
され、圧力／流量レギュレータＦＣを流れる全流量Ｕ０
は抵抗器Ｒにより流量Ｕに制御される。
制御部１２はそのスプリット比Ｓと検出流量（Ｕｔ 十
０２ ）とから、圧力／流量レギュレータＦＣを流れる
流量Ｕを、 Ｕ＝Ｕ、（１−３）／Ｓ＋０２ と算出する。そして電気制御部１２は圧力／流量レギュ
レータＦＣにより検出される流量Ｕ０がその算出流量Ｕ
になるように、抵抗器Ｒの電磁石３８に制御電圧を送り
スプリット流量Ｕ３を制御する。即ち、カラム入口圧Ｐ
０は圧力／流量レギュレータＦＣによって設定値に制御
され、圧力／流量レギュレータＦＣを流れる全流量Ｕ０
は抵抗器Ｒにより流量Ｕに制御される。
以上の構成からなるスプリッタを備えたガスクロマトグ
ラフにおいて試料を注入し分析する操作方法について説
明する。
ラフにおいて試料を注入し分析する操作方法について説
明する。
イ、まず恒温分析の場合
■キャリヤガスのセプタムパージ流量Ｕ２はニードルバ
ルブ８を調整して予め設定しておく。このときの流量Ｕ
２はメモリしておく。
ルブ８を調整して予め設定しておく。このときの流量Ｕ
２はメモリしておく。
■抵抗器Ｒのフラップ３６を閉じ、すなわち抵抗を無限
大とし、カラム入口圧Ｐ０のときの流量（Ｕ ＋ ±ｔ
Ｊ２ ）をモニタする。
大とし、カラム入口圧Ｐ０のときの流量（Ｕ ＋ ±ｔ
Ｊ２ ）をモニタする。
■予め入力されたスプリット比をＳとする。全流量が、
Ｆ （（Ｓ＋１）／Ｓ）ＵＩ 十Ｕｚ ＡになるようＲ
を制御する。すなわち、カラム入口圧は圧力／流量レギ
ュレータＦＣによってＰｏに制御され、全体流量は抵抗
器Ｒにより Ｕｏ Ｃ＝ Ｃ（Ｓ＋１）／Ｓ） ｕｌ ＋Ｕｚ ）に
制御されることになる。
Ｆ （（Ｓ＋１）／Ｓ）ＵＩ 十Ｕｚ ＡになるようＲ
を制御する。すなわち、カラム入口圧は圧力／流量レギ
ュレータＦＣによってＰｏに制御され、全体流量は抵抗
器Ｒにより Ｕｏ Ｃ＝ Ｃ（Ｓ＋１）／Ｓ） ｕｌ ＋Ｕｚ ）に
制御されることになる。
■ここで試料が試料注入口１へ注入される。
０１〜２分後、抵抗器Ｒのフラップ３６を閉じて抵抗を
無限大とする。
無限大とする。
以上の方法によりキャリヤガスの流量を押さえることが
可能となる。
可能となる。
恒温分析の場合は以上のように行う。
口、昇温分析の場合は更に、
■■の状態で抵抗を無限大としたときの流量、すなわち
、Ｕ＝ＵＩ＋Ｕ２をモニタしておき、圧力／流量レギュ
レータＦＣを流量制御に切り換えＵ＝Ｕｌ ＋ｕ２にな
るように流量制御する。
、Ｕ＝ＵＩ＋Ｕ２をモニタしておき、圧力／流量レギュ
レータＦＣを流量制御に切り換えＵ＝Ｕｌ ＋ｕ２にな
るように流量制御する。
■昇温スタート時の圧力／流量レギュレータＦＣの流量
Ｕ＝Ｕ１＋Ｕ２、カラム入口圧をＰ、カラム抵抗をＲ１
、カラム流量をＵＩ とし、パジ側抵抗をＲ２、パージ
側流量をＵ２とする。
Ｕ＝Ｕ１＋Ｕ２、カラム入口圧をＰ、カラム抵抗をＲ１
、カラム流量をＵＩ とし、パジ側抵抗をＲ２、パージ
側流量をＵ２とする。
そしてｔ秒後カラム抵抗がＲ１＋ΔＲ１、となりこれに
よりカラム圧がＰ＋ΔＰ、となったとする。まず、 従って、ΔＰ＝ （Ｐ十ΔＰ） −Ｐ Ｒ１２ΔＲ。
よりカラム圧がＰ＋ΔＰ、となったとする。まず、 従って、ΔＰ＝ （Ｐ十ΔＰ） −Ｐ Ｒ１２ΔＲ。
Ｒ，＋Ｒ，Ｒ１＋ΔＲ，＋Ｒ。
■を使って、
これにより、
ところでＬ秒後のカラム流量をＵ。
とすると
となる。このカラム流量を昇温開始時の流量Ｕ１に等し
くするためには流量を Ｒ＋ ＋Ｒｚ にする必要がある。これに■を代入して、−ｘ−Ｕ Ｐ−ｘ−ΔＰ となる。ここでＸはＲ＋ とＲ２との比、すなわちχ＝
Ｒｚ ／ Ｒｒである。
くするためには流量を Ｒ＋ ＋Ｒｚ にする必要がある。これに■を代入して、−ｘ−Ｕ Ｐ−ｘ−ΔＰ となる。ここでＸはＲ＋ とＲ２との比、すなわちχ＝
Ｒｚ ／ Ｒｒである。
ばカラム流量は常に一定になり、且つカラム効率を落と
すことなく分析が可能となる。
すことなく分析が可能となる。
この発明にかかるガスクロマトグラフのキャリヤガス流
量制御方法は以上詳述したような構成としたので、キャ
ピラリーカラムを使用するガスクロマトグラフでの課題
であったキャリヤガスの消費量の少量化を実現すること
が出来る。また、昇温分析時でもキャリヤガスのカラム
流量（線速度）は一定に保てるため常に最適のカラム効
率での分析が可能となる。
量制御方法は以上詳述したような構成としたので、キャ
ピラリーカラムを使用するガスクロマトグラフでの課題
であったキャリヤガスの消費量の少量化を実現すること
が出来る。また、昇温分析時でもキャリヤガスのカラム
流量（線速度）は一定に保てるため常に最適のカラム効
率での分析が可能となる。
第１図はこの発明にかかるキャリヤガス流量制御方法を
実施するためのガスクロマトグラフの制御部の配置図、
第２図は圧力／流量レギュレータＦＣの内部構造を示す
図、第３図は抵抗器の内部構造を示す図、第４図はカラ
ムそう温度とキャリヤガス流量との関係を示す図、第５
図はキャリャガス線速度とカラム効率（ＨＥＴＰ）との
関係を示す図である。 １〜試料注入口 ３−キャピラリカラム４−スプリット
出口 ６−セブタムパージ出口１２−電気制御部 １５
．３２・−・ノズル出口１８−層流素子 ２〇−差圧セ
ンサ ２２．３６−フラップ ２４．３８・・−電磁石２６−
