JPH04105807U - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPH04105807U JPH04105807U JP983391U JP983391U JPH04105807U JP H04105807 U JPH04105807 U JP H04105807U JP 983391 U JP983391 U JP 983391U JP 983391 U JP983391 U JP 983391U JP H04105807 U JPH04105807 U JP H04105807U
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- magnetic
- thin film
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本考案は薄膜磁気ヘッドに関し、磁束が急峻で
あるという薄膜磁気ヘッド本来の長所を維持し、しかも
高密度な記録を行い得る薄膜磁気ヘッドを実現すること
を目的とする。 【構成】コイル5を絶縁層12a,12b、及び上下部
のコア材3,6間に挟装する。透磁率の高い磁性フェラ
イトによって形成された上下部のコア材3,6のギャッ
プ形成部3c,6cの部分に、磁性フェライトよりも飽
和磁束密度の高いセンダスト(登録商標)による金属磁
性膜11,13を形成し、ギャップ14を形成する。 【効果】金属磁性膜11,13によりギャップ形成部3
c,6cにおける磁気飽和が防止でき、高密度の記録が
可能となる。
あるという薄膜磁気ヘッド本来の長所を維持し、しかも
高密度な記録を行い得る薄膜磁気ヘッドを実現すること
を目的とする。 【構成】コイル5を絶縁層12a,12b、及び上下部
のコア材3,6間に挟装する。透磁率の高い磁性フェラ
イトによって形成された上下部のコア材3,6のギャッ
プ形成部3c,6cの部分に、磁性フェライトよりも飽
和磁束密度の高いセンダスト(登録商標)による金属磁
性膜11,13を形成し、ギャップ14を形成する。 【効果】金属磁性膜11,13によりギャップ形成部3
c,6cにおける磁気飽和が防止でき、高密度の記録が
可能となる。
Description
【0001】
本考案は薄膜磁気ヘッドに係り、特に記録特性の向上を図った薄膜磁気ヘッド
に関する。
【0002】
磁気ヘッドには種々の構造を有した物が提案されており、そのひとつとしてコ
ア,コイル等を薄膜技術を用いて形成した薄膜磁気ヘッドが知られている。
【0003】
図4は従来の薄膜磁気ヘッドの一例の主要部の構成を示す断面図である。同図
に示す薄膜磁気ヘッド1は、一般的な薄膜形成技術により、大略、以下に示すよ
うに形成される。
【0004】
非磁性体で形成された基板2上に、例えば磁性フェライト等の単一材料により
下部コア3を形成し、その上に絶縁層4aを形成する。次に、導体を渦巻状とし
たコイル5を形成し(図4においては下部コア材3上に形成された部分のみが断
面として図示されている)、更にその上に絶縁層4bを形成する。そして、絶縁
層4b上に下部コア3と同一材料の上部コア6を形成し、最後に保護層7で全体
を覆う。
【0005】
上記の如く形成された薄膜磁気ヘッド1の図中左端側面は記録媒体(図示せず
)との対向面1aである。この対向面1a上には、下部コア3及び上部コア6の
端面3a,6aが絶縁層4aを挟んで離間した状態で配設されており、この隙間
が薄膜磁気ヘッド1のギャップ8となる。
【0006】
上記構成の薄膜磁気ヘッド1は、他の所謂バルクタイプのヘッドに比べて上部
コア6と下部コア3の記録媒体と対向する端面3a,6aの面積を小さくするこ
とができる。その結果、ギャップ8を跨ぐ磁束が小さい面積の端面3a,6aか
ら集中して飛ぶことにより、磁束の端面3a,6aに対する傾斜が急となり、上
記対向面1a上の高い位置まで磁束が到達する。即ち磁束が急峻となる。そして
、磁束が急峻である薄膜磁気ヘッド1を実際に使用すると、記録媒体の深い部
分に記録することができ、確実な記録を達成できる。特に磁気ディスクの記録
装置においては、記録特性がディスクと磁気ヘッドとの間隙寸法に影響されなく
なる。等の効果が得られる。
【0007】
