JPH04112845A - ヒドロキシスチルベン類の製法 - Google Patents
ヒドロキシスチルベン類の製法Info
- Publication number
- JPH04112845A JPH04112845A JP2233997A JP23399790A JPH04112845A JP H04112845 A JPH04112845 A JP H04112845A JP 2233997 A JP2233997 A JP 2233997A JP 23399790 A JP23399790 A JP 23399790A JP H04112845 A JPH04112845 A JP H04112845A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- hydroxystilbenes
- acid ester
- hydroxybenzylphosphonic acid
- usually
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- AYPZAZPOYROADP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 AYPZAZPOYROADP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- -1 hydroxybenzylphosphonic acid ester Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- WMPDAIZRQDCGFH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=CC(C=O)=C1 WMPDAIZRQDCGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical class OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JZSAHUBCZHLLJF-UHFFFAOYSA-N (3-methoxyphenyl)methylphosphonic acid Chemical compound COC1=CC=CC(CP(O)(O)=O)=C1 JZSAHUBCZHLLJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHBRSHSRMYZHLS-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)methylphosphonic acid Chemical compound OC1=CC=C(CP(O)(O)=O)C=C1 ZHBRSHSRMYZHLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKADNPRLDAEDMO-MDZDMXLPSA-N 2-[(e)-2-(3-methoxyphenyl)ethenyl]phenol Chemical compound COC1=CC=CC(\C=C\C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 CKADNPRLDAEDMO-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- YINYVRLKOAKPLN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyphenyl)ethenyl]phenol Chemical group OC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1O YINYVRLKOAKPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYXAWSYYBVJGRQ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-(2-phenylethenyl)phenol Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1O DYXAWSYYBVJGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKRCXSCDWKJWSW-UHFFFAOYSA-N [4-(chloromethyl)phenyl] acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(CCl)C=C1 OKRCXSCDWKJWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000003916 acid precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- HUMNYLRZRPPJDN-KWCOIAHCSA-N benzaldehyde Chemical group O=[11CH]C1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-KWCOIAHCSA-N 0.000 description 1
