JPH04106789A - Memory cell circuit for sram - Google Patents

Memory cell circuit for sram

Info

Publication number
JPH04106789A
JPH04106789A JP2226333A JP22633390A JPH04106789A JP H04106789 A JPH04106789 A JP H04106789A JP 2226333 A JP2226333 A JP 2226333A JP 22633390 A JP22633390 A JP 22633390A JP H04106789 A JPH04106789 A JP H04106789A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
value
circuit
current
cell circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2226333A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2557279B2 (en
Inventor
Katsushi Asahina
朝比奈 克志
Tomoko Fujii
智子 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2226333A priority Critical patent/JP2557279B2/en
Publication of JPH04106789A publication Critical patent/JPH04106789A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2557279B2 publication Critical patent/JP2557279B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To stably hold the written data by providing an impedance control means for controlling the impedance of a load means for constituting a latch circuit in response to an operation mode of a memory cell circuit. CONSTITUTION:In the case a memory cell is in an access state, a level of a control voltage Vc becomes the highest value VH in a write operation. According ly, a current I6 having a value IH flows through a transitor TR 6a and 6b. In a read-out operation of the memory cell, the voltage having the lowest value VL is applied, therefore, the current I6 having a value IL flows through the TR 6a and 6b. Also, in the case the memory cell is in a non-selection state, the control voltage Vc having a middle value VM is applied, and the current I6 having a value IM flows. As a result, in the write operation, write of a data signal can be executed easily, and on the other hand, in the read operation, it can be realized that the stored data signal is not broken down by charge of a pair of bit lines.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、一般にSRAM用メモリセル回路に関し、
特に、書込まれたデータを安定して保持できるSRAM
用メモリセル回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention generally relates to memory cell circuits for SRAM,
In particular, SRAM can stably hold written data.
The present invention relates to a memory cell circuit for use in a computer.

[従来の技術] 第6図は、従来のNMO3型メモ型上モリセル回路図で
ある。二のメモリセル回路は、基本的にはクロスカップ
ルされたインバータによるラッチ回路と、アクセスゲー
トとから構成されている。
[Prior Art] FIG. 6 is a circuit diagram of a conventional NMO3 type memory cell. The second memory cell circuit basically consists of a latch circuit using cross-coupled inverters and an access gate.

第6図を参照して、la、lbはビット線、2はワード
線、3a、3b、4aおよび4bはNMOSトランジス
タ、7は接地電位、8は電源電位、10a、10bは記
憶ノード、15a  15bは負荷素子である。第6図
において、NMOSトランジスタ4a、4bおよび負荷
素子15a、15bが2つのインバータを構成し、その
クロスカップルによってラッチ回路が構成される。
Referring to FIG. 6, la and lb are bit lines, 2 is a word line, 3a, 3b, 4a and 4b are NMOS transistors, 7 is a ground potential, 8 is a power supply potential, 10a and 10b are storage nodes, 15a 15b is a load element. In FIG. 6, NMOS transistors 4a, 4b and load elements 15a, 15b constitute two inverters, and their cross-coupling constitutes a latch circuit.

データが書込まれたとき、記憶ノード10aおよび10
bのうち、一方が高電位、他方が低電位となる。高電位
となった記憶ノードにゲートが接続されているトランジ
スタ4aまたは4bがオンするので、負荷素子を介して
電源電位より接地電位へ電流が流れる。負荷素子15a
、15bとして、第7A図に示すエンハンスメント型N
MOSトランジスタまたは第7B図に示すデプレション
型NMOSトランジスタが用いられるが、大容量のSR
AM用メモリセルとしては、第7C図に示す高抵抗が負
荷素子として使用される。高抵抗負荷型メモリセルは、
NMOSメモリセルの主流となっている。
When data is written, storage nodes 10a and 10
Among b, one has a high potential and the other has a low potential. Since the transistor 4a or 4b whose gate is connected to the high potential storage node is turned on, a current flows from the power supply potential to the ground potential via the load element. Load element 15a
, 15b, the enhancement type N shown in FIG. 7A.
A MOS transistor or a depletion type NMOS transistor shown in FIG. 7B is used, but a large capacity SR
In the AM memory cell, a high resistance shown in FIG. 7C is used as a load element. High resistance load type memory cells are
It has become the mainstream of NMOS memory cells.