このように薄膜磁気ヘッドは、その構造により、磁束が急峻となるという長所
を本質的に有している。
【0008】
近年、高記録密度の磁気記録再生処理の需要が高まっており、これに対応する
磁気ヘッドは、記録時には高い飽和磁束密度が必要とされ、また再生時には十分
な再生感度を得るために、特に高周波領域において高い透磁率が必要とされてい
る。そして、上記構成の薄膜磁気ヘッド1においては、上述した効果を得るため
に記録媒体と対向する部分の面積を小さくしているため、バルクタイプのヘッド
に比べて磁束密度が飽和し易く、磁束が急峻であるにも係わらず高密度な記録の
達成が妨げられていた。これは、再生特性を良好とするために、下部コア3及び
上部コア6の材料として高透磁率の磁性フェライト等を使用した場合、一般に高
透磁率の磁性材料は、材料の物性として飽和磁束密度が低いため、高密度な記録
はより困難とされていた。
【0009】
そこで本考案は上記課題に鑑みなされたもので、磁束が急峻であるという薄膜
磁気ヘッド本来の長所を維持し、しかも高密度な記録ができる薄膜磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
【0010】
上記目的を達成するために本考案は、
第1の磁性体による一対のコア材を備えてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記第1の磁性体よりも飽和磁束密度の高い第2の磁性体による金属磁性膜を
、前記一対のコア材に薄膜状に夫々形成して、該夫々の金属磁性膜間を磁気ギャ
ップとした構成である。
【0011】
第1の磁性体よりも飽和磁束密度の高い第2の磁性体による金属磁性膜を、一
対のコア材に設けて磁気ギャップを構成することにりより、一対のコア材の磁気
ギャップ近傍における飽和磁束密度が高くなり、記録時の磁気飽和が防止できる
。また、金属磁性膜は薄膜状に形成されるため、コア材の記録媒体と対向する面
の面積は従来に比べて増加しない。このため、磁束が急峻となる薄膜磁気ヘッド
の条件はそのまま維持される。
【0012】
図1は本考案になる薄膜磁気ヘッドの第1実施例の主要部の構成を示す断面図
、図2は図1に示す薄膜磁気ヘッドを記録媒体の対向面より見た正面図である。
尚、図1は図2中I−I線に沿う断面を示す。
【0013】
図1に示す薄膜磁気ヘッド10は、ギャップ形成部10bを除いては図4に示
す従来の磁気ヘッド1と同一構成である。よって、図4に示す部分と対応する部
分については同一符号を付す。以下、薄膜磁気ヘッド10の構成について詳述す
る。
【0014】
図1中、薄膜磁気ヘッド10の左端側面は、磁気テープ等の記録媒体(図示せ
ず)が摺接又は隙間を有して対向する対向面10aである。本実施例の場合、記
録媒体は対向面10aに対向して図中Z1 −Z2 方向に移動することにより記録
再生が行われる。
【0015】
対向面10aの一部を形成する基板2は、例えばセラミック等による非磁性材
により形成され、その上面2aは平坦な面とされている。この平坦な面2a上に
は、下部コア材3が、端面3aを対向面10aに露出させて薄膜形成されている
。この下部コア材3は、磁性フェライト等の透磁率の高い磁性体材料が、スパッ
タリング等により基板2上に薄膜形成されたものであり、その膜厚寸法は、本体
部3bの部分で5μm程度、対向面10a近傍のギャップ形成部3cの部分では
、絞り込まれて3μm程度とされている。
【0016】
下部コア材3のギャップ形成部3c上には、端面11aを対向面10a上に露
出させた金属磁性膜11が薄膜状に形成されている。この金属磁性膜11は、下
部コア材3を構成する磁性フェライトよりも高い飽和磁束密度を有する例えばセ
ンダスト(登録商標)等により形成されている。金属磁性膜11の膜厚寸法は、
上記ギャップ形成部3cの膜厚寸法(膜厚=3μm)よりも薄い1μm以下の寸
法とされている。
【0017】
コイル5は、基板2の上面2aに沿って渦巻状に形成された導体パターンであ
り(図1においては、3回巻き渦巻状の半径部分が断面として図示されている)
、下部コア材3上の部分においては、図1に示すように、絶縁層12aを挟装し
て形成されている。
【0018】
絶縁層12a上には、コイル5を覆うように絶縁層12bが形成され、更にそ