- 238000007193 benzoin condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N chloro(phenyl)methanol Chemical compound OC(Cl)C1=CC=CC=C1 HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- TUHQILXYEWBBDR-UHFFFAOYSA-N ethoxy-[(4-hydroxyphenyl)methyl]phosphinic acid Chemical compound CCOP(O)(=O)CC1=CC=C(O)C=C1 TUHQILXYEWBBDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229940114123 ferulate Drugs 0.000 description 1
- KSEBMYQBYZTDHS-HWKANZROSA-N ferulic acid Chemical compound COC1=CC(\C=C\C(O)=O)=CC=C1O KSEBMYQBYZTDHS-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006289 hydroxybenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- NSPJNIDYTSSIIY-UHFFFAOYSA-N methoxy(methoxymethoxy)methane Chemical compound COCOCOC NSPJNIDYTSSIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003008 phosphonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N potassium-40 Chemical compound [40K] ZLMJMSJWJFRBEC-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-olate Chemical compound [K+].CCCC[O-] CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012485 toluene extract Substances 0.000 description 1
- QVLMUEOXQBUPAH-VOTSOKGWSA-N trans-stilben-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 QVLMUEOXQBUPAH-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はヒドロキシスチルベン類の製法に関するもので
あり、詳しくは、新規反応による副生物の少ない工業的
に有利なヒドロキシスチルベン類の製法に関するもので
ある。
あり、詳しくは、新規反応による副生物の少ない工業的
に有利なヒドロキシスチルベン類の製法に関するもので
ある。
[従来の技術とその問題点1
ヒドロキシスチルベン類は、例えば、医薬中間体、感光
性ポリマー用原料として有用な上、それ自体、抗菌剤、
農薬安定剤及び蛍光増感剤などにも利用されている。従
来、ヒドロキシスチルベン類の製造法としては、例えば
、次の合成ルートが知られている。
性ポリマー用原料として有用な上、それ自体、抗菌剤、
農薬安定剤及び蛍光増感剤などにも利用されている。従
来、ヒドロキシスチルベン類の製造法としては、例えば
、次の合成ルートが知られている。
しかしながら、上記■及び■の反応の場合、原料となる
ベンズアルデヒド誘導体のヒドロキシ基をアルキルエー
テルとして保護した後、反応を行ない、次いで、反応後
にこれを加水分解しヒドロキシ基を生成させる必要があ
るので、全体の反応工程が長くなる上、前記加水分解時
における副反応が著しく、高収率で目的化合物を得るこ
とができない。また、上記■の反応の場合、ヒドロキシ
ベンズアルデヒド同志又はベンズアルデヒド同志のベン
ゾイン縮合も併発するが、この副生物と目的化合物との
分離操作は極めて難しく、容易に高純度品を回収するこ
とはできない。更に、上記■の反応の場合には、ヒドロ
キシ基の保護が不要で、しかも、目的化合物の選択性も
良好であるが、原料として高価なトリフェニルホスフィ
ンを用いる必要があり、また、反応により副生ずるトリ
フェニルホスフィンオキサイドと目的化合物との分離に
当たっては、多段抽出法などの複雑な工程を要する。
ベンズアルデヒド誘導体のヒドロキシ基をアルキルエー
テルとして保護した後、反応を行ない、次いで、反応後
にこれを加水分解しヒドロキシ基を生成させる必要があ
るので、全体の反応工程が長くなる上、前記加水分解時
における副反応が著しく、高収率で目的化合物を得るこ
とができない。また、上記■の反応の場合、ヒドロキシ
ベンズアルデヒド同志又はベンズアルデヒド同志のベン
ゾイン縮合も併発するが、この副生物と目的化合物との
分離操作は極めて難しく、容易に高純度品を回収するこ
とはできない。更に、上記■の反応の場合には、ヒドロ
キシ基の保護が不要で、しかも、目的化合物の選択性も
良好であるが、原料として高価なトリフェニルホスフィ
ンを用いる必要があり、また、反応により副生ずるトリ
フェニルホスフィンオキサイドと目的化合物との分離に
当たっては、多段抽出法などの複雑な工程を要する。
[発明の課題と解決手段]
本発明者は上記実状に鑑み、副生物の生成が少なく、し
かも、目的生成物の回収が容易なヒドロキシスチルベン
類の合成法について種々検討を行った結果、ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸エステルとベンズアルデヒドとを原
料としてヒドロキシスチルベン類を合成する場合、高収
率で目的化合物が得られる上、反応混合物からの目的化
合物の回収も簡単にできることを見い出した。
かも、目的生成物の回収が容易なヒドロキシスチルベン
