JPH04287338A - Semiconductor wafer probing equipment - Google Patents
Semiconductor wafer probing equipmentInfo
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- JPH04287338A JPH04287338A JP7587591A JP7587591A JPH04287338A JP H04287338 A JPH04287338 A JP H04287338A JP 7587591 A JP7587591 A JP 7587591A JP 7587591 A JP7587591 A JP 7587591A JP H04287338 A JPH04287338 A JP H04287338A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程のウェ
ーハ段階でペレットの良否を判断する半導体測定装置に
関し、特に測定装置にウェーハを供給し、ウェーハ内の
各ペレットと測定装置を接続させるウェーハプロービン
グ装置に関する。[Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor measuring device for determining the quality of pellets at the wafer stage of a semiconductor manufacturing process, and more particularly to a wafer measuring device for supplying a wafer to a measuring device and connecting each pellet in the wafer to the measuring device. This invention relates to a probing device.
【0002】0002
【従来の技術】従来、この種のプロービング装置は、任
意の形状,大きさのマーキング跡にするために、径の異
なるマーカーの中からペレットサイズに応じて適当なも
のを選び、そのマーカーを手動で位置調整を行なってい
た。また、マーキングは不良ペレット1個に対して1回
の打点で行なわれていた。[Prior Art] Conventionally, this type of probing device selects an appropriate marker from among markers with different diameters according to the pellet size and manually inserts the marker in order to make marking marks of arbitrary shapes and sizes. I was adjusting the position. Furthermore, marking was performed at one point for each defective pellet.
【0003】0003
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプロー
ビング装置では、ペレットサイズに応じてマーキング跡
の大きさを変えるために、径の異なるマーカーを用意し
、ペレットサイズとマーカー径の対応を管理しなければ
ならなかった。従って、同一のプロービング装置でペレ
ットサイズが大きく異なるウェーハをプロービングする
場合、その都度マーカーを交換,調整しなければならず
、作業性を低減させるという問題を有していた。[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional probing device described above, in order to change the size of the marking trace according to the pellet size, markers with different diameters are prepared and the correspondence between the pellet size and the marker diameter is managed. I had to. Therefore, when probing wafers with significantly different pellet sizes using the same probing device, the markers must be replaced and adjusted each time, which poses a problem of reducing work efficiency.
【0004】また、マーキング跡は円形または楕円形で
あり、細長い形状のペレットの場合、ペレットの短辺か
らマーキング跡がはみ出さないように調整するため、ペ
レット面積に対するマーキング跡の面積比を大きくする
ことに限界があり、ペレット形状によっては後工程で良
品,不良品の自動認識ができなくなるという問題を有し
ていた。[0004] Furthermore, the marking marks are circular or oval, and in the case of elongated pellets, the area ratio of the marking marks to the pellet area is increased in order to prevent the marking marks from protruding from the short sides of the pellet. However, depending on the shape of the pellet, automatic recognition of good and defective products may not be possible in subsequent processes.
【0005】本発明の目的は、ペレット形状に応じた形
状,大きさの不良マーキングを施こすようにした半導体
ウェーハプロービング装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer probing apparatus which is capable of marking defects in a shape and size corresponding to the pellet shape.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明に係る半導体ウェーハプロービング装置におい
ては、入力機構と、算出機構と、マーキング機構とを有
する半導体ウェーハプロービング装置であって、入力機
構は、マーキング跡の形状,大きさを入力する機構であ
り、算出機構は、前記入力内容を満たすために、1不良
ペレット内におけるウェーハステージの移動方向及び移
動量を算出する機構であり、マーキング機構は、算出機
構からの出力に基づき、1不良ペレット内において、実
際にウェーハステージを移動させマーキングの位置を変
えながら複数回マーキングを行なう機構であり、単一の
マーキング装置で任意の形状,大きさの不良マーキング
を行なうものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, a semiconductor wafer probing apparatus according to the present invention includes an input mechanism, a calculation mechanism, and a marking mechanism. is a mechanism for inputting the shape and size of the marking trace, and the calculation mechanism is a mechanism for calculating the moving direction and amount of movement of the wafer stage within one defective pellet in order to satisfy the input contents. This is a mechanism that performs marking multiple times within one defective pellet based on the output from the calculation mechanism while actually moving the wafer stage and changing the marking position. This is used to mark defects.
