JPH04112574A - Manufacture of master slice integrated circuit - Google Patents

Manufacture of master slice integrated circuit

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JPH04112574A
JPH04112574A JP23194390A JP23194390A JPH04112574A JP H04112574 A JPH04112574 A JP H04112574A JP 23194390 A JP23194390 A JP 23194390A JP 23194390 A JP23194390 A JP 23194390A JP H04112574 A JPH04112574 A JP H04112574A
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JP
Japan
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cells
master
input
master slice
regions
Prior art date
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Pending
Application number
JP23194390A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidekatsu Nishimaki
秀克 西巻
Yoshihiro Okuno
奥野 義弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH04112574A publication Critical patent/JPH04112574A/en
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To design an arbitrary circuit scale on a common master wafer by conducting wiring by using a plurality of rectangular regions in which cells composed of elements such as transistors, which are formed on a wafer by dicing lines, are spread. CONSTITUTION:Rectangular regions 3 are formed by using dicing lines 1, and cells 2 consisting of transistors, resistors, etc., are spread all over the whole surfaces in the regions 3. When a desired circuit is realized by a master slice LSI, a logic circuit having an arbitrary scale, input-output pads 4 in the arbitrary number of inputs and outputs, an input protective circuit and input-output buffers are formed in the proper number of the cells, a proper area and proper chip size, by conducting wirings on the cells 2 by using a plurality of the regions 3 on a master wafer, on the whole surface of which said regions 3 are shaped. The LSIs in the arbitrary number of logic gates and inputs and outputs and in chip size can be designed at the stage of slice.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はマスタスライス集積回路の製造方法に関し、マ
スタウェハで入出力数とゲート数を決めることを必要と
しない敷き詰め方式によるマスタスライス集積回路の製
造方法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a master slice integrated circuit, and relates to a method for manufacturing a master slice integrated circuit using a laying method that does not require determining the number of inputs and outputs and the number of gates on a master wafer. It is about the method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の敷き詰め方式によるマスタスライス集積回路(マ
スタスライスLS I)は、チップ周辺に入出力バッド
、入力保護回路及び人出力バッファを配置し、その内部
にトランジスタと抵抗等がら成るセルを敷き詰めた構成
になっていた。
A master slice integrated circuit (master slice LSI) using the conventional layout method has an input/output pad, an input protection circuit, and a human output buffer arranged around the chip, and cells consisting of transistors, resistors, etc. are laid out inside the chip. It had become.

第5図に、従来の敷き詰め方式によるマスタスライスL
SIを示す。
Figure 5 shows a master slice L using the conventional laying method.
Indicates SI.

同図においては、チップ周辺に入出力バッド4と入力保
護回路・人出力バッファ5を配置し、その内部にセル2
を敷き詰める構成をとっている。
In the figure, an input/output pad 4 and an input protection circuit/human output buffer 5 are placed around the chip, and cells 2 and 2 are placed inside.
It has a structure that covers the entire area.

スライス工程の際、そのマスタチップ上で内部セル2を
論理ゲート及び配線領域として使用し、入出力バッド4
と入力保護回路・人出力バッファ5を配線することによ
り所望の論理LSIを実現する。
During the slicing process, internal cells 2 are used as logic gates and wiring areas on the master chip, and input/output pads 4 are used as logic gates and wiring areas.
By wiring the input protection circuit/human output buffer 5, a desired logic LSI is realized.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来のマスタスライスLSIは以上のように構成されて
いるので、マスタチップ固有の入出力数と内部セル数の
範囲内の回路しか構成できず、また回路の構成によって
は入出力パッド4.入力保護回路・入出力バッファ5と
内部セル2のいずれか一方、もしくは両方か未使用のま
ま無駄になるという問題かあった。
Since the conventional master slice LSI is configured as described above, only the circuits within the range of the number of input/outputs and the number of internal cells specific to the master chip can be configured, and depending on the configuration of the circuit, the number of input/output pads 4. There is a problem that either one or both of the input protection circuit/input/output buffer 5 and the internal cell 2 are left unused and wasted.

また、このようなマスタスライスLSIを用いて任意に
入出力数と論理ゲート数を有する回路を実現するには、
マスタチップの未使用の部分を少な(するため、規模の
異なる入力出力数とセル数を有するマスタチップを配置
したマスタウェハを数種類用意する必要があった。
Furthermore, in order to realize a circuit having an arbitrary number of inputs/outputs and a number of logic gates using such a master slice LSI,
In order to minimize the unused portion of the master chip, it was necessary to prepare several types of master wafers on which master chips with different scales of input/output numbers and cell numbers were arranged.