類の合成法について種々検討を行った結果、ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸エステルとベンズアルデヒドとを原
料としてヒドロキシスチルベン類を合成する場合、高収
率で目的化合物が得られる上、反応混合物からの目的化
合物の回収も簡単にできることを見い出した。
すなわち、本発明の要旨は、ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸エステルとベンズアルデヒド誘導体とを、塩基の存
在下、非プロトン性有機溶媒中で反応させることを特徴
とするヒドロキシスチルベン類の製法に存する。
ン酸エステルとベンズアルデヒド誘導体とを、塩基の存
在下、非プロトン性有機溶媒中で反応させることを特徴
とするヒドロキシスチルベン類の製法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の原料となる、ヒドロキシベンジルホスホン酸エ
ステルとしては、通常、 下記−数式[1] (式中、R1は低級アルキル基を表わし、R2及びR3
は水素原子、低級アルキル基、低級アルキル基又はハロ
ゲン原子を表わす)で示される化合物であり、具体的に
は例えば、0−もしくはp−ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸エステル、3−ヒドロキシ−4−メトキシベンジル
ホスホン酸エステル、3−メトキシ−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸エステル、2−ヒドロキシ−3−メチ
ル−5−クロロベンジルホスホン酸エステルなどが挙げ
られる。
ステルとしては、通常、 下記−数式[1] (式中、R1は低級アルキル基を表わし、R2及びR3
は水素原子、低級アルキル基、低級アルキル基又はハロ
ゲン原子を表わす)で示される化合物であり、具体的に
は例えば、0−もしくはp−ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸エステル、3−ヒドロキシ−4−メトキシベンジル
ホスホン酸エステル、3−メトキシ−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸エステル、2−ヒドロキシ−3−メチ
ル−5−クロロベンジルホスホン酸エステルなどが挙げ
られる。
このヒドロキシベンジルホスホン酸エステルは、通常、
そのヒドロキシル基をアセチル基またはアルコキシカル
ボニル基で保護したヒドロキシベンジルクロリド類と亜
リン酸エステルとを反応させ、その後保護基を脱離させ
る方法(ツーカーケミカル、米国特許3,983,17
8号公報)または、0−ヒドロキシ−ベンジルアルコー
ル類と亜リン酸エステルとを直接反応させる方法(J
、A 、Miles et alJ、O,C,、47,
1677(1982) )等により、容易に得ることが
できる。
そのヒドロキシル基をアセチル基またはアルコキシカル
ボニル基で保護したヒドロキシベンジルクロリド類と亜
リン酸エステルとを反応させ、その後保護基を脱離させ
る方法(ツーカーケミカル、米国特許3,983,17
8号公報)または、0−ヒドロキシ−ベンジルアルコー
ル類と亜リン酸エステルとを直接反応させる方法(J
、A 、Miles et alJ、O,C,、47,
1677(1982) )等により、容易に得ることが
できる。
一方、ベンズアルデヒド誘導体としては、通常、下記−
数式(II ) (式中、R4及びR6は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わす)で示される
化合物であり、例えば、ベンズアルデヒド、〇−もしく
はp−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−メトキシベン
ズアルデヒド、0−ブロモベンズアルデヒド、3−メト
キシ−4−ヒドロキシベンズアルデヒドなどが挙げられ
る。
数式(II ) (式中、R4及びR6は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わす)で示される
化合物であり、例えば、ベンズアルデヒド、〇−もしく
はp−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−メトキシベン
ズアルデヒド、0−ブロモベンズアルデヒド、3−メト
キシ−4−ヒドロキシベンズアルデヒドなどが挙げられ
る。
なお、前示一般式(IIのヒドロキシベンジルホスホン
酸エステルと前示一般式(II)のベンズアルデヒド誘
導体から合成されるヒドロキシスチルベン類は下記−数
式[■旧 (式中、R2−R5は前記と同じ意味を表わす)で示さ
れる化合物となる。
酸エステルと前示一般式(II)のベンズアルデヒド誘
導体から合成されるヒドロキシスチルベン類は下記−数
式[■旧 (式中、R2−R5は前記と同じ意味を表わす)で示さ
れる化合物となる。
ベンズアルデヒド誘導体に対するヒドロキシベンジルホ
スホン酸エステルの使用量は、通常、0.7〜1.5モ
ル倍、好ましくは0.9〜1.1モル倍である。
スホン酸エステルの使用量は、通常、0.7〜1.5モ
ル倍、好ましくは0.9〜1.1モル倍である。
本発明の反応は塩基の存在下で実施されるが、塩基とし
ては、通常、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ又
はカリウムも一ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド
、ナトリウムメトキサイドなどのアルカリアルコラード
などが挙げられるが、収率から考えると、塩基強度の高
いカリウムt−ブトキサイドが最も好ましい。この塩基
の使用量は、通常、ヒドロキシベンジルホスホン酸エス
テルに対して、1.5〜4.5モル倍、好ましくは2.
