JPH04111490A - Direct drawer - Google Patents

Direct drawer

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JPH04111490A
JPH04111490A JP22821990A JP22821990A JPH04111490A JP H04111490 A JPH04111490 A JP H04111490A JP 22821990 A JP22821990 A JP 22821990A JP 22821990 A JP22821990 A JP 22821990A JP H04111490 A JPH04111490 A JP H04111490A
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Katsuhiko Taguchi
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Abstract

PURPOSE:To see that the drawn pattern does not jut out of the visible outline and shorten the drawing time by putting it in such constitution that the inside of the closed loop outline of the pattern to be drawn is recognized, that the pattern is drawn along the drawing line being offset by a specified amount to the inside of the outline, and that the drawing line jutting out of outline is not drawn. CONSTITUTION:The inside of the outline of a closed loop is recognized by seeking the point being the smallest among the x and y coordinate points of each node of the pattern to be drawn and deciding the treatment direction, and the data being always offset inward by a specified amount are made, and the specified drawing is performed along it. The user can designate the quantity of this offset to reduce it freely, so there is no necessity to change or make up anew the designed pattern itself. Moreover, it follows that it is not turned back but that a long line is drawn, and the drawing time is reduced by reducing the on/off of pneumatic pressure. Furthermore, the offset data and the original data are compared with each other, and if there is one wherein the advance direction of the line is inverted, the line of the original data equivalent to this is deleted.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、直接描画装置、特にノズルに対して所定速度
で相対的に移動するテーブル上に配置された回路基板に
ノズルからペーストを吐出させ、回路基板上にパターン
を描画する直接描画装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is directed to a direct writing device, in particular, to a direct writing device, in particular, a method for discharging paste from a nozzle onto a circuit board placed on a table that moves at a predetermined speed relative to the nozzle. , relates to a direct writing device that draws a pattern on a circuit board.

[従来の技術] 従来、このような直接描画装置を用いて1例えば第1O
図に図示されたようなハイブリッドICのパターン45
を描く場合には、第11図に図示されたように、半田付
けする部分や部品搭載部分、抵抗パターンが後で描画さ
れるパッド部分等のように閉ループ状に形成されたボッ
クス状部分46と、これらのボックスを結ぶライン47
から構成される場合が多い。
[Prior Art] Conventionally, such a direct writing device is used to write a
Hybrid IC pattern 45 as illustrated in the figure
When drawing, as shown in FIG. 11, a box-shaped part 46 formed in a closed loop, such as a soldering part, a component mounting part, a pad part on which a resistor pattern will be drawn later, etc. , the line 47 connecting these boxes
It is often composed of.

このようなパターン46,47を直接描画装置で描画す
る場合に、ライン状の部分47とボックス状の部分46
は異なる方法で描画される。即ちライン状の部分47は
、ユーザが1描画ラインの線幅と必要なライン幅を入力
することで描画装置に組み込まれたソフトウェアにより
、そのラインに沿って複数回往復することによりライン
状のパターンが形成される。この往復時は、徐々にユー
ザの要求する線幅に近づくように入力データに対し左右
に一定値づつオフセットされてい(。このオフセット量
は描画装置のソフトウェアにより自動計算でまたはユー
ザが手動により設定する。
When drawing such patterns 46 and 47 with a direct drawing device, the line-shaped portion 47 and the box-shaped portion 46
are drawn in different ways. In other words, the line-shaped portion 47 is created by the user inputting the line width of one drawing line and the required line width, and by reciprocating along the line multiple times using the software built into the drawing device. is formed. During this round trip, the input data is offset by a fixed value on the left and right to gradually approach the line width requested by the user (this offset amount can be automatically calculated by the software of the drawing device or manually set by the user). .

一方ボックス状の部分46は、異なる方法が用いられ、
これらが第12図と第13図に図示されている。通常、
描画すべきパターンのデータは、そのパターンの輪郭の
各節点の座標群として外部コントローラより通信で送ら
れてくる。
On the other hand, a different method is used for the box-shaped portion 46,
These are illustrated in FIGS. 12 and 13. usually,
The data of the pattern to be drawn is sent via communication from the external controller as a group of coordinates of each node of the outline of the pattern.

例えば形成すべきパターンを第12図(A)に図示した
ような矩形状のパターン50とすると、描画装置は、第
12図(B)に図示したようにパターン50の節点50
a〜50dを結ぶようにパターン50の外形線に沿って
周囲を描画し、ペーストを塗布してライン51を描画す
る。続いてその内側52を、第12図(C)に図示した
ようにユーザにより指定された方向とピッチで順次塗り
つぶしくハツチングし)、矩形状のパターン50を形成
する。この内側52をノズル53よりペースト54を吐
出し塗りつぶす状態が第13図に図示されている。
For example, if the pattern to be formed is a rectangular pattern 50 as shown in FIG.
The periphery is drawn along the outline of the pattern 50 so as to connect the lines a to 50d, and a line 51 is drawn by applying paste. Then, as shown in FIG. 12(C), the inner side 52 is sequentially filled with hatching in the direction and pitch designated by the user to form a rectangular pattern 50. FIG. 13 shows a state in which the inside 52 is filled by discharging the paste 54 from the nozzle 53.

