JPH0411539B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は一般式 （式中、R¹は置換されていてもよいアリール基
を表わし、R⁴は水素原子又は水酸基のアセター
ル型保護基を表わし、R²¹はR⁴が水素原子を表わ
す場合に低級アルカノイル基を表わし、R⁴が水
酸基のアセタール型保護基を表わす場合に水素原
子又は低級アルカノイル基を表わす） で示されるスルホン及びその製造方法に関する。 本発明によつて提供される一般式（）で示さ
れるスルホンは後述するように医薬、飼料添加剤
として使用されているビタミンＡ及びそのアセテ
ート、パルミテートに代表されるカルボン酸エス
テルの合成中間体として有用である。 〔従来の技術〕 従来、ビタミンＡ又はそのカルボン酸エステル
は次に示すような方法により製造されることが知
られている。 〔式中、Acはアセチル基を表わす；Helvetica
Chimica Acta，30，1911（1947）参照〕 〔式中、Phはフエニル基を表わし、Ｘはハロゲ
ン原子を表わし、Acはアセチル基を表わす；
Chemie Ingeniuor Technik，45，646（1973）参
照〕 〔式中、Ｒはアリール基を表わし、Ｍはナトリウ
ム又はリチウムを表わし、Acはアセチル基を表
わす；Helvetica Chimica Acta，59，Fasc.2，
387（1976）参照〕 〔式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表わし、
Arはアリール基を表わし、Buはブチル基を表わ
す；J.Org.Chem，41，3287（1976）参照〕 また、ビタミンＡ酸メチルの製造方法として、
最近、本発明者らとその共同研究者らによつて下
記のような方法が提案されている。 〔式中、Ph、Bu、ｐ−Ts、Ｒ及びEtはそれぞれ
フエニル基、ブチル基、トシル基、テトラヒドロ
ピラン−２−イル基及びエチル基を表わし、
THFはテトラヒドロフランを意味する；J.Am.
Chem.Soc.，106，3670（1984）参照〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記従来のビタミンＡ又はそのカルボン酸エス
テルの製造方（）〜（）はいずれもβ−イオ
ノンを出発原料としている。このβ−イオノンは
プソイドイオノンを濃硫酸を大量に用いて閉環反
応させることにより工業的に製造されているが、
収率がそれほど高くないこと、副生するα−イオ
ノンなどとの蒸留分離の困難さなどから必ずしも
安価に入手できる工業原料ではない。 また、上記（）のビタミンＡ酸メチルの製造
方法は、全トランスに立体規制された７−ホルミ
ル−３−メチル−２，６−オクタジエンカルボン
酸メチルを使用するにもかかわらず、最終的には
全トランス体と13−シス体との１対１の混合物で
あるビタミンＡ酸メチルを与える。従つて、この
方法により得られるビタミンＡ酸メチルを常法に
より還元したとしても立体規制されたビタミンＡ
は得られない。 しかして、本発明の１つの目的は安価にかつ容
易に入手できる工業原料から好収率でかつ容易に
製造でき、しかもビタミンＡ又はそのカルボン酸
エステルに高収率でかつ容易に誘導される新規な
化合物を提供するにある。本発明の他の１つの目
的は立体規制されたビタミンＡ又はそのカルボン
酸エステルを製造するための合成中間体として有
用な新規な化合物を提供することにある。また、
本発明のもう１つの目的はその新規な化合物を製
造する方法を提供するにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、上記の目的は、前記一般式
（）で示されるスルホンを提供することによつ
て達成され、また一般式 （式中、R¹は前記定義のとおりである）で示さ
れる化合物と一般式 （式中、R²は低級アルカノイル基を表わす）で
示される化合物とを塩基の存在下に反応させるこ
とにより一般式 （式中、R¹及びR²は前記定義のとおりである）
で示される化合物を得、ついで必要に応じて該一
般式（−１）で示される化合物に水酸基のアセ
タール型保護基を導入し、さらに必要に応じて生
成する化合物を非酸性条件下に加溶媒分解せしめ
ることを特徴とする一般式（）で示されるスル
ホンの製造方法を提供することによつて達成され
る。 上記の一般式におけるR¹、R²、R²¹及びR⁴を詳
しく説明する。R¹は置換されていてもよいアリ
ール基を表わし、ここで置