の上部に下部コア材3と同一材質である上部コア材6が薄膜状に形成されている
。この上部コア材6は、凸状の曲面でコイル5を覆うように形成された本体部6
bと(図1では図示の便宜上、台形状に図示されている)、対向面10a近傍の
ギャップ形成部6cとより構成されている。本体部6bの一端部6dは下部コア
材3の端部3dと接触状態にある。また、上部コア材6の膜厚寸法は、下部コア
材3と同等であり、本体部6bが5μm程度、ギャップ形成部6cが3μm程度
である。
【0019】
上記上下部のコア材3,6の端部3d,6dは、コイル5の渦巻状の中心位置
に配設されており、上下部のコア材3,6は、コイル5のうち、中心から最外周
までの半径部分を挟装している。また、上下部のコア材3,6は絶縁層12a,
12bによりコイル5と電気的に絶縁された状態にある。従って、コイル5に通
電すると、上下部のコア材3,6が励磁される構成である。
【0020】
ギャップ形成部6cの下部には、端面13aを対向面10a上に露出させた金
属磁性膜13が、上記金属磁性膜11に対向する位置に形成されている。この金
属磁性膜13は、金属磁性膜11と同一材料、同一形状とされている。金属磁性
膜11,13間には絶縁層12cが充填され、図2に示すように、X1 −X2 方
向に沿ったギャップ14が形成されている。ギャップ14のX1 −X2 方向の幅
寸法は、薄膜磁気ヘッド10のトラック幅を表している。また、ギャップ14の
間隔寸法は、約 0.1μm程度であり、これは、従来の薄膜磁気ヘッド1と同一寸
法とされている。
【0021】
以上説明した上下部のコア材3,6のギャップ形成部3c,6cと、金属磁性
膜11,13と、絶縁層12cとが、上述した薄膜磁気ヘッド10のギャップ形
成部10bを構成する。
【0022】
また、上部コア材6の上部には非磁性体材料による保護層7が形成され、基板
2上に上記の如く形成された各種薄膜を外部の衝撃から守っている。
【0023】
このように、基板2上に薄膜状に形成される、上下部のコア材3,6、コイル
5、絶縁層12a,12b,12c、金属磁性膜11,13、及び保護層7は、
全て一般的なスパッタリング等の薄膜形成技術、及びフォトリソグラフィー技術
等により、基板2に近い方から順に形成される。
【0024】
一般に薄膜磁気ヘッドは、上述したようにコア材が薄膜によって形成されるた
め、コア材の記録媒体と対向する部分の面積を小さくすることができ、それによ
りバルクタイプの磁気ヘッドに比べて磁束を急峻にすることができるという長所
を有している。しかしながらその反面、面積が小さいがために磁束密度が飽和し
易いという短所を有し、このため、記録時に磁気飽和が発生し、高密度な記録が
できないという問題点があった。
【0025】
しかしながら本実施例の薄膜磁気ヘッド10によれば、上下部のコア材3,6
よりも飽和磁束密度の高い金属磁性膜11,13を上下部のコア材3,6のギャ
ップ形成部3c,6cに夫々形成してギャップ14を形成することにより、金属
磁性膜11,13を含めた上下部のコア材3,6の、ギャップ14近傍における
飽和磁束密度は高くなり、従来のような磁気飽和の発生が防止される。従って、
薄膜磁気ヘッド10を使用すれば、従来に比べて高密度な記録が可能となる。
【0026】
また、上記の如く金属磁性膜11,13は、上下部のコア材3,6よりも小さ
い膜厚寸法で形成されるため、端面11a,13aの面積は極小となる。従って
、金属磁性膜11,13を含めた上下部のコア材3,6の端面(端面3a,6a
+端面11a,13a)の面積は、従来に比べてさほど増加しない。このため、
記録媒体との対向面積が小さいことによって磁束が急峻となるという薄膜磁気ヘ
ッド本来の長所は、本実施例の薄膜磁気ヘッド10においてもそのまま維持され
る。
【0027】
更に、薄膜磁気ヘッド10は、上下部のコア材3,6に透磁率の高い磁性フェ
ライトを使用しているため再生時には再生感度が良い。
【0028】
このように、本実施例の薄膜磁気ヘッド10によれば、高密度な記録ができ、
且つ急峻な磁束でその記録を確実として記録特性が良好となり、しかも再生特性
をも良好とした薄膜磁気ヘッドを実現することが可能となる。更に、図2に示す
ように、薄膜磁気ヘッド10をトラック方向(X1 −X2 方向)に複数並設させ