本発明はこのような問題を解消するためになされたもの
で、トランジスタと抵抗等から成るセルで形成されたマ
スタウェハが、任意の回路規模に共通化できるマスタス
ライス集積回路の製造方法を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve these problems, and aims to provide a method for manufacturing a master slice integrated circuit in which a master wafer formed of cells consisting of transistors, resistors, etc. can be made common to any circuit scale. purpose.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係るマスタスライス集積回路の製造方法は、ウ
ェハ上に適当なサイズの矩形領域をダイシングラインを
用いて形成し、この矩形領域内部にはトランジスタ 抵
抗等の素子からなるセルを敷き詰め、スライス設計段階
で回路の入出力数とゲート数に適したチップサイズにな
るように矩形領域を複数個用いセルを配線するものであ
る。
The method for manufacturing a master slice integrated circuit according to the present invention involves forming a rectangular area of an appropriate size on a wafer using a dicing line, filling the inside of this rectangular area with cells consisting of elements such as transistors and resistors, and designing a slice. In this process, cells are wired using multiple rectangular areas so that the chip size is appropriate for the number of inputs and outputs and gates of the circuit.

〔作用〕[Effect]

本発明におけるマスタスライス集積回路の製造方法は、
ウェハ上に適当なサイズの矩形領域をダイシングライン
を用いて形成し、内部にトランジスタ、抵抗等の素子か
らなるセルを敷き詰めたこの矩形領域を複数個用いて配
線したので、論理ゲート数及び入出力数に応じた任意の
適切なチップサイズで共通のマスタウェハ上に設計可能
となる。
The method for manufacturing a master slice integrated circuit according to the present invention includes:
A rectangular area of an appropriate size was formed on the wafer using dicing lines, and wiring was done using multiple rectangular areas filled with cells consisting of elements such as transistors and resistors, so the number of logic gates and input/output could be reduced. It becomes possible to design on a common master wafer with any appropriate chip size depending on the number of chips.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例によるマスタスライス集積回路
の製造方法を第1図から第4図について説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a master slice integrated circuit according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG.

第1図、第2図は、本発明の第1の実施例によるマスタ
スライス集積回路の製造方法を示したものであり、第1
図はマスタウェハの一部を、また第2図は、第1図の矩
形領域3を複数個用いてセルを配線した様子を示してい
る。
1 and 2 show a method for manufacturing a master slice integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
The figure shows a part of a master wafer, and FIG. 2 shows how cells are wired using a plurality of rectangular areas 3 shown in FIG. 1.

これらの図において、1はダイシングライン、2はトラ
ンジスタと抵抗等から構成されるセル、3は矩形領域、
4はセル上に形成した入出力パッドであり、チップ内部
のダイシングラインlは電源配線領域として、またセル
2は入力保護回路。
In these figures, 1 is a dicing line, 2 is a cell consisting of a transistor and a resistor, etc., 3 is a rectangular area,
4 is an input/output pad formed on the cell, dicing line l inside the chip is used as a power supply wiring area, and cell 2 is an input protection circuit.

人出力バッファ、内部回路及び配線領域として用いられ
ている。
It is used as a human output buffer, internal circuit and wiring area.

次に製造プロセスについて説明する。Next, the manufacturing process will be explained.

まず、第1図に示すようにダイシングライン1を用いて
矩形領域3を形成し、この矩形領域3内にトランジスタ
と抵抗等から構成されるセル2を全面に敷き詰める。
First, as shown in FIG. 1, a rectangular area 3 is formed using a dicing line 1, and cells 2 composed of transistors, resistors, etc. are spread over the entire surface of the rectangular area 3.

次に、所望の回路をマスタスライスLSIにより実現す
る場合は、このようなセル2を全面に敷き詰めた矩形領
域3を全面に形成したマスタウェハ上において、第2図
に示すようにその矩形領域3を複数個用いセル2上を配
線することにより、任意の規模の論理回路及び任意の入
出力数の入出力パッド4.入力保護回路2人出力バッフ
ァを適切なセル数即ち適切な面積、換言すれば適切なチ
ップサイズに形成する。
Next, when realizing a desired circuit using a master slice LSI, on a master wafer on which a rectangular area 3 with such cells 2 all over the entire surface is formed, as shown in FIG. 2, the rectangular area 3 is By wiring a plurality of cells 2, a logic circuit of any size and an arbitrary number of input/output pads 4. The two-input protection circuit output buffer is formed to have an appropriate number of cells, that is, an appropriate area, in other words, an appropriate chip size.

その結果任意の論理ゲート数と入出力数のチップサイズ
のLSIかスライス段階で設計可能となる。
As a result, it becomes possible to design a chip-sized LSI with any number of logic gates and input/outputs at the slicing stage.

更に、第3図及び第4図は本発明の第2.第3の実施例
によるマスタスライス集積回路の製造方法を示しており
、第3図のマスタスライスLSIは第2図のマスタスラ
イスLSIに比較し入出力数の小さい場合であり、第4
図のマスタスライスLSIは第2図のマスタスライスL
SIに比較し論理ゲート数の大きい場合である。
Furthermore, FIGS. 3 and 4 illustrate the second aspect of the present invention. This shows a method of manufacturing a master slice integrated circuit according to a third embodiment, in which the master slice LSI in FIG. 3 has a smaller number of inputs and outputs than the master slice LSI in FIG.
The master slice LSI in the figure is the master slice L in Figure 2.
This is a case where the number of logic gates is large compared to SI.

このように回路の入出力数或いは論理ゲート数か異なる
場合も、上記第1の実施例と同様の方法により共通のマ
スタウェハで容易に設計可能である。
Even if the number of inputs and outputs of the circuit or the number of logic gates are different in this way, it can be easily designed using a common master wafer by the same method as in the first embodiment.

以上、上記実施例では入出力パッドを用いた場合につい
て説明したが、これはフリップチップ用のバンプであっ
てもよく、この場合にも同様の効果を奏する。
In the above embodiments, the case where input/output pads are used has been described, but bumps for flip chips may also be used, and the same effect can be achieved in this case as well.

また、前記実施例ではセル内の構造について説明しなか
ったか、セルを構成するトランジスタはバイポーラトラ
ンジスタ、MOSトランジスタのいずれか一方或いは両
方で構成することが出来る。
Further, in the above embodiments, the structure inside the cell was not explained, and the transistors constituting the cell can be composed of one or both of bipolar transistors and MOS transistors.

なお、セルを構成する抵抗も同様に、拡散層抵抗、ポリ
シリコン抵抗のいずれか一方或いは両方で構成すること
かできる。
It should be noted that the resistors constituting the cell can similarly be composed of either or both of a diffusion layer resistor and a polysilicon resistor.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、本発明はダイシングラインで形成され、
内部にセルを敷き詰めた矩形領域を形成し、更にセル上
を配線することにより入出力パッド、入力保護回路及び
人出力バッファを設けるようにしたので、スライス設計
段階で任意にLSIの規模を決定することかできる効果
がある。
As described above, the present invention is formed on a dicing line,
By forming a rectangular area filled with cells inside and further wiring above the cells, input/output pads, input protection circuits, and human output buffers are provided, so the scale of the LSI can be arbitrarily determined at the slice design stage. There are certain effects.

また全てのマスタスライスLSIについてマスタウェハ
は1種類用意すればよく、製造コストを安価にてきると
いう効果もある。
Furthermore, it is sufficient to prepare one type of master wafer for all master slice LSIs, which has the effect of reducing manufacturing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例によるマスタスライス集
積回路の製造方法における、ダイシングラインで形成さ
れたセルを敷き詰めた矩形領域を全面に形成したウェハ
の一部分を示すパターン図、第2図、第3図及び第4図
は本発明の第1.第2及び第3の実施例によるマスタス
ライス集積回路の製造方法により得られるマスタスライ
スLSIチップを示すパターン図、第5図は従来の敷き
詰め方式によるマスタスライスLSIで実現されたマス
タスライスLSIチップを示すパターン図である。 図において、1はダイシングライン、2はセル、3は矩
形領域、4は入出力パッドである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a pattern diagram showing a part of a wafer in which a rectangular area filled with cells formed by dicing lines is formed on the entire surface in the method for manufacturing a master slice integrated circuit according to the first embodiment of the present invention, and FIG. , 3 and 4 show the first embodiment of the present invention. A pattern diagram showing a master slice LSI chip obtained by the method of manufacturing a master slice integrated circuit according to the second and third embodiments, and FIG. 5 shows a master slice LSI chip realized by a master slice LSI using a conventional tiling method. It is a pattern diagram. In the figure, 1 is a dicing line, 2 is a cell, 3 is a rectangular area, and 4 is an input/output pad. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)マスタウェハ上に、ダイシングラインを用いて適
当なサイズの複数の矩形領域を形成し、該複数の矩形領
域内部に、トランジスタ、抵抗等の素子から成るセルを
全面に敷き詰めるマスタ工程と、 前記セルを敷き詰めた矩形領域を複数個用い、回路の入
出力数とゲート数に適したチップサイズになるようにセ
ルを相互に配線するスライス工程とを含むことを特徴と
するマスタスライス集積回路の製造方法。
(1) A master process in which a plurality of rectangular regions of an appropriate size are formed on a master wafer using dicing lines, and cells consisting of elements such as transistors and resistors are spread over the entire surface inside the plurality of rectangular regions; Manufacture of a master slice integrated circuit characterized by using a plurality of rectangular areas filled with cells and slicing the cells to each other so as to have a chip size suitable for the number of inputs and outputs of the circuit and the number of gates. Method.
JP23194390A 1990-08-31 1990-08-31 Manufacture of master slice integrated circuit Pending JPH04112574A (en)

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