[発明が解決しようとする課題] 通常描画ライン51は、その線幅りが100〜150u
mぐらいあるので、外形ライン50に沿って描画すると
、描画ライン51の一番外側51aは、外形ライン50
より線幅の約1/2である50〜75μmぐらいはみ出
し、隣接するラインとショートしてしまう恐れがある。
[Problems to be Solved by the Invention] The normal drawing line 51 has a line width of 100 to 150 u.
m, so when drawing along the outline line 50, the outermost part 51a of the drawing line 51 is the outline line 50.
There is a risk that the line will protrude by about 50 to 75 μm, which is about 1/2 of the line width, resulting in a short circuit with an adjacent line.

これを防止するために送信される描画データを縮小する
と、操作が複雑となり、時□間が必要となるとともに、
描画データの管理が煩雑になるという問題がある。
If the drawing data to be sent is reduced in order to prevent this, the operation becomes complicated and time consuming.
There is a problem that the management of drawing data becomes complicated.

また描画すべきパターンが、第14図に図示されたよう
な複雑なパターン55になると、55aの部分では多数
のラインを折り返して引く必要があり、折り返すごとに
ノズル53から吐出されるペースト54の量を制御しな
ければならない、したがって、その制御並びにノズルか
らペーストを吐出させる空気圧のオンオフの時間が必要
となるために、描画時間がかかるとともに、良好なパタ
ーンを描くことができないという問題がある。
Furthermore, if the pattern to be drawn becomes a complicated pattern 55 as shown in FIG. The amount of paste must be controlled, and therefore, the control and the time required to turn on and off the air pressure for discharging the paste from the nozzle are required, resulting in the problem that drawing time is required and it is not possible to draw a good pattern.

したがって、本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたもので隣接するパターンとの接触がなく、
また描画時間を短縮でき、良好な描画パターンを描くこ
とが可能な直接描画装置を提供することを課題とする。
Therefore, the present invention was made to solve such problems, and there is no contact with adjacent patterns.
Another object of the present invention is to provide a direct drawing device that can shorten drawing time and draw good drawing patterns.

[課題を解決するための手段1 本発明においては上述した課題を解決するために、ノズ
ルに対して所定速度で相対的に移動するテーブル上に配
置された回路基板にノズルからペーストを吐出させ、回
路基板上にパターンを描画する直接描画装置において、
描画すべきパターンの閉ループ輪郭線の内側を識別する
手段と、前記輪郭線の内側に所定量オフセットした描画
ラインを演算する手段と、前記輪郭線の内側にオフセッ
トさせた描画ラインを演算する際、閉パターン輪郭線の
外側にはみ出す描画ラインを検出する手段とを設け、前
記検出手段が検出した描画ラインの描画を禁止した上で
前記描画ラインに沿ってパターンを描画する構成を採用
しているので、描画すべきパターンの閉ループ輪郭線の
内側を識別し、輪郭線の内側に所定量オフセットした描
画ラインに沿ってパターンを描画する構成を採用した。
[Means for Solving the Problems 1] In the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, paste is discharged from a nozzle onto a circuit board placed on a table that moves at a predetermined speed relative to the nozzle, In direct writing equipment that draws patterns on circuit boards,
means for identifying the inside of a closed loop contour of a pattern to be drawn; means for calculating a drawing line offset by a predetermined amount inside the contour; and calculating the drawing line offset inside the contour; means for detecting a drawing line that protrudes outside the closed pattern contour, and the pattern is drawn along the drawing line after prohibiting drawing of the drawing line detected by the detection means. , a configuration is adopted in which the inside of the closed loop outline of the pattern to be drawn is identified, and the pattern is drawn along a drawing line that is offset by a predetermined amount inside the outline.

[作 用] このような構成では、描画すべきパターンの輪郭線をそ
の中心線としてパターンを描画するのではな(、輪郭線
の内側に所定量オフセットして、パターンを描画する。
[Function] In such a configuration, the pattern is not drawn using the outline of the pattern to be drawn as its center line (the pattern is drawn offset by a predetermined amount inside the outline).

しかも、閉パターン輪郭線の外側にはみ出す描画ライン
の描画を行なわないようにしているので、たとえば、閉
パターンの輪郭線中にオフセット量より小さい微少パタ
ーンがある場合でも、これに応じて生じる異常なパター
ン部分を削除でき高品位の直接描画が可能となる。
Moreover, since drawing lines that protrude outside the closed pattern contour are not drawn, for example, even if there is a minute pattern smaller than the offset amount in the closed pattern contour, abnormalities that occur in response to this will not occur. The pattern part can be deleted, allowing high-quality direct drawing.

[実施例] 以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細を説明
する。
[Example] The details of the present invention will be described below based on the example shown in the drawings.

第1図には、本発明方法に係わる直接描画装置が、また
第2図には第1図の装置の制御系の構造が図示されてい
る。
FIG. 1 shows a direct writing apparatus according to the method of the present invention, and FIG. 2 shows the structure of the control system of the apparatus shown in FIG.

第1図において、符号lはセラミックなどから成る回路
基板で、XおよびY方向に移動されるXY子テーブル上
の所定位置に位置決めされる。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a circuit board made of ceramic or the like, which is positioned at a predetermined position on an XY child table that is moved in the X and Y directions.

この基板lに対して導体および絶縁体を形成するペース
ト3aを吐出するインクペン4のノズル3はXY子テー
ブルに対して垂直に配置され、XY平面に垂直なZ軸方
向にモータ5を介して移動される。
A nozzle 3 of an ink pen 4 that discharges a paste 3a forming a conductor and an insulator onto the substrate l is arranged perpendicularly to the XY child table and is moved via a motor 5 in the Z-axis direction perpendicular to the XY plane. be done.

ノズル3からのペースト3aの吐出および吐出停止、X
Y子テーブルのXY平面における移動をあらかじめ決定
されたプログラムに応じて数値制御することによって、
回路基板1上に各種の回路膜を形成することができる。
Discharge and stop of discharge of paste 3a from nozzle 3, X
By numerically controlling the movement of the Y child table in the XY plane according to a predetermined program,
Various circuit films can be formed on the circuit board 1.

その際、回路基板lの凹凸は光学距離センサに対応する
高さセンサ6によって検出され、ノズル3の高さはZ軸
方向に沿ってモータ5を介して自動的に制御される。
At this time, the unevenness of the circuit board 1 is detected by a height sensor 6 corresponding to an optical distance sensor, and the height of the nozzle 3 is automatically controlled via a motor 5 along the Z-axis direction.

第2図は、この直接描画装置の制御部を含む構成を示す
ブロック図であり、20はCPU、ROM、RAM等か
らなるマイクロコンピュータであり、入出力装置21を
介してCADシステム30から後述するような描画パタ
ーンを含む描画データを入力して必要なデータをメモリ
22に一時格納し、また予めメモリ22に格納されてい
るプログラムや各種データも使用して、この直接描画装
置の各部を統括制御することによって、XY子テーブル
上に位置決め載置されたセラミック等からなる基板1上
に厚膜回路を形成する。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration including a control unit of this direct drawing device, and 20 is a microcomputer consisting of a CPU, ROM, RAM, etc., and is connected to a CAD system 30 via an input/output device 21, which will be described later. It inputs drawing data including drawing patterns such as the above, temporarily stores the necessary data in the memory 22, and also uses programs and various data stored in the memory 22 in advance to centrally control each part of this direct drawing device. By doing so, a thick film circuit is formed on the substrate 1 made of ceramic or the like and positioned and mounted on the XY child table.

すなわち、このマイコン20はモータコントローラ23
に描画データに応じたXYテーブル制御信号を出力して
、このモータコントローラ23によってモータ24(実
際にはX方向駆動用とY方向駆動用2個のモータがある
)を駆動制御させ、シリンダに保持されたノズル3に対
して。
That is, this microcomputer 20 is a motor controller 23
An XY table control signal corresponding to the drawing data is output to the motor controller 23 to drive and control the motor 24 (actually there are two motors, one for driving in the X direction and the other for driving in the Y direction), and the motor is held in the cylinder. for nozzle 3.

基板1が所要の軌跡を描いて相対移動するように、XY
子テーブルを移動させる。
XY so that the board 1 moves relatively while drawing the required trajectory.
Move the child table.

また、描画を開始する前に、高さセンサ6によって基板
1の描画面全体の高さ変動を測定して、その測定結果を
座標値と対応させてメモリ22に記憶させる。
Furthermore, before starting drawing, the height sensor 6 measures the height variation of the entire drawing surface of the substrate 1, and the measurement results are stored in the memory 22 in correspondence with coordinate values.

描画時には、そのデータを読み出してモータコントロー
ラ25にノズル位置制御信号を出力し、そのモータコン
トローラ25にモータ5を駆動制御させて、セラミック
基板lの描画面の高さ変動を補正するようにノズル3を
上下動させ、それによってノズル3とセラミック基板1
の描画面との間隔を常に適正に保つようにする。
During drawing, the data is read out and a nozzle position control signal is output to the motor controller 25, which causes the motor controller 25 to drive and control the motor 5, so that the nozzle 3 vertically move the nozzle 3 and the ceramic substrate 1.
Always maintain an appropriate distance between the drawing surface and the drawing surface.