【0007】[0007]
【作用】本発明の半導体ウェーハプロービング装置は、
マーキング跡の形状,大きさを入力し、前記入力内容を
満たすための1不良ペレット内におけるウェーハステー
ジの移動方向及び移動量を算出し、そのデータに基づき
1不良ペレット内において、実際にウェーハステージを
移動させてマーキング位置を変えながら複数回マーキン
グを行なうようにしたものである。[Operation] The semiconductor wafer probing apparatus of the present invention has the following features:
Input the shape and size of the marking trace, calculate the movement direction and amount of movement of the wafer stage within one defective pellet to satisfy the input contents, and then actually move the wafer stage within one defective pellet based on the data. Marking is performed multiple times while moving the marking position and changing the marking position.
【0008】[0008]
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。図1は、本発明の一実施例を示すブロック図である。
図2は、マーキングを行なったペレットの外観を示す概
略図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing the appearance of a marked pellet.
【0009】図において、テスター1より、テスト開始
信号がテスターインターフェイス2を介してプロービン
グ制御装置3へ送られる。この信号により、X−Y方向
の移動量がプロービング制御装置3からステージ制御装
置4へ送られ、ウェーハステージ5が移動して被測定ペ
レットの測定を開始する。また、あらかじめマーキング
情報入力装置6に入力された情報をもとに、ステージ移
動量演算装置7によって不良ペレット1個に対するマー
キング回数及び1回ごとのマーキングに対応したウェー
ハステージ5の移動量が算出されている。In the figure, a test start signal is sent from a tester 1 to a probing control device 3 via a tester interface 2. Based on this signal, the amount of movement in the X-Y direction is sent from the probing control device 3 to the stage control device 4, and the wafer stage 5 moves to start measuring the pellet to be measured. Furthermore, based on the information inputted in advance to the marking information input device 6, the stage movement amount calculation device 7 calculates the number of marking times for one defective pellet and the amount of movement of the wafer stage 5 corresponding to each marking. ing.
【0010】被測定ペレットが不良品の場合、ステージ
移動量演算装置7で算出されたデータがプロービング制
御装置3へ送られる。このデータをもとにプロービング
制御装置3がステージ制御装置4とマーキング制御装置
8に交互に信号を送り、マーキング跡が所望の形状,大
きさになるまでウェーハステージ5の移動とマーキング
装置9によるマーキングを繰り返し図2に示すように、
ペレット10上でのマーキング跡11がペレット形状に
応じた形状,大きさになるようにする。不良ペレット1
個のマーキングが完了したら、次のペレットへウェーハ
ステージ5が移動して測定を開始する。If the pellet to be measured is a defective product, the data calculated by the stage movement amount calculation device 7 is sent to the probing control device 3. Based on this data, the probing control device 3 sends signals alternately to the stage control device 4 and marking control device 8, causing the wafer stage 5 to move and the marking device 9 to perform marking until the marking trace has the desired shape and size. As shown in Figure 2,
A marking mark 11 on a pellet 10 is made to have a shape and size according to the shape of the pellet. Bad pellet 1
When the marking of one pellet is completed, the wafer stage 5 moves to the next pellet and starts measurement.
【0011】一方、被測定ペレットが良品の場合、マー
キングを行なわず、次のペレットへウェーハステージ5
が移動して測定を開始する。On the other hand, if the pellet to be measured is a good product, no marking is performed and the next pellet is moved to the wafer stage 5.
moves and starts measurement.
【0012】以後、設定したウェーハの全ペレットにつ
いて上述したような動作を繰り返す。Thereafter, the above-described operations are repeated for all pellets of the set wafer.
