JPH04112845A - ヒドロキシスチルベン類の製法 - Google Patents

ヒドロキシスチルベン類の製法

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JPH04112845A
JPH04112845A JP2233997A JP23399790A JPH04112845A JP H04112845 A JPH04112845 A JP H04112845A JP 2233997 A JP2233997 A JP 2233997A JP 23399790 A JP23399790 A JP 23399790A JP H04112845 A JPH04112845 A JP H04112845A
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JP
Japan
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reaction
hydroxystilbenes
acid ester
hydroxybenzylphosphonic acid
usually
Prior art date
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Pending
Application number
JP2233997A
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English (en)
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Yoshiyuki Takeda
竹田 義行
Osamu Kawashima
川嶋 修
Yoshiya Ikeda
池田 芳哉
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はヒドロキシスチルベン類の製法に関するもので
あり、詳しくは、新規反応による副生物の少ない工業的
に有利なヒドロキシスチルベン類の製法に関するもので
ある。
[従来の技術とその問題点1 ヒドロキシスチルベン類は、例えば、医薬中間体、感光
性ポリマー用原料として有用な上、それ自体、抗菌剤、
農薬安定剤及び蛍光増感剤などにも利用されている。従
来、ヒドロキシスチルベン類の製造法としては、例えば
、次の合成ルートが知られている。
しかしながら、上記■及び■の反応の場合、原料となる
ベンズアルデヒド誘導体のヒドロキシ基をアルキルエー
テルとして保護した後、反応を行ない、次いで、反応後
にこれを加水分解しヒドロキシ基を生成させる必要があ
るので、全体の反応工程が長くなる上、前記加水分解時
における副反応が著しく、高収率で目的化合物を得るこ
とができない。また、上記■の反応の場合、ヒドロキシ
ベンズアルデヒド同志又はベンズアルデヒド同志のベン
ゾイン縮合も併発するが、この副生物と目的化合物との
分離操作は極めて難しく、容易に高純度品を回収するこ
とはできない。更に、上記■の反応の場合には、ヒドロ
キシ基の保護が不要で、しかも、目的化合物の選択性も
良好であるが、原料として高価なトリフェニルホスフィ
ンを用いる必要があり、また、反応により副生ずるトリ
フェニルホスフィンオキサイドと目的化合物との分離に
当たっては、多段抽出法などの複雑な工程を要する。
[発明の課題と解決手段] 本発明者は上記実状に鑑み、副生物の生成が少なく、し
かも、目的生成物の回収が容易なヒドロキシスチルベン
類の合成法について種々検討を行った結果、ヒドロキシ
ベンジルホスホン酸エステルとベンズアルデヒドとを原
料としてヒドロキシスチルベン類を合成する場合、高収
率で目的化合物が得られる上、反応混合物からの目的化
合物の回収も簡単にできることを見い出した。
すなわち、本発明の要旨は、ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸エステルとベンズアルデヒド誘導体とを、塩基の存
在下、非プロトン性有機溶媒中で反応させることを特徴
とするヒドロキシスチルベン類の製法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の原料となる、ヒドロキシベンジルホスホン酸エ
ステルとしては、通常、 下記−数式[1] (式中、R1は低級アルキル基を表わし、R2及びR3
は水素原子、低級アルキル基、低級アルキル基又はハロ
ゲン原子を表わす)で示される化合物であり、具体的に
は例えば、0−もしくはp−ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸エステル、3−ヒドロキシ−4−メトキシベンジル
ホスホン酸エステル、3−メトキシ−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸エステル、2−ヒドロキシ−3−メチ
ル−5−クロロベンジルホスホン酸エステルなどが挙げ
られる。
このヒドロキシベンジルホスホン酸エステルは、通常、
そのヒドロキシル基をアセチル基またはアルコキシカル
ボニル基で保護したヒドロキシベンジルクロリド類と亜
リン酸エステルとを反応させ、その後保護基を脱離させ
る方法(ツーカーケミカル、米国特許3,983,17
8号公報)または、0−ヒドロキシ−ベンジルアルコー
ル類と亜リン酸エステルとを直接反応させる方法(J 
、A 、Miles et alJ、O,C,、47,
1677(1982) )等により、容易に得ることが
できる。
一方、ベンズアルデヒド誘導体としては、通常、下記−
数式(II ) (式中、R4及びR6は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わす)で示される
化合物であり、例えば、ベンズアルデヒド、〇−もしく
はp−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−メトキシベン
ズアルデヒド、0−ブロモベンズアルデヒド、3−メト
キシ−4−ヒドロキシベンズアルデヒドなどが挙げられ
る。
なお、前示一般式(IIのヒドロキシベンジルホスホン
酸エステルと前示一般式(II)のベンズアルデヒド誘
導体から合成されるヒドロキシスチルベン類は下記−数
式[■旧 (式中、R2−R5は前記と同じ意味を表わす)で示さ
れる化合物となる。
ベンズアルデヒド誘導体に対するヒドロキシベンジルホ
スホン酸エステルの使用量は、通常、0.7〜1.5モ
ル倍、好ましくは0.9〜1.1モル倍である。
本発明の反応は塩基の存在下で実施されるが、塩基とし
ては、通常、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ又
はカリウムも一ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド
、ナトリウムメトキサイドなどのアルカリアルコラード
などが挙げられるが、収率から考えると、塩基強度の高
いカリウムt−ブトキサイドが最も好ましい。この塩基
の使用量は、通常、ヒドロキシベンジルホスホン酸エス
テルに対して、1.5〜4.5モル倍、好ましくは2.