さらに、マイクロコンピュータ20は設定された空気圧
に応じた信号な電空変換器26に出力して空気源27か
らの高圧の空気圧を設定圧力に変換し、電磁弁28を開
くように制御してその空気圧をインクペンに供給し、ノ
ズル3からインクベン4内のペーストを所定流量で吐出
させて、設定された基本線幅で厚膜回路を描画させる。
Furthermore, the microcomputer 20 outputs a signal corresponding to the set air pressure to the electro-pneumatic converter 26 to convert the high air pressure from the air source 27 into the set pressure, and controls the solenoid valve 28 to open. Air pressure is supplied to the ink pen, the paste in the ink pen 4 is discharged from the nozzle 3 at a predetermined flow rate, and a thick film circuit is drawn with a set basic line width.

CADシステム30は、パーソナルコンピュータを使用
して、デジタイザ40によってデジタイズした回路パタ
ーンの輪郭線(一般に外形線)のデータを入力して描画
データを作成するシステムであり、この実施例では主と
してこのCADシステムによって描画データを作成処理
するようにしている。
The CAD system 30 is a system that uses a personal computer to create drawing data by inputting data of the outline (generally an outline) of a circuit pattern digitized by a digitizer 40, and in this embodiment, this CAD system is mainly used. The drawing data is created and processed by

次にこのように構成された装置の動作を、第3図に図示
されたフローチャートにしたがって説明する。
Next, the operation of the apparatus configured as described above will be explained according to the flowchart shown in FIG.

描画装置によって描画すべきパターンが、第4図に図示
されたようなパターン60である場合について説明する
。このパターン60は、複数の節点PL−P9を有し、
その各節点のX座標。
A case where the pattern to be drawn by the drawing device is a pattern 60 as shown in FIG. 4 will be described. This pattern 60 has a plurality of nodes PL-P9,
The X coordinate of each node.

X座標が1つのパターンデータとして連続してメモリ2
2に格納されている。この格納状態が第5図にテーブル
の形で図示されている。
The X coordinate is stored continuously in memory 2 as one pattern data.
It is stored in 2. This storage state is illustrated in the form of a table in FIG.

まず第3図のステップSlにおいて、描画すべき一連の
閉ループの描画データのうち最もX座標の小さい点、即
ち最左点を求める。第4図のパターン60ではP2.P
3、P7、P8の各点がこれに該当する。ステップS2
において最左点データが複数あると判断された場合に、
ステップS3において、複数点のうちy座標の最も小さ
い点を出発点とし、また最左点データが一つである場合
には、ステップS4に移ってステップS1で求めた点を
出発点とする。
First, in step Sl in FIG. 3, the point with the smallest X coordinate, ie, the leftmost point, is found among a series of closed-loop drawing data to be drawn. In pattern 60 of FIG. 4, P2. P
This applies to points 3, P7, and P8. Step S2
If it is determined that there are multiple leftmost point data in
In step S3, the point with the smallest y coordinate among the plurality of points is set as the starting point, and if there is only one leftmost point data, the process moves to step S4 and the point obtained in step S1 is set as the starting point.

このように出発点が定まった場合には、ステップS5に
おいて出発点の前後のデータのy座標の大小を比較し、
データ処理をメモリに格納されたデータ格納類に行なう
か、あるいは逆順に行なうかを決定する。即ち第6図に
図示したように、Pnを出発点とし、Pn+lのy座標
がP n−1のy座標より大きい場合(即ち第6図(A
))データの処理をP n、 Pn+1 、 Pn+2
、−P m、PL 、P2 、Pn−1と行ない(Pm
は最終データ)、一方第6図(B)のように逆の場合に
はデータ処理なPn 、 Pn−1、Pn−2、=−P
2、Pi、Pg、−・P n+1と処理していく。
When the starting point is determined in this way, in step S5, the magnitude of the y coordinate of the data before and after the starting point is compared,
Determines whether data processing is performed on data stores stored in memory or in reverse order. That is, as shown in FIG. 6, when Pn is the starting point and the y-coordinate of Pn+l is larger than the y-coordinate of Pn-1 (that is, when Pn is the starting point,
)) Data processing P n, Pn+1, Pn+2
, -P m, PL, P2, Pn-1 (Pm
is the final data), while in the opposite case as shown in FIG. 6(B), data processing Pn, Pn-1, Pn-2, = -P
2, Pi, Pg, -.P n+1.

このように、x、y座標点のうち最も小さい点を求め、
処理方向を決めることは、閉ループの外形線の内側を認
識していることになる。
In this way, find the smallest point among the x and y coordinate points,
Determining the processing direction means recognizing the inside of the closed loop outline.