5〜3.5モル倍である。本発明の反応では、この塩基
の作用により、まず、水酸基がフェルレート化され、つ
いでベンジル位の活性化が行われるので、塩基の使用量
があまり少ないとベンジル位の活性化が不十分となり収
率が低下し、また、あまり多すぎても効果に変わりはな
いので経済的ではない。
ては、通常、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ又
はカリウムも一ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド
、ナトリウムメトキサイドなどのアルカリアルコラード
などが挙げられるが、収率から考えると、塩基強度の高
いカリウムt−ブトキサイドが最も好ましい。この塩基
の使用量は、通常、ヒドロキシベンジルホスホン酸エス
テルに対して、1.5〜4.5モル倍、好ましくは2.
5〜3.5モル倍である。本発明の反応では、この塩基
の作用により、まず、水酸基がフェルレート化され、つ
いでベンジル位の活性化が行われるので、塩基の使用量
があまり少ないとベンジル位の活性化が不十分となり収
率が低下し、また、あまり多すぎても効果に変わりはな
いので経済的ではない。
本発明で使用する非プロトン性有機溶媒とじては活性水
素を持たず塩基に対して不活性な溶媒であれば特に限定
されないが、通常、トルエン、テトラリンなどの炭化水
素、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアルキルアミド
類等が望ましい。有機溶媒の使用量は通常、全反応原料
に対して、0.5〜50重量倍、好ましくは1〜30重
量倍程度である。
素を持たず塩基に対して不活性な溶媒であれば特に限定
されないが、通常、トルエン、テトラリンなどの炭化水
素、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアルキルアミド
類等が望ましい。有機溶媒の使用量は通常、全反応原料
に対して、0.5〜50重量倍、好ましくは1〜30重
量倍程度である。
本発明における反応温度は、通常、−30〜100°C
1好ましくは一10〜50°C1特に好ましくは一10
〜30°Cである。反応温度があまり低いと反応速度が
遅く目的化合物を良好に得ることが出来ず、逆にあまり
高いと副反応が起こり副生物量が増加するので好ましく
ない。なお、反応時間は反応条件及び反応方式により異
なるが、例えば、0.5〜5時間程度である。
1好ましくは一10〜50°C1特に好ましくは一10
〜30°Cである。反応温度があまり低いと反応速度が
遅く目的化合物を良好に得ることが出来ず、逆にあまり
高いと副反応が起こり副生物量が増加するので好ましく
ない。なお、反応時間は反応条件及び反応方式により異
なるが、例えば、0.5〜5時間程度である。
本発明の反応を実施するには、通常、塩基を含有する有
機溶媒を敷液とし、これを所、定温度に維持しながら、
撹拌下、ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルとベン
ズアルデヒド誘導体とを供給する方法が最も高収率で目
的とするヒドロキシスチルベン類を得ることができるの
で望ましい。この場合、ヒドロキシベンジルホスホン酸
エステルとベンズアルデヒド誘導体は各々別々に、又は
、混合して一緒に供給してもよく、また、場合により有
機溶媒で希釈して供給することもできる。
機溶媒を敷液とし、これを所、定温度に維持しながら、
撹拌下、ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルとベン
ズアルデヒド誘導体とを供給する方法が最も高収率で目
的とするヒドロキシスチルベン類を得ることができるの
で望ましい。この場合、ヒドロキシベンジルホスホン酸
エステルとベンズアルデヒド誘導体は各々別々に、又は
、混合して一緒に供給してもよく、また、場合により有
機溶媒で希釈して供給することもできる。
これら原料の供給速度は反応に伴う発熱を除熱し得れば
速やかに添加しても差支えない。また、反応時間は、通
常、0.3〜10時間望ましくは0.5〜5時間である
。
速やかに添加しても差支えない。また、反応時間は、通
常、0.3〜10時間望ましくは0.5〜5時間である
。
反応後の混合物は、まず、炭酸アルカリ水溶液で処理し
て酸性成分を抽出除去した後、有機相をカセイアルカリ
で処理して生成したヒドロキシスチルベン類を水相に抽
出し、次いで、この水相を酸析して目的物を得る。
て酸性成分を抽出除去した後、有機相をカセイアルカリ
で処理して生成したヒドロキシスチルベン類を水相に抽
出し、次いで、この水相を酸析して目的物を得る。
[実施例]
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではい。
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではい。
実施例1
(ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルの調製)撹拌
機及び温度調節機を備えたガラス製100m1反応器に
、0−ヒドロキシベンジルアルコール12.2g及び溶