5〜3.5モル倍である。本発明の反応では、この塩基
の作用により、まず、水酸基がフェルレート化され、つ
いでベンジル位の活性化が行われるので、塩基の使用量
があまり少ないとベンジル位の活性化が不十分となり収
率が低下し、また、あまり多すぎても効果に変わりはな
いので経済的ではない。
本発明で使用する非プロトン性有機溶媒とじては活性水
素を持たず塩基に対して不活性な溶媒であれば特に限定
されないが、通常、トルエン、テトラリンなどの炭化水
素、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミドなどのアルキルアミド
類等が望ましい。有機溶媒の使用量は通常、全反応原料
に対して、0.5〜50重量倍、好ましくは1〜30重
量倍程度である。
本発明における反応温度は、通常、−30〜100°C
1好ましくは一10〜50°C1特に好ましくは一10
〜30°Cである。反応温度があまり低いと反応速度が
遅く目的化合物を良好に得ることが出来ず、逆にあまり
高いと副反応が起こり副生物量が増加するので好ましく
ない。なお、反応時間は反応条件及び反応方式により異
なるが、例えば、0.5〜5時間程度である。
本発明の反応を実施するには、通常、塩基を含有する有
機溶媒を敷液とし、これを所、定温度に維持しながら、
撹拌下、ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルとベン
ズアルデヒド誘導体とを供給する方法が最も高収率で目
的とするヒドロキシスチルベン類を得ることができるの
で望ましい。この場合、ヒドロキシベンジルホスホン酸
エステルとベンズアルデヒド誘導体は各々別々に、又は
、混合して一緒に供給してもよく、また、場合により有
機溶媒で希釈して供給することもできる。
これら原料の供給速度は反応に伴う発熱を除熱し得れば
速やかに添加しても差支えない。また、反応時間は、通
常、0.3〜10時間望ましくは0.5〜5時間である
反応後の混合物は、まず、炭酸アルカリ水溶液で処理し
て酸性成分を抽出除去した後、有機相をカセイアルカリ
で処理して生成したヒドロキシスチルベン類を水相に抽
出し、次いで、この水相を酸析して目的物を得る。
[実施例] 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではい。
実施例1 (ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルの調製)撹拌
機及び温度調節機を備えたガラス製100m1反応器に
、0−ヒドロキシベンジルアルコール12.2g及び溶
媒としてキシレン25m1を仕込み、これを80°Cの
温度に調節しながら、撹拌下、亜リン酸トノエチル19
.94gを供給速度0.3g / minで連続的に滴
下し、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行
った。
次いで、反応後の混合物に対し、減圧で80°C120
C120Oにて上記反応中生成したエタノールを留出さ
せ、その後さらに同温度、50mmHgにて溶媒のキシ
レン、20mmHgにて過剰の亜リン酸トリエチルを留
去して、21.9g (98%)の0−ヒドロキシベン
ジルホスホン酸エチルエステルを得た。
(ヒドロキシスチルベン類の合成) 撹拌機及び温度調節機を備えたガラス製100m1反応
器に、カリウムt−ブトキサイド14.7g及び溶媒と
してテトラヒドロフラン40m1を仕込み、これを30
°Cの温度に調節しながら、撹拌下、上記調製例で得た
0−ヒドロキシベンジルホスホン酸エステル9.76 
gとm−メトキシベンズアルデヒド5.44gの混合物
を供給速度0.25 g / minで連続的に滴下し
、次いで、同温度で120分間、引き続き反応を行なっ
た。
反応混合物に水100m1、トルエン100m1を加え
る。さらに2N塩酸62m1を加え水層を酸性化し、生
成したヒドロキシスチルベン誘導体をトルエン層に抽出
した。このトルエン抽出層を炭酸アルカリ水溶液で洗浄
し、強酸成分を除去し、水100m1で2回洗浄した後
、溶媒を減圧留去し、6.48 g (収率ニア1%)
の2−ヒドロキシ−3−メトキシスチルベンを得た。
(生成物の同定確認) 上記で得られた2−ヒドロキシ−3′−メトキシスチル
ベンは、5ynthesis、 9,712−714 
(1979)に記載の方法に従って、サリチルアルデヒ
ドメトキシメチルエーテル及びm−メトキシベンジルホ
スホン酸から合成した標品と、融点及び分析値(LC,
NMR,UV及びMS)が一致した。
実施例2 実施例1の方法において、m−メトキシベンズアルデヒ
ドの代りに、ベンズアルデヒド4.24 gを用い、同
様の操作で反応及び後処理を行なった。生成物として2
−ヒドロキシスチルベン5.86g(収率ニア4.6%
、m、 p、 144.5−145°C)を得た。これ
は、Ann 。
433 、241 (1923)に記載の方法で合成し
た標品と融点及び分析値が一致した。
実施例3 実施例1の方法において、m−メトキシベンズアルデヒ
ドの代りに、サリチルアルデヒド4.88 gを用い、
同様に反応及び後処理を行なった。生成物は2,2′−
ジヒドロキシスチルベン3.22 g (収率:38%
、m、 p、 94−95°C)であった。
これは、Ber 、 55 、2,664 (1922
)に記載の方法で合成した標品と、融点及び分析値が良
く一致した。
実施例4 p−アセトキシベンジルクロライドと亜リン酸トノエチ
ルエステルを反応させて、  ヒドロキシベンジルホス
ホン酸エチルエステルを合成した。
実施例1と同じ方法でp−ヒドロキシベンジルホスホン
酸エチル9.76 gとベンズアルデヒド4.24 g
を用いて反応及び後処理を行なった。
生成物は4−ヒドロキシスチルベン5.45g(収率ニ
ア0%、m、 p、 188−189°C)で得た。
これは、J、 Chem、 Soc、 101 、60
5 (1912)に記載の方法で合成した標品と融点及
び分析値が一致した。
実施例5〜7 実施例1において、使用する塩基又は溶媒の種類を変え
、他は同様にして反応を行ない、第1表の結混合物から
の目的化合物の回収も容易に行うことができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ヒドロキシベンジルホスホン酸エステルとベンズ
    アルデヒド誘導体とを、塩基の存在下、非プロトン性有
    機溶媒中で反応させることを特徴とするヒドロキシスチ
    ルベン類の製法。
JP2233997A 1990-09-04 1990-09-04 ヒドロキシスチルベン類の製法 Pending JPH04112845A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2711481A1 (fr) * 1993-10-25 1995-05-05 Kioritz Corp Hydroxystilbènes chlorés utilisés dans des nématicides, leur procédé de préparation et nouveaux dichlorohydroxystilbènes.
EP0739877A3 (en) * 1995-04-27 1997-03-12 Sumitomo Chemical Co Epoxy resin, resin composition and resin-encapsulated semiconductor device
JP2014516973A (ja) * 2011-05-25 2014-07-17 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ハロゲン非含有着火耐性ポリマーの製造に有用なリン含有化合物
US20150126690A1 (en) * 2004-05-28 2015-05-07 Dow Global Technologies Llc Phosphorus-containing compounds useful for making halogen-free, ignition-resistant polymers

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2711481A1 (fr) * 1993-10-25 1995-05-05 Kioritz Corp Hydroxystilbènes chlorés utilisés dans des nématicides, leur procédé de préparation et nouveaux dichlorohydroxystilbènes.
EP0739877A3 (en) * 1995-04-27 1997-03-12 Sumitomo Chemical Co Epoxy resin, resin composition and resin-encapsulated semiconductor device
US20150126690A1 (en) * 2004-05-28 2015-05-07 Dow Global Technologies Llc Phosphorus-containing compounds useful for making halogen-free, ignition-resistant polymers
JP2014516973A (ja) * 2011-05-25 2014-07-17 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ハロゲン非含有着火耐性ポリマーの製造に有用なリン含有化合物

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