高抵抗負荷型メモリセルは、LOGΩないし100GΩ
の高抵抗ポリシリコンを使用することにより、その抵抗
値かユMΩないしITΩとなる。
High resistance load type memory cells are LOGΩ to 100GΩ
By using high-resistance polysilicon, the resistance value will be from MΩ to ITΩ.

そのため、1つのメモリセル当たり10−′。ないし1
0−”Aの低いメモリセル電流を得ることができ、かつ
占有面積を減少させることができる。
Therefore, 10-' per memory cell. or 1
A low memory cell current of 0-''A can be obtained, and the occupied area can be reduced.

したがって、低消費電力化および高集積化に適している
といえる。
Therefore, it can be said that it is suitable for reducing power consumption and increasing integration.

第8図は、従来のCMO3型メモ型上モリセル回路図で
ある。第8図において、la、lbはビット線、2はワ
ード線、3a、3b、4a、4bはNMOSトランジス
タ、7は接地電位、8は電源電位、16a、  16b
はPMOSI−ランジスタである。第8図に示したcb
ios型メモリセメモリセル回路MOSトランジスタ1
6aおよび16bが負荷素子として使用されているので
、データの保持期間において電源から接地に向かって流
れる直流電流のバスか存在しない。わずかに、サブスレ
ッショルド電流などの非常に小さなリーク電流(≦10
−”A)Lか消費されない。したがって、このメモリセ
ル回路のスタンバイ電流は数nA程度となっている。
FIG. 8 is a circuit diagram of a conventional CMO3 type memory cell. In FIG. 8, la and lb are bit lines, 2 is a word line, 3a, 3b, 4a, 4b are NMOS transistors, 7 is a ground potential, 8 is a power supply potential, 16a, 16b
is a PMOSI-transistor. cb shown in Figure 8
ios type memory cell circuit MOS transistor 1
Since 6a and 16b are used as load elements, there is no direct current bus flowing from the power supply to ground during the data retention period. Very small leakage currents (≦10
-"A)L is not consumed. Therefore, the standby current of this memory cell circuit is about several nA.

一方、一般にゲートアレイ型集積回路では、メモリセル
の消費電流を低減するための高抵抗ポリシリコンなどの
ような特別な負荷回路か準飾されていない。したがって
、高抵抗負荷型の第6図に示したようなメモリセル回路
は使用されず、第8図に示したCMO5型メモ型上モリ
セル回路される。
On the other hand, gate array type integrated circuits are generally not equipped with special load circuits such as high-resistance polysilicon to reduce the current consumption of memory cells. Therefore, the high resistance load type memory cell circuit shown in FIG. 6 is not used, but the CMO5 type memory cell circuit shown in FIG. 8 is used.

[発明が解決しようとする課題] 従来のSRAM用メモリセル回路では、直前の読出しサ
イクルにおいてビット線対1a、lbに残されたデータ
信号により、同一のビット線対に接続されている他のメ
モリセルにそのデータ信号が誤って書込まれる場合か生
じる。すなわち、他のメモリセルにおけるアクセスゲー
ト用トランジスタがワード線の電位に応答してオンした
とき、ビット線対に残されたデータ信号が書込まれてし
まう。従来のメモリセル回路では、この問題を防止する
ため、第8図に示したラッチ回路を構成するトランジス
タ4a、4bの電流駆動能力よりも、アクセスゲートを
構成するトランジスタ3a  3bの電流駆動能力が小
さく設定されていた。しかしながら、トランジスタ3a
、3bの電流駆動能力をトランジスタ4a、4bのそれ
よりも小さく設定しすぎると、書込み動作か不可能とな
る。したがって、メモリセルにストアされたデータの安
定的な保持と、メモリセルへの書込み動作の容易性とを
両立させることが困難であった。
[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional SRAM memory cell circuit, the data signals left on the bit line pair 1a and lb in the immediately previous read cycle cause the data signals that remain on the bit line pair 1a and lb to cause other memories connected to the same bit line pair to This may occur if the data signal is erroneously written to the cell. That is, when the access gate transistor in another memory cell is turned on in response to the potential of the word line, the data signal remaining on the bit line pair is written. In conventional memory cell circuits, in order to prevent this problem, the current driving ability of the transistors 3a and 3b forming the access gate is smaller than the current driving ability of the transistors 4a and 4b forming the latch circuit shown in FIG. It was set. However, transistor 3a
, 3b is set too small than that of transistors 4a and 4b, a write operation becomes impossible. Therefore, it has been difficult to achieve both stable retention of data stored in memory cells and ease of writing operations to the memory cells.