圧力センサ ＦＣ−圧力／流量レギュレータ Ｒ−抵抗器出願人 株
式会社 島 津 製 作 所代理人 弁理士 河 崎
眞 樹 ２０・、〜差圧センサ １８−−ｍ−層流素子 ２６・・−圧カセンサ カラムそう温度（”Ｃ） 第５図 キャリアガス線速度Ｕ キャリアガスのＨＥＴ、Ｐ曲線に対する影響子 続 ネ甫 正 書（方式） 事件の表示 平成 ２年特許願第２２３５０９号 ２゜ 発明の名称 ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法３゜ 補正をする者 事件との関係
実施するためのガスクロマトグラフの制御部の配置図、
第２図は圧力／流量レギュレータＦＣの内部構造を示す
図、第３図は抵抗器の内部構造を示す図、第４図はカラ
ムそう温度とキャリヤガス流量との関係を示す図、第５
図はキャリャガス線速度とカラム効率（ＨＥＴＰ）との
関係を示す図である。 １〜試料注入口 ３−キャピラリカラム４−スプリット
出口 ６−セブタムパージ出口１２−電気制御部 １５
．３２・−・ノズル出口１８−層流素子 ２〇−差圧セ
ンサ ２２．３６−フラップ ２４．３８・・−電磁石２６−
圧力センサ ＦＣ−圧力／流量レギュレータ Ｒ−抵抗器出願人 株
式会社 島 津 製 作 所代理人 弁理士 河 崎
眞 樹 ２０・、〜差圧センサ １８−−ｍ−層流素子 ２６・・−圧カセンサ カラムそう温度（”Ｃ） 第５図 キャリアガス線速度Ｕ キャリアガスのＨＥＴ、Ｐ曲線に対する影響子 続 ネ甫 正 書（方式） 事件の表示 平成 ２年特許願第２２３５０９号 ２゜ 発明の名称 ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法３゜ 補正をする者 事件との関係
Claims (2)
- （１）カラムにつながる試料注入口のキャリヤガス入口
に圧力と流量を検出出来る圧力／流量レギュレータと、
前記試料注入口のスプリット出口に電気信号により流路
抵抗を可変出来る抵抗器と、前記圧力／流量レギギュレ
ータによりカラム入口圧を設定圧力にするとともに、前
記圧力／流量レギュレータによる検出流量が設定スプリ
ット比により定まる流量になるように前記抵抗器を制御
する制御部とを備えたスプリット比自動設定可能なガス
クロマトグラフにおいて、試料注入後スプリット側の抵
抗を無限大とすることを特徴とするガスクロマトグラフ
のキャリヤガス流量制御方法。 - （２）カラムにつながる試料注入口のキャリヤガス入口
に圧力と流量を検出出来る圧力／流量レギュレータと、
前記試料注入口のスプリット出口に電気信号により流路
抵抗を可変出来る抵抗器と、前記圧力／流量レギギュレ
ータによりカラム入口圧を設定圧力にするとともに、前
記圧力／流量レギュレータによる検出流量が設定スプリ
ット比により定まる流量になるように前記抵抗器を制御
する制御部とを備えたスプリット比自動設定可能なガス
クロマトグラフにおいて、試料注入後スプリット側の抵
抗を無限大とし、その後前記圧力／流量レギギュレータ
を流量制御に切り換えることを特徴とするガスクロマト
グラフのキャリヤガス流量制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22350990A JPH04105062A (ja) | 1990-08-25 | 1990-08-25 | ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22350990A JPH04105062A (ja) | 1990-08-25 | 1990-08-25 | ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04105062A true JPH04105062A (ja) | 1992-04-07 |
Family
ID=16799263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22350990A Pending JPH04105062A (ja) | 1990-08-25 | 1990-08-25 | ガスクロマトグラフのキャリヤガス流量制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04105062A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5339673A (en) * | 1992-04-06 | 1994-08-23 | Shimadzu Corporation | Gas chromatograph and method of using same |
| JPH0727753A (ja) * | 1993-07-13 | 1995-01-31 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ装置 |
| US5672810A (en) * | 1995-07-18 | 1997-09-30 | Shimadzu Corporation | Gas chromatograph apparatus for a liquid sample containing a solvent |
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