【0013】[0013]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、不良ペレ
ットに対してウェーハステージを移動させてマーキング
位置を変えながら複数回マーキングを行なうことにより
、ペレットサイズにかかわらず、単一のマーカーでマー
キングを行なうことができる。従って、マーカー径を換
える作業が不要となり、作業性を向上させる効果を有す
る。また、ペレット形状に応じた形状,大きさのマーキ
ング跡が得られるため、後工程での良品,不良品の自動
認識装置における誤動作を低減できる効果を有する。Effects of the Invention As explained above, the present invention enables marking of defective pellets with a single marker by moving the wafer stage and marking the defective pellets multiple times while changing the marking position. can be done. Therefore, there is no need to change the marker diameter, which has the effect of improving work efficiency. Furthermore, since marking traces having a shape and size corresponding to the pellet shape can be obtained, it has the effect of reducing malfunctions in an automatic recognition device for good and defective products in a subsequent process.
【図1】本発明の一実施例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention.
【図2】本発明においてマーキングを行なったペレット
の外観の概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of the appearance of a pellet marked in the present invention.
1 テスター 2 テスターインターフェイス 3 プロービング制御装置 4 ステージ制御装置 5 ウェーハステージ 6 マーキング情報入力装置 7 ステージ移動量演算装置 8 マーキング制御装置 9 マーキング装置 10 ペレット 11 マーキング跡 1 Tester 2 Tester interface 3. Probing control device 4 Stage control device 5 Wafer stage 6 Marking information input device 7 Stage movement calculation device 8 Marking control device 9 Marking device 10 Pellets 11 Marking traces
Claims (1)
機構とを有する半導体ウェーハプロービング装置であっ
て、入力機構は、マーキング跡の形状,大きさを入力す
る機構であり、算出機構は、前記入力内容を満たすため
に、1不良ペレット内におけるウェーハステージの移動
方向及び移動量を算出する機構であり、マーキング機構
は、算出機構からの出力に基づき、1不良ペレット内に
おいて、実際にウェーハステージを移動させマーキング
の位置を変えながら複数回マーキングを行なう機構であ
り、単一のマーキング装置で任意の形状,大きさの不良
マーキングを行なうようにしたことを特徴とする半導体
ウェーハプロービング装置。1. A semiconductor wafer probing apparatus comprising an input mechanism, a calculation mechanism, and a marking mechanism, wherein the input mechanism is a mechanism for inputting the shape and size of a marking trace, and the calculation mechanism is a mechanism for inputting the shape and size of a marking trace. This is a mechanism that calculates the moving direction and amount of movement of the wafer stage within one defective pellet in order to satisfy the content, and the marking mechanism actually moves the wafer stage within one defective pellet based on the output from the calculation mechanism. What is claimed is: 1. A semiconductor wafer probing device, which is characterized in that it is a mechanism that performs marking multiple times while changing the position of the marking, and is capable of marking defects of any shape and size with a single marking device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3075875A JP2858983B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor wafer probing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3075875A JP2858983B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor wafer probing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04287338A true JPH04287338A (en) | 1992-10-12 |
| JP2858983B2 JP2858983B2 (en) | 1999-02-17 |
Family
ID=13588889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3075875A Expired - Lifetime JP2858983B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor wafer probing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2858983B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08330367A (en) * | 1995-05-31 | 1996-12-13 | Nec Yamagata Ltd | Apparatus for marking semiconductor wafer and its marking method |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5735333A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-25 | Nec Corp | Inspection equipment of semiconductor wafer |
| JPS62136041A (en) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Canon Inc | wafer prober |
| JPS62118691U (en) * | 1986-01-20 | 1987-07-28 |
-
1991
- 1991-03-15 JP JP3075875A patent/JP2858983B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5735333A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-25 | Nec Corp | Inspection equipment of semiconductor wafer |
| JPS62136041A (en) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Canon Inc | wafer prober |
| JPS62118691U (en) * | 1986-01-20 | 1987-07-28 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08330367A (en) * | 1995-05-31 | 1996-12-13 | Nec Yamagata Ltd | Apparatus for marking semiconductor wafer and its marking method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2858983B2 (en) | 1999-02-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980623 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981110 |