この発明は、上記のような課題を解決するためこなされ
たもので、S RA M用メモリセル回路において、書
込まれたデータを安定に保持することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to stably hold written data in an SRAM memory cell circuit.

[課題を解決するための手段] この発明に係るSRAM用メモリセル回路は、アクセス
ゲート手段を介してビット線に接続されたラッチ回路を
含む。ラッチ回路は、互いにクロスカップルされた第1
および第2のインバータ手段を含む。第1のインバータ
手段は、第1および第2の電源電位の間に直列に接続さ
れた第1の負荷手段および第1のスイッチング手段を含
む。第2のインバータ手段は、第1および第2の電源電
位の間に直列に接続された第2の負荷手段および第2の
スイッチング手段を含む。このメモリセル回路は、さら
に、メモリセル回路の動作モードに応答して、第1およ
び第2の負荷手段のインピーダンスを制御するインピー
ダンス制御手段を含む。
[Means for Solving the Problems] An SRAM memory cell circuit according to the present invention includes a latch circuit connected to a bit line via an access gate means. The latch circuit includes first
and second inverter means. The first inverter means includes a first load means and a first switching means connected in series between the first and second power supply potentials. The second inverter means includes a second load means and a second switching means connected in series between the first and second power supply potentials. The memory cell circuit further includes impedance control means for controlling impedances of the first and second load means in response to an operating mode of the memory cell circuit.

[作用] この発明におけるSRAM用メモリセル回路では、イン
ピーダンス制御手段がメモリセル回路の動作モードに応
答して、第1および第2の負荷手段のインピーダンスを
制御する。したかって、所望の動作モードにおいてのみ
インピーダンスを所定の値に制御できるので、誤ってデ
ータが書込まれることが防がれる。
[Function] In the SRAM memory cell circuit according to the present invention, the impedance control means controls the impedance of the first and second load means in response to the operation mode of the memory cell circuit. Therefore, since the impedance can be controlled to a predetermined value only in a desired operating mode, erroneous data writing can be prevented.

[発明の実施例] 第1図は、この発明の一実施例を示すSRAM用メモリ
セル回路の回路図である。第1図を参照して、la、l
bはビット線、2はワード線、3a、3b、4aおよび
4bはNMOSトランジスタ、5a、5bはPMOSト
ランジスタ、6a。
[Embodiment of the Invention] FIG. 1 is a circuit diagram of an SRAM memory cell circuit showing an embodiment of the invention. With reference to Figure 1, la, l
b is a bit line, 2 is a word line, 3a, 3b, 4a and 4b are NMOS transistors, 5a and 5b are PMOS transistors, and 6a.

6bはnpnバイポーラトランジスタ、7は接地電位、
8は電源電位、9は制御端子、10a、10は記憶ノー
ドである。
6b is an npn bipolar transistor, 7 is a ground potential,
8 is a power supply potential, 9 is a control terminal, and 10a and 10 are storage nodes.

トランジスタ6aおよび4aは、電源電位8と接地電位
7との間に直列に接続される。同様に、トランジスタ6
bおよび4bも電源電位8と接地電位7との間に直列に
接続される。トランジスタ6aおよび4aによってイン
バータが構成され、トランジスタ6bおよび4bによっ
てインバータが構成される。これら2つのインバータは
クロスカップルされ、ラッチ回路が構成される。トラン
ジスタ6aは、ベースがトランジスタ5aを介して電源
電位8に接続される。トランジスタ6bも、ベースがト
ランジスタ5bを介して電源電位8に接続される。トラ
ンジスタ5aおよび5bのゲートは、インピーダンス制
御信号Scを受けるように制御端子9に接続される。
Transistors 6a and 4a are connected in series between power supply potential 8 and ground potential 7. Similarly, transistor 6
b and 4b are also connected in series between power supply potential 8 and ground potential 7. Transistors 6a and 4a constitute an inverter, and transistors 6b and 4b constitute an inverter. These two inverters are cross-coupled to form a latch circuit. The base of transistor 6a is connected to power supply potential 8 via transistor 5a. The base of transistor 6b is also connected to power supply potential 8 via transistor 5b. The gates of transistors 5a and 5b are connected to control terminal 9 to receive impedance control signal Sc.

第2図は、第1図に示したインピーダンス制御用トラン
ジスタ5aおよび5bの特性図である。
FIG. 2 is a characteristic diagram of impedance control transistors 5a and 5b shown in FIG. 1.