媒としてキシレン25m1を仕込み、これを80°Cの
温度に調節しながら、撹拌下、亜リン酸トノエチル19
.94gを供給速度0.3g / minで連続的に滴
下し、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行
った。
機及び温度調節機を備えたガラス製100m1反応器に
、0−ヒドロキシベンジルアルコール12.2g及び溶
媒としてキシレン25m1を仕込み、これを80°Cの
温度に調節しながら、撹拌下、亜リン酸トノエチル19
.94gを供給速度0.3g / minで連続的に滴
下し、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行
った。
次いで、反応後の混合物に対し、減圧で80°C120
C120Oにて上記反応中生成したエタノールを留出さ
せ、その後さらに同温度、50mmHgにて溶媒のキシ
レン、20mmHgにて過剰の亜リン酸トリエチルを留
去して、21.9g (98%)の0−ヒドロキシベン
ジルホスホン酸エチルエステルを得た。
C120Oにて上記反応中生成したエタノールを留出さ
せ、その後さらに同温度、50mmHgにて溶媒のキシ
レン、20mmHgにて過剰の亜リン酸トリエチルを留
去して、21.9g (98%)の0−ヒドロキシベン
ジルホスホン酸エチルエステルを得た。
(ヒドロキシスチルベン類の合成)
撹拌機及び温度調節機を備えたガラス製100m1反応
器に、カリウムt−ブトキサイド14.7g及び溶媒と
してテトラヒドロフラン40m1を仕込み、これを30
°Cの温度に調節しながら、撹拌下、上記調製例で得た
0−ヒドロキシベンジルホスホン酸エステル9.76
gとm−メトキシベンズアルデヒド5.44gの混合物
を供給速度0.25 g / minで連続的に滴下し
、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行なっ
た。
器に、カリウムt−ブトキサイド14.7g及び溶媒と
してテトラヒドロフラン40m1を仕込み、これを30
°Cの温度に調節しながら、撹拌下、上記調製例で得た
0−ヒドロキシベンジルホスホン酸エステル9.76
gとm−メトキシベンズアルデヒド5.44gの混合物
を供給速度0.25 g / minで連続的に滴下し
、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行なっ
た。
反応混合物に水100m1、トルエン100m1を加え
る。さらに2N塩酸62m1を加え水層を酸性化し、生
成したヒドロキシスチルベン誘導体をトルエン層に抽出
した。このトルエン抽出層を炭酸アルカリ水溶液で洗浄
し、強酸成分を除去し、水100m1で2回洗浄した後
、溶媒を減圧留去し、6.48 g (収率ニア1%)
の2−ヒドロキシ−3−メトキシスチルベンを得た。
る。さらに2N塩酸62m1を加え水層を酸性化し、生
成したヒドロキシスチルベン誘導体をトルエン層に抽出
した。このトルエン抽出層を炭酸アルカリ水溶液で洗浄
し、強酸成分を除去し、水100m1で2回洗浄した後
、溶媒を減圧留去し、6.48 g (収率ニア1%)
の2−ヒドロキシ−3−メトキシスチルベンを得た。
(生成物の同定確認)
上記で得られた2−ヒドロキシ−3′−メトキシスチル
ベンは、5ynthesis、 9,712−714
(1979)に記載の方法に従って、サリチルアルデヒ
ドメトキシメチルエーテル及びm−メトキシベンジルホ
スホン酸から合成した標品と、融点及び分析値(LC,
NMR,UV及びMS)が一致した。
ベンは、5ynthesis、 9,712−714
(1979)に記載の方法に従って、サリチルアルデヒ
ドメトキシメチルエーテル及びm−メトキシベンジルホ
スホン酸から合成した標品と、融点及び分析値(LC,
NMR,UV及びMS)が一致した。
実施例2
実施例1の方法において、m−メトキシベンズアルデヒ
ドの代りに、ベンズアルデヒド4.24 gを用い、同
様の操作で反応及び後処理を行なった。生成物として2
−ヒドロキシスチルベン5.86g(収率ニア4.6%
、m、 p、 144.5−145°C)を得た。これ
は、Ann 。
ドの代りに、ベンズアルデヒド4.24 gを用い、同
様の操作で反応及び後処理を行なった。生成物として2
−ヒドロキシスチルベン5.86g(収率ニア4.6%
、m、 p、 144.5−145°C)を得た。これ
は、Ann 。
433 、241 (1923)に記載の方法で合成し
た標品と融点及び分析値が一致した。
た標品と融点及び分析値が一致した。
実施例3
実施例1の方法において、m−メトキシベンズアルデヒ
ドの代りに、サリチルアルデヒド4.88 gを用い、
同様に反応及び後処理を行なった。生成物は2,2′−
ジヒドロキシスチルベン3.22 g (収率:38%
、m、 p、 94−95°C)であった。
ドの代りに、サリチルアルデヒド4.88 gを用い、
同様に反応及び後処理を行なった。生成物は2,2′−
ジヒドロキシスチルベン3.22 g (収率:38%
、m、 p、 94−95°C)であった。
これは、Ber 、 55 、2,664 (1922
)に記載の方法で合成した標品と、融点及び分析値が良
く一致した。