次に、現状の処理点と次の処理点(第7図において現状
点がPi、次の点がPj+1.以下この図にもとづいて
説明する。)で結ばれる線分と平行で、描画線幅の半分
幅処理の進行方向右側にオフセットした直線Llの方程
式を計算する(ステップS6)。同様に、P i+1点
とpi+z九で結ばれる線分と平行で、描画線幅の半分
幅処理の進行方向右側にオフセットした直線史2の方程
式を計算する(ステップS7)。
Next, parallel to the line segment connecting the current processing point and the next processing point (in Fig. 7, the current point is Pi and the next point is Pj+1. The following explanation will be based on this figure), and the drawing line width is The equation of the straight line Ll offset to the right in the direction of progress of the half-width processing is calculated (step S6). Similarly, an equation for straight line history 2 that is parallel to the line segment connecting point P i+1 and point P i +z9 and offset to the right in the direction of progress of the half-width drawing line width process is calculated (step S7).

次に直線LlとL2の交点を求めメモリに格納しくステ
ップS8)、処理をひとつ進める(ステップS9)  
処理が一巡したら(ステップ5IO)、内側にオフセッ
トしたデータをもとにその線に沿って外周を描画しくス
テップ5l1)、その内側を所定方向所定ピッチで描画
し塗りつぶしていく(ステップ5L2)。
Next, find the intersection of straight lines Ll and L2 and store it in memory (step S8), and proceed with the process by one step (step S9).
Once the process has completed one cycle (step 5IO), the outer periphery is drawn along the line based on the data offset inward (step 5l1), and the inside is drawn and filled in at a predetermined pitch in a predetermined direction (step 5L2).

このように、ある特定点の決定とデータ処理方向を決定
することで、閉ループパターンの内側を認識し、第8図
に示すように、パターンの形状によらず、常に内側へ一
定値オフセットしたデータを作成し、それに沿って所定
の描画を行なうことができる。したがって、このオフセ
ット量をユーザが指定することにより、本装置本体で自
由に縮小することができ、設計したパターン自体を変更
または新たに作成する必要がなくなるため、時間短縮、
及びデータ処理のわずられしさから解放されることにな
る。
In this way, by determining a certain specific point and the data processing direction, the inside of the closed loop pattern can be recognized, and as shown in Figure 8, the data is always offset inward by a constant value, regardless of the shape of the pattern. can be created and a predetermined drawing can be performed along it. Therefore, by specifying this offset amount by the user, the device can freely reduce the size, and there is no need to change or create a new pattern itself, which saves time.
and the hassle of data processing.

更に、オフセット量を描画線幅の半分幅だけでなく、任
意に設定することで、パターンを縮小したり拡大したり
することが可能となる。
Furthermore, by setting the offset amount not only to half the drawing line width but also to an arbitrary value, it is possible to reduce or enlarge the pattern.

また、第14図に示すようなパターンを従来方式で描画
すると、前述したように55aの部分で短い線の集合と
なり、描画ラインの初めと終りでは、空気圧のオン、オ
フの時間遅れがあり、それをXYテーブル駆動と同期さ
せているため、描画時間が長(なるという欠点がある。
Furthermore, when a pattern like the one shown in FIG. 14 is drawn using the conventional method, as mentioned above, the part 55a becomes a collection of short lines, and there is a time delay between the on and off of the air pressure at the beginning and end of the drawing line. Since this is synchronized with the XY table drive, there is a drawback that the drawing time is long.

これに対して、本実施例では、従来のように折り返すの
ではなく、第9図に図示したように、上述した方法で順
次オフセットしたデータを求め、パターンの輪郭線より
内側に向い一定間隔づつパターンを縮小描画させ、回路
パターンを形成するようにすると、長い線を描画するこ
とになり、空気圧のオン、オフを減らすことができ、描
画時間を顕著に減少させることが可能になる。
In contrast, in this embodiment, instead of folding back as in the conventional method, the data is sequentially offset using the method described above, as shown in FIG. When a circuit pattern is formed by drawing a reduced pattern, a long line is drawn, which reduces the number of times air pressure is turned on and off, and the drawing time can be significantly reduced.

以下では、描画パターンをオフセットさせる場合に生じ
る問題につき考察する。
In the following, problems that arise when offsetting a drawing pattern will be considered.

ここで、第15図に実線で示す描画パターンを、オフセ
ット量αだけオフセットさせた描画パターンを形成する
ことを考える。第15図の場合には、実線の元パターン
中にオフセットfftaに対して、長さの短い線分(L
i+i)が存在している。
Here, consider forming a drawing pattern in which the drawing pattern shown by the solid line in FIG. 15 is offset by an offset amount α. In the case of FIG. 15, a short line segment (L
i+i) exists.

このように、長さの短い線分(Li+1)が存在すると
、オフセット後の結果は、短い線分の部分が閉ループよ
り飛び出してしまい、このまま描画を行なうと、ライン
L i+1の部分がはみだし、予期した結果を得られな
い。
In this way, if there is a short line segment (Li+1), the result after the offset is that the short line segment will protrude from the closed loop, and if you continue drawing in this way, the line Li+1 will protrude, resulting in an unexpected result. I can't get the desired results.