ることにより(図2においては10-1,10-2の2つのみを図示している)、高
密度、多チャンネルの磁気ヘッドを実現することができる。
【0029】
尚、本考案は上記実施例に限定されるものではなく、上下部のコア材3,6に
使用された磁性フェライトは、パーマロイ等の材料であってもよく、また、金属
磁性膜11,13に使用されたセンダストはアモルファス等の材料であってもよ
い。
【0030】
また、図3に示す第2実施例も考えられる。図3は本考案になる薄膜磁気ヘッ
ドの第2実施例の主要部の構成を示す断面図である。
【0031】
本実施例の薄膜磁気ヘッド20は、図1に示す薄膜磁気ヘッド10のうち、上
下部のコア材3,6のギャップ形成部3c,6c全体を高飽和磁束密度を有する
金属磁性膜21,22に置換した一例である。これによれば、上下部のコア材2
3,24の対向面20a上に露出した部分の面積、即ち、金属磁性膜21,22
の端面21a,22aの面積は、第1実施例の薄膜磁気ヘッド10よりも、金属
磁性膜11,13の端面11a,13aの面積の分だけ小さくなり、薄膜磁気ヘ
ッド10に比べ、より急峻な磁束を得ることができる。
【0032】
以上のように本考案によれば、一対のコア材の記録媒体と対向する面の面積を
従来に比べて大きく変化させることなく、コア材の磁気ギャップ近傍における飽
和磁束密度を高めることかでき、これによって、記録時の磁気飽和を防止するこ
とができる。このため、急峻な磁束が得られるという薄膜磁気ヘッド本来の長所
を損なわずに高密度な記録を行うことができ、薄膜磁気ヘッドの記録特性の向上
を図ることができる。
【図1】本考案になる薄膜磁気ヘッドの第1実施例の主
要部の構成を示す断面図であり、図2中I−I線に沿う
断面を示す。
要部の構成を示す断面図であり、図2中I−I線に沿う
断面を示す。
【図2】図1に示す薄膜磁気ヘッドを記録媒体の対向面
より見た正面図である。
より見た正面図である。
【図3】本考案になる薄膜磁気ヘッドの第2実施例の主
要部の構成を示す断面図である。
要部の構成を示す断面図である。
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの一例の主要部の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
2 基板
3,24 下部コア材
5 コイル
6,23 上部コア材
7 保護層
10,20 薄膜磁気ヘッド
10a,20a 対向面
10b,3c,6c ギャップ形成部
11,13,21,22 金属磁性膜
12a,12b,12c 絶縁層
14 ギャップ
Claims (1)
- 【請求項1】 第1の磁性体による一対のコア材を備え
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記第1の磁性体より
も飽和磁束密度の高い第2の磁性体による金属磁性膜
を、前記一対のコア材に薄膜状に夫々形成して、該夫々
の金属磁性膜間を磁気ギャップとした構成の薄膜磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP983391U JPH04105807U (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP983391U JPH04105807U (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04105807U true JPH04105807U (ja) | 1992-09-11 |
Family
ID=31900039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP983391U Pending JPH04105807U (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04105807U (ja) |
-
1991
- 1991-02-27 JP JP983391U patent/JPH04105807U/ja active Pending
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