)に記載の方法で合成した標品と、融点及び分析値が良
く一致した。
実施例4
p−アセトキシベンジルクロライドと亜リン酸トノエチ
ルエステルを反応させて、 ヒドロキシベンジルホス
ホン酸エチルエステルを合成した。
ルエステルを反応させて、 ヒドロキシベンジルホス
ホン酸エチルエステルを合成した。
実施例1と同じ方法でp−ヒドロキシベンジルホスホン
酸エチル9.76 gとベンズアルデヒド4.24 g
を用いて反応及び後処理を行なった。
酸エチル9.76 gとベンズアルデヒド4.24 g
を用いて反応及び後処理を行なった。
生成物は4−ヒドロキシスチルベン5.45g(収率ニ
ア0%、m、 p、 188−189°C)で得た。
ア0%、m、 p、 188−189°C)で得た。
これは、J、 Chem、 Soc、 101 、60
5 (1912)に記載の方法で合成した標品と融点及
び分析値が一致した。
5 (1912)に記載の方法で合成した標品と融点及
び分析値が一致した。
実施例5〜7
実施例1において、使用する塩基又は溶媒の種類を変え
、他は同様にして反応を行ない、第1表の結混合物から
の目的化合物の回収も容易に行うことができる。
、他は同様にして反応を行ない、第1表の結混合物から
の目的化合物の回収も容易に行うことができる。
Claims (1)
- (1)ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルとベンズ
アルデヒド誘導体とを、塩基の存在下、非プロトン性有
機溶媒中で反応させることを特徴とするヒドロキシスチ
ルベン類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233997A JPH04112845A (ja) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | ヒドロキシスチルベン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233997A JPH04112845A (ja) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | ヒドロキシスチルベン類の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04112845A true JPH04112845A (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=16963936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2233997A Pending JPH04112845A (ja) | 1990-09-04 | 1990-09-04 | ヒドロキシスチルベン類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04112845A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2711481A1 (fr) * | 1993-10-25 | 1995-05-05 | Kioritz Corp | Hydroxystilbènes chlorés utilisés dans des nématicides, leur procédé de préparation et nouveaux dichlorohydroxystilbènes. |
| EP0739877A3 (en) * | 1995-04-27 | 1997-03-12 | Sumitomo Chemical Co | Epoxy resin, resin composition and resin-encapsulated semiconductor device |
| JP2014516973A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-07-17 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | ハロゲン非含有着火耐性ポリマーの製造に有用なリン含有化合物 |
| US20150126690A1 (en) * | 2004-05-28 | 2015-05-07 | Dow Global Technologies Llc | Phosphorus-containing compounds useful for making halogen-free, ignition-resistant polymers |
-
1990
- 1990-09-04 JP JP2233997A patent/JPH04112845A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2711481A1 (fr) * | 1993-10-25 | 1995-05-05 | Kioritz Corp | Hydroxystilbènes chlorés utilisés dans des nématicides, leur procédé de préparation et nouveaux dichlorohydroxystilbènes. |
| EP0739877A3 (en) * | 1995-04-27 | 1997-03-12 | Sumitomo Chemical Co | Epoxy resin, resin composition and resin-encapsulated semiconductor device |
| US20150126690A1 (en) * | 2004-05-28 | 2015-05-07 | Dow Global Technologies Llc | Phosphorus-containing compounds useful for making halogen-free, ignition-resistant polymers |
| JP2014516973A (ja) * | 2011-05-25 | 2014-07-17 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | ハロゲン非含有着火耐性ポリマーの製造に有用なリン含有化合物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PT93674A (pt) | Processo para a preparacao de cromanos substituidos para o tratamento da asma, artrite e doencas relacionadas | |
| US6774267B2 (en) | Phenolic compounds derived from dialkoxyethanals, their preparation process and their application | |
| JPH05112586A (ja) | N−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法 | |
| EP0192849B1 (en) | Process for preparing optically active 2-(4-hydroxyphenoxy)propionic acid compounds | |
| JPS6261595B2 (ja) | ||
| US6147242A (en) | Method of producing silylalkylthiols | |
| JPH04112845A (ja) | ヒドロキシスチルベン類の製法 | |
| HU194861B (en) | Process for production of derivatives of 2-/2-tienil/and 2-/3-tienil/-ethil-amin in form of acid-additioned salts | |
| JPH0616600A (ja) | フェノキシエチルアミン類の製造方法 | |
| JP3795970B2 (ja) | α,β−不飽和アルデヒドの製造方法 | |
| JP4643842B2 (ja) | 3,5−ビスアルキルフェノールの製造法 | |
| JPH09143139A (ja) | シアノフルオロフェノ−ルの製造方法 | |
| JP2586949B2 (ja) | p―又はm―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 | |
| JP2546067B2 (ja) | メタンジホスホン酸化合物の製造方法 | |
| JP4667589B2 (ja) | 2,4−ジヒドロキシピリジンの製造方法 | |
| KR20110097058A (ko) | 새로운 중간체를 이용하는 피타바스타틴 헤미칼슘의 신규한 제조방법 | |
| JPH05230026A (ja) | 2−クロロ−5−メチルピリジン誘導体の製造方法 | |
| KR100976749B1 (ko) | 글리시딜 에테르의 제조 방법 | |
| WO2023073080A1 (en) | Process for preparing acyl derivatives | |
| HU190939B (en) | Process for preparing cyanohydrines | |
| JP3569877B2 (ja) | m−置換−α−ヒドロキシメチルスチレン誘導体の製造法および3−クロロ−α−ブロモスチレン | |
| JPH0610153B2 (ja) | 光学活性2−(4−ヒドロキシフエノキシ)プロピオン酸の製造方法 | |
| HU207984B (en) | Process for producing n-/n-propyl/-n-/2-phenoxy-ethyl/-amine | |
| EP0403929B1 (en) | A method of preparing phenoxy ethers for use as agrochemical intermediates | |
| HU199485B (en) | Process for production of derivatives of /aril/-/dimethil/-/3-(4-fluor-3-ariloxi-phenil)-prophil/-silane |