この部分の状態を第16図に拡大して示す。第16図に
矢印状に示される方向をラインの描画方向とし、前述の
オフセット演算により得られるライン(L i+1の描
画方向は、オフセットする前のうインL i+1の進行
方向に対して逆転していることがわかる。
The state of this part is shown enlarged in FIG. The direction shown by the arrow in FIG. 16 is the drawing direction of the line, and the drawing direction of the line (L i+1) obtained by the above-mentioned offset calculation is reversed with respect to the advancing direction of the line L i+1 before offset. I know that there is.

このように、オフセット後の異常ラインは、オフセット
により得られる描画方向により検出できることがわかる
。ところがパターンによっては、描画方向のみでは単純
に判断できない場合がある。
In this way, it can be seen that the abnormal line after the offset can be detected based on the drawing direction obtained by the offset. However, depending on the pattern, it may not be possible to determine simply based on the drawing direction alone.

例えば、第17図左側に示すようなラインLi〜L i
+5からなるパターンがあり、L il1%Li+2、
Li+3.およびL i+4のラインデータの長さがオ
フセット量αより小さい場合には、オフセット演算後、
第17図右側に示すように、オフセット後のラインしi
+1 、 Li+2 、 、Li+3 、および、lL
i+4はいずれも異常ラインとなる。ここで元データL
i=Li+5のデータと進行方向の逆転があるかどうか
を調べると、Li+2とL i+3のラインは元データ
と進行方向が逆転しているが、Li+lとL i+4に
ついては元データと進行方向が同一である。
For example, the lines Li to Li as shown on the left side of FIG.
There is a pattern consisting of +5, Li il1%Li+2,
Li+3. If the length of the line data of Li+4 is smaller than the offset amount α, after the offset calculation,
As shown on the right side of Figure 17, the line after offset is
+1 , Li+2 , , Li+3 , and lL
All i+4 become abnormal lines. Here, the original data L
When examining whether there is a reversal of the direction of travel with the data for i = Li + 5, we find that the lines of Li + 2 and Li + 3 have the opposite directions of travel compared to the original data, but the directions of travel of Li + l and Li + 4 are the same as the original data. It is.

つまり、L i+1とLi+4については、異常データ
(閉ループより飛び出すライン)でありながら、その進
行方向からは異常を認めることができない。
In other words, although Li+1 and Li+4 are abnormal data (lines that jump out of the closed loop), no abnormality can be recognized from the direction of movement.

そこで、第3図の制御とともに第20図のフローチャー
トに示す制御をマイクロコンピュータ20により行なう
ことによりデータ補正を行なう。
Therefore, the microcomputer 20 performs the control shown in the flowchart of FIG. 20 in addition to the control shown in FIG. 3 to correct the data.

まず、第20図のステップS21では、第3図の手順を
実行し、内側オフセットデータを作成する。
First, in step S21 of FIG. 20, the procedure of FIG. 3 is executed to create inner offset data.

次に、ステップS22において、オフセットしたデータ
と、元データを比較し、ラインの進行方向が逆転してい
るものがないかどうかを調べる。
Next, in step S22, the offset data is compared with the original data to check whether there is any line in which the traveling direction is reversed.

第17図の例では、Li+2 、 Li+3のラインが
逆転ラインであるが、このような逆転ラインがステップ
323で検出されると、ステップS24において逆転し
たラインに相当する元データのライン(第17図の場合
にはLi+2 、 Li+3 )を削除する。これは、
具体的には、第18図の左側に示すように、検出された
データに隣接するラインを延長し、交点を求めることに
より行なう。
In the example of FIG. 17, the lines Li+2 and Li+3 are reverse lines, but when such reverse lines are detected in step 323, the lines of the original data corresponding to the reversed lines (FIG. 17) are detected in step S24. In this case, delete Li+2, Li+3). this is,
Specifically, as shown on the left side of FIG. 18, this is done by extending the line adjacent to the detected data and finding the intersection.

次にステップS21に戻り、もう−度第3図のフローチ
ャートによる手順で、補正した元データをオフセットし
直す。
Next, the process returns to step S21, and the corrected original data is again offset according to the flowchart shown in FIG.

このようにして、第18図に右側に示すような補正結果
が得られるが、ステップ323、S4を繰り返すことに
よりさらに補正を続ける。
In this way, a correction result as shown on the right side of FIG. 18 is obtained, and further correction is continued by repeating steps 323 and S4.

すなわち、第18図から明らかなように、第17図では
逆転していなかったLi+1 、 Li+4の2ライン
が逆転するので、異常データであることを検出できる。
That is, as is clear from FIG. 18, the two lines Li+1 and Li+4, which were not reversed in FIG. 17, are reversed, so that abnormal data can be detected.

そこで、ステップS3、S24を繰り返し、元データL
i+l 、 Li+4を削除し、元データをオフセット
し直す。
Therefore, steps S3 and S24 are repeated and the original data L
Delete i+l and Li+4 and offset the original data again.

このようにして、ステップS25において、第19図の
ように異常かつ不要のラインを全て削除した描画データ
を得られる。すなわち、パターンの輪郭線中にオフセッ
ト量より小さい微少パターンがある場合でも、これに応
じて生じる異常なパターン部分を削除でき、良好な描画
パターンを形成し、これに基づきより高品位な直接描画
が可能となる。
In this way, in step S25, drawing data in which all abnormal and unnecessary lines are deleted as shown in FIG. 19 can be obtained. In other words, even if there is a minute pattern smaller than the offset amount in the outline of the pattern, the abnormal pattern part that occurs accordingly can be deleted, a good drawing pattern can be formed, and based on this, higher quality direct drawing can be performed. It becomes possible.

また、パターン形成を滑らかに行なえ、また無駄な描画
を行なうことがなくなるので、描画時間の短縮が可能と
なる。
Further, pattern formation can be performed smoothly and unnecessary drawing is not performed, so that drawing time can be shortened.

なお、第12図〜第13図で説明したような塗りつぶし
描画の場合にも上記のデータ補正が可能であり、より短
時間での描画が可能となり、また、均一な描画が可能で
ある。
Note that the above data correction is also possible in the case of fill-in drawing as explained in FIGS. 12 to 13, and drawing can be performed in a shorter time and uniform drawing is possible.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明では、ノズルに対して所定
速度で相対的に移動するテーブル上に配置された回路基
板にノズルからペーストを吐出させ、回路基板上にパタ
ーンを描画する直接描画装置において、描画すべきパタ
ーンの閉ループ輪郭線の内側を識別する手段と、前記輪
郭線の内側に所定量オフセットした描画ラインを演算す
る手段と、前記輪郭線の内側にオフセットさせた描画ラ
インを演算する際、閉パターン輪郭線の外側にはみ出す
描画ラインを検出する手段とを設け、前記検出手段が検
出した描画ラインの描画を禁止した上で前記描画ライン
に沿ってパターンを描画する構成を採用しているので、
描画すべきパターンの閉ループ輪郭線の内側を識別し、
輪郭線の内側に所定量オフセットした描画ラインに沿っ
てパターンを描画する構成を採用している。
[Effects of the Invention] As explained above, in the present invention, a pattern is drawn on the circuit board by discharging paste from the nozzle onto a circuit board placed on a table that moves at a predetermined speed relative to the nozzle. In a direct drawing device that performs drawing, means for identifying the inside of a closed loop contour of a pattern to be drawn, means for calculating a drawing line that is offset by a predetermined amount inside the contour, and drawing that is offset inside the contour. When calculating a line, means for detecting a drawing line that protrudes outside the closed pattern contour line is provided, and the pattern is drawn along the drawing line after prohibiting drawing of the drawing line detected by the detection means. Since we are adopting
identify the inside of the closed-loop contour of the pattern to be drawn,
A configuration is adopted in which a pattern is drawn along a drawing line that is offset by a predetermined amount inside the contour line.

このため、描画パターンのオフセットを行なうことによ
り、描かれたパターンは、外形線よりはみ出すことがな
く、隣接する描画パターンとの接触が顕著に減少し、良
好な描画が可能になる。しかも閉パターンの輪郭線中に
オフセット量より小さい微少パターンがある場合でも、
これに応じて生じる異常なパターン部分を削除でき、良
好な描画パターンを形成し、これに基づきより高品位な
直接描画が可能となるなどの優れた効果がある。
Therefore, by offsetting the drawn pattern, the drawn pattern does not protrude beyond the outline, and contact with adjacent drawn patterns is significantly reduced, making it possible to perform good drawing. Moreover, even if there is a minute pattern smaller than the offset amount in the contour of the closed pattern,
There are excellent effects such as the ability to delete abnormal pattern portions that occur in response to this, form a good drawing pattern, and enable higher quality direct drawing based on this.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に係わる直接描画装置の構成を示した
斜視図、第2図は第1図の制御系の構造を示したブロッ
ク図、第3図は制御の流れを説明するフローチャート図
、第4図は描画すべきパターンの形状を示した説明図、
第5図は、第4図のパターンの節点の座標をメモリに格
納した状態を示す説明図、第6図(A)、(B)は出発
点から描く順序を示した説明図、第7図は、輪郭線より
所定量内側にオフセットした点を求める工程を示した説
明図、第8図は、オフセットされたラインの全体を示す
説明図、第9図は、オフセットされたラインに沿ってパ
ターンを描く状態を示した説明図、第1O図はハイブリ
ッドICのパターンを示す説明図、第11図は、第1O
図のパターンの基本的な構成部分を示した説明図、第1
2図(A)、(B)、(C)は従来のパターン描画方法
を示した説明図、第13図は従来のパターン描画方法を
示す斜視図、第14図は従来のパターン描画方法を示す
説明図、第15図、第16図は描画パターンのオフセッ
トの問題を示した説明図、第17図〜第19図は描画パ
ターンオフセット時のデータ補正を示した説明図、第2
0図は描画パターンオフセット時のデータ補正手順を示
したフローチャート図である。 1・・・基鈑      2−・−XYテーブル3・・
・ノズル     4−・−インク弁6・・・高さセン
サ 20・・・マイクロコンピュータ 22−・−メモリ 舟・衿呵Vε/1Jls杓i乞ホすブb9り匹う第2図 塙画バフー〕/l訣朗e 第4図 メモリrKJ第1の与叱βf4鈑つ 11!5図゛ (A) (B) #I噛/l説朗e 第6図 バイブI)、、、F′/ずワー〉n占静朋第10図 パ7りのメ朽溝へ〇 第11図 オフごッ)ライ〉めさた8月1 第8図 横L6JfJシム舘、す説β昭 第9図 従6垢画カムめI呟 第12図 1tMtノIIhh% ’=f−40f4f;73第1
3図 1B−ノ1MbyJ:E、r+MeFAe第14図 不フビー汁時のが1代化1示、fJ8すnρ第15図 [ オフビット時の藺冶噸ぐ、Σ1〒、IS伶e月旧第1G
図 第18図 纂191!Q [20図
FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a direct writing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing the structure of the control system in FIG. 1, and FIG. 3 is a flowchart explaining the flow of control. , FIG. 4 is an explanatory diagram showing the shape of the pattern to be drawn,
FIG. 5 is an explanatory diagram showing the state in which the coordinates of the nodes of the pattern in FIG. is an explanatory diagram showing the process of finding a point offset inward by a predetermined amount from the contour line, Fig. 8 is an explanatory diagram showing the entire offset line, and Fig. 9 is an explanatory diagram showing a pattern along the offset line. 10 is an explanatory diagram showing the pattern of the hybrid IC, and FIG. 11 is the diagram 10
Explanatory diagram showing the basic constituent parts of the pattern in the figure, Part 1
2 (A), (B), and (C) are explanatory diagrams showing a conventional pattern drawing method, FIG. 13 is a perspective view showing a conventional pattern drawing method, and FIG. 14 shows a conventional pattern drawing method. Explanatory diagrams, Figures 15 and 16 are explanatory diagrams showing the problem of offset of the drawing pattern, Figures 17 to 19 are explanatory diagrams showing data correction at the time of offset of the writing pattern,
FIG. 0 is a flowchart showing a data correction procedure at the time of offset of a drawing pattern. 1... Base plate 2--XY table 3...
・Nozzle 4-・-Ink valve 6...Height sensor 20...Microcomputer 22--・-Memory boat・Collar Vε/1Jls ladle i begging hosub b9 riu 2nd picture bahu] /l theory e Fig. 4 memory rKJ 1st reprimand βf4 board 11!5 Fig.゛(A) (B) 〉N Zan Seiho Figure 10 Pa 7ri's Mekuchizo 〇 Figure 11 Off Go) Lai〉Mesata August 1 Figure 8 Horizontal L6JfJ Shimdate, Su theory β Show Figure 9 Juku 6 painting Camme I mutter 12th figure 1tMtノIIhh% '=f-40f4f;73 1st
3 Figure 1B-No1 MbyJ:E, r+MeFAe Figure 14 shows the 1st generation at the time of no fubi juice, fJ8snρ Figure 15 1G
Figure 18 Collection 191! Q [Figure 20

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)ノズルに対して所定速度で相対的に移動するテーブ
ル上に配置された回路基板にノズルからペーストを吐出
させ、回路基板上にパターンを描画する直接描画装置に
おいて、 描画すべきパターンの閉ループ輪郭線の内側を識別する
手段と、 前記輪郭線の内側に所定量オフセットした描画ラインを
演算する手段と、 前記輪郭線の内側にオフセットさせた描画ラインを演算
する際、閉パターン輪郭線の外側にはみ出す描画ライン
を検出する手段とを設け、 前記検出手段が検出した描画ラインの描画を禁止した上
で前記描画ラインに沿ってパターンを描画することを特
徴とする直接描画装置。
[Claims] 1) In a direct writing device that draws a pattern on a circuit board by discharging paste from a nozzle onto a circuit board placed on a table that moves at a predetermined speed relative to the nozzle, means for identifying the inside of a closed loop contour of the pattern to be drawn; means for calculating a drawing line offset by a predetermined amount inside the contour; and means for calculating a drawing line offset inside the contour by a predetermined amount; A direct drawing device comprising means for detecting a drawing line protruding outside a pattern outline, and drawing the pattern along the drawing line after prohibiting drawing of the drawing line detected by the detection means. .
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