この図では、PMOSトランジスタ5aおよび5bのド
レインソース電圧Vdsを一定としたときの、ドレイン
ソース電a I d sのゲートソース電圧Vgs依存
性を示している。lVgsl<Vth(vthはしきい
電圧)の範囲では、トランジスタのIdsはlVgsl
の指数に比例して変化する。したかって、電圧Vgsの
微小な変化により電流1dsを大きく変化させることが
可能である。
This figure shows the dependence of the drain-source voltage a I d s on the gate-source voltage Vgs when the drain-source voltage Vds of the PMOS transistors 5a and 5b is constant. In the range lVgsl<Vth (vth is the threshold voltage), the Ids of the transistor is lVgsl
It changes in proportion to the index of Therefore, it is possible to greatly change the current 1ds with a small change in the voltage Vgs.

Vgs−OVのとき、値1Ids1は1pAないし10
0pAとなり、lVgsl=Vthのとき、l Ids
 lは数mAとなる。この電流を第1図に示したトラン
ジスタ6aおよび6bを用いて電流増幅すると、npn
バイポーラトランジスタ6aおよび6bの電流増幅率h
+−8を100と仮定すると、約100pAないし10
0mAの可変電流源か構成されることになる。
When Vgs-OV, the value 1Ids1 is 1pA to 10
When it becomes 0 pA and lVgsl=Vth, l Ids
l is several mA. When this current is amplified using transistors 6a and 6b shown in FIG.
Current amplification factor h of bipolar transistors 6a and 6b
Assuming +-8 is 100, approximately 100 pA to 10
A variable current source of 0 mA will be configured.

第3A図は、第1図に示した端子9に与えられる制御電
圧の電圧レベル図である。また、第3B図は、第1図に
示したバイポーラトランジスタ6aおよび6bに流れる
電ff116の電流レベル図である。メモリセルがアク
セス状態にある場合では、制御電圧Vcのレベルが書込
み動作において最も高い値V、となる。したがって、ト
ランジスタ6aおよび6bを介して最も高い値工8を有
する電流I6が流れる。メモリセルの読出し動作におい
て、最も低い値V、を有する制御電圧Vcか与えられる
ので、トランジスタ6aおよび6bを介して最も低い値
ILを有する電i16が流れる。さらには、メモリセル
が非選択状態にある場合では、中間の値V、を有する制
御電圧Vcが与えられ、中間の値1.を有する電流I6
が流れる。
FIG. 3A is a voltage level diagram of the control voltage applied to terminal 9 shown in FIG. 1. Further, FIG. 3B is a current level diagram of the current ff116 flowing through the bipolar transistors 6a and 6b shown in FIG. 1. When the memory cell is in the access state, the level of control voltage Vc becomes the highest value V in the write operation. Therefore, a current I6 with the highest value 8 flows through transistors 6a and 6b. In the read operation of the memory cell, since the control voltage Vc having the lowest value V is applied, a current i16 having the lowest value IL flows through transistors 6a and 6b. Furthermore, when the memory cell is in a non-selected state, a control voltage Vc having an intermediate value V is applied, and an intermediate value 1. A current I6 with
flows.

その結果、書込み動作においては、データ信号の書込み
を容易に行なうことができ、他方、読出し動作において
は、ストアされたデータ信号がビット線対の電荷により
破壊されないようにすることができる。また、非選択状
態では、ストアされたデータ信号が失われない範囲で電
流I6の値を低くすることができるのて(IM)、スタ
ンバイ状態における消費@流を減じることかできる。す
なわち、制御電圧VCをメモリセルの動作モードに応じ
て制御することにより、ラッチ回路を構成する2つのイ
ンバータの負荷素子のインピーダンスを制御することが
でき、その結果上記のような利点が得られることになる
As a result, in a write operation, a data signal can be written easily, while in a read operation, a stored data signal can be prevented from being destroyed by charges on the bit line pair. Further, in the non-selected state, the value of the current I6 can be lowered (IM) within a range where the stored data signal is not lost, so that the current consumption in the standby state can be reduced. That is, by controlling the control voltage VC according to the operation mode of the memory cell, it is possible to control the impedance of the load elements of the two inverters that constitute the latch circuit, and as a result, the above advantages can be obtained. become.

第1図に示した実施例では、PMOSトランジスタ5a
、5bとnpnトランジスタ6a、6bとによって負荷
回路が構成されたが、この発明はこの実施例に限らず、
たとえば第4図に示すような第1図とは相補な回路にも
適用することができる。
In the embodiment shown in FIG. 1, the PMOS transistor 5a
, 5b and the npn transistors 6a and 6b, the present invention is not limited to this embodiment.
For example, the present invention can also be applied to a circuit shown in FIG. 4 which is complementary to that shown in FIG.

第5図は、第1図または第4図に示したメモリセル回路
を適用することができるB1CMOSゲートアレイのブ
ロック図である。第5図を参照して、20は人出力バッ
ファ領域、21は内部ゲート領域、22はSRAM領域
、23は制御回路である。第1図または第4図に示した
メモリセル回路は、S RA M eA域22内に構成
することができる。制御回路23は、インピーダンス制
御用制御電圧Vcを発生し、SRAM領域22内のメモ
リセル回路に供給する。このように、この発明は、SR
AM領域を備えたB1C0M5ゲートアレイに適用可能
であることが指摘される。
FIG. 5 is a block diagram of a B1CMOS gate array to which the memory cell circuit shown in FIG. 1 or 4 can be applied. Referring to FIG. 5, 20 is a human output buffer area, 21 is an internal gate area, 22 is an SRAM area, and 23 is a control circuit. The memory cell circuit shown in FIG. 1 or 4 can be configured within the SRAM eA area 22. The control circuit 23 generates a control voltage Vc for impedance control and supplies it to the memory cell circuit in the SRAM area 22. In this way, the present invention
It is pointed out that it is applicable to B1C0M5 gate arrays with AM regions.

[発明の効果コ 以上のように、この発明によれば、メモリセル回路の動
作モードに応答して、ラッチ回路を構成する負荷手段の
インピーダンスを制御するインピーダンス制御手段を設
けたので、書込まれたデータを安定して保持することが
可能なSRAM用メモリセル回路が得られた。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the impedance control means for controlling the impedance of the load means constituting the latch circuit in response to the operation mode of the memory cell circuit is provided. An SRAM memory cell circuit capable of stably holding data was obtained.

【図面の簡単な説明】 第1図は、この発明の一実施例を示すSRAM用メモリ
セル回路の回路図である。第2図は第1図に示したイン
ピーダンス制御用トランジスタの特性図である。第3A
図は、第1図に示した端子9に与えられるインピーダン
ス制御電圧の電圧レベル図である。第3B図は、第1図
に示したバイポーラトランジスタに流れる電流の電流レ
ベル図である。第4図は、この発明の別の実施例を示す
メモリセル回路の回路図である。第5図は、第1図また
は第4図に示したメモリセル回路を適用することのでき
るB1C0M5ゲートアレイのブロック図である。第6
図は、従来のNMO3型メモ型上モリセル回路図である
。第7A図、第7B図および第7C図は、第6図に示し
た負荷素子として使用され得る素子の回路図である。第
8図は、従来のCMO5型メモ型上モリセル回路図であ
る。 図において、5a、5bはPMOSトランジスタ、6a
6bはnpnバイポーラトランジスタ、9は制御端子、
Vcはインピーダンス制御電圧である。 も1図 Vc 50.5b :  PMOS )ランプスタ乳2図 vth [V] l Vgs 1 Vc’ to、I lb  、’  PMOS トラ、シ又り1
2a  12b ’。 PMOS l−ランジス7 13a、13b : NMO5)ランジスり14a 、
14b pnp八″へボ−ラトクシシスタ BiCMO8ケ゛ トアレ1 どU 17A図 ち7B図 る7C図 る8区
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a circuit diagram of an SRAM memory cell circuit showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a characteristic diagram of the impedance control transistor shown in FIG. 1. 3rd A
The figure is a voltage level diagram of the impedance control voltage applied to the terminal 9 shown in FIG. 1. FIG. 3B is a current level diagram of the current flowing through the bipolar transistor shown in FIG. 1. FIG. 4 is a circuit diagram of a memory cell circuit showing another embodiment of the invention. FIG. 5 is a block diagram of a B1C0M5 gate array to which the memory cell circuit shown in FIG. 1 or 4 can be applied. 6th
The figure is a circuit diagram of a conventional NMO3 type memory cell. 7A, 7B, and 7C are circuit diagrams of elements that can be used as the load elements shown in FIG. 6. FIG. 8 is a circuit diagram of a conventional CMO5 type memory cell. In the figure, 5a and 5b are PMOS transistors, 6a
6b is an npn bipolar transistor, 9 is a control terminal,
Vc is an impedance control voltage. 1 figure Vc 50.5b: PMOS) lamp star milk 2 figure vth [V] l Vgs 1 Vc' to, I lb,' PMOS tiger, Shimari 1
2a 12b'. PMOS l-runges 7 13a, 13b: NMO5) runges 14a,
14b pnp 8'' to Borat Oxysister BiCMO8 Kate Are 1 Do U 17A figure 7B figure 7C figure 8 section

Claims (1)

【特許請求の範囲】  アクセスゲート手段を介してビット線に接続されたラ
ッチ回路を有するSRAM用メモリセル回路であって、 前記ラッチ回路は、 第1および第2の電源電位の間に直列に接続された第1
の負荷手段および第1のスイッチング手段を含む第1の
インバータ手段と、 第1および第2の電源電位の間に直列に接続された第2
の負荷手段および第2のスイッチング手段を含む第2の
インバータ手段とを含み、前記第1および第2のインバ
ータ手段は、クロスカップルされており、 前記第1および第2のインバータ手段の入力ノードは、
前記アクセスゲート手段を介してビット線に接続されて
おり、 前記メモリセル回路は、さらに、前記メモリセル回路の
動作モードに応答して、前記第1および第2の負荷手段
のインピーダンスを制御するインピーダンス制御手段を
含む、SRAM用メモリセル回路。
[Claims] An SRAM memory cell circuit having a latch circuit connected to a bit line via an access gate means, the latch circuit being connected in series between first and second power supply potentials. The first
a first inverter means including a load means and a first switching means; a second inverter connected in series between the first and second power supply potentials;
and a second inverter means including a load means and a second switching means, the first and second inverter means being cross-coupled, and the input nodes of the first and second inverter means being ,
The memory cell circuit is connected to a bit line via the access gate means, and the memory cell circuit further includes an impedance that controls the impedance of the first and second load means in response to an operating mode of the memory cell circuit. A memory cell circuit for SRAM including a control means.
JP2226333A 1990-08-27 1990-08-27 SRAM memory cell circuit Expired - Fee Related JP2557279B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2226333A JP2557279B2 (en) 1990-08-27 1990-08-27 SRAM memory cell circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2226333A JP2557279B2 (en) 1990-08-27 1990-08-27 SRAM memory cell circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04106789A true JPH04106789A (en) 1992-04-08
JP2557279B2 JP2557279B2 (en) 1996-11-27

Family

ID=16843524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2226333A Expired - Fee Related JP2557279B2 (en) 1990-08-27 1990-08-27 SRAM memory cell circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2557279B2 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5589984A (en) * 1978-12-28 1980-07-08 Fujitsu Ltd Static memory cell

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5589984A (en) * 1978-12-28 1980-07-08 Fujitsu Ltd Static memory cell

Also Published As

Publication number Publication date
JP2557279B2 (en) 1996-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3609868B2 (en) Static semiconductor memory device
US5040146A (en) Static memory cell
US4310900A (en) Memory device with different read and write power levels
US4760561A (en) MOS static type RAM having a variable load
KR940008142B1 (en) Integrated circuit dynamic memory
US5020029A (en) Static semiconductor memory device with predetermined threshold voltages
KR910003389B1 (en) Semiconductor memory device
JP2003051184A (en) Memory device
KR0146075B1 (en) Semiconductor memory cell
US5570312A (en) SRAM cell using word line controlled pull-up NMOS transistors
US10395700B1 (en) Integrated level translator
JPS5855597B2 (en) bistable semiconductor memory cell
JPH04113587A (en) Semiconductor memory
JPH08129891A (en) Memory cell circuit
US6316812B1 (en) Static semiconductor memory device with expanded operating voltage range
JPS61284896A (en) Non-volatile programmable static memory cell
US4879684A (en) Write-read circuit
JPH04106789A (en) Memory cell circuit for sram
US6552943B1 (en) Sense amplifier for dynamic random access memory (“DRAM”) devices having enhanced read and write speed
JPS6299976A (en) Semiconductor memory device
JPS6235191B2 (en)
JPH09320276A (en) Sense amplifier circuit
KR100386620B1 (en) Circuit for Controlling Power Voltage of Static Random Access Memory
KR0177779B1 (en) Semiconductor memory device with current sensing circuit
JPS62200595A (en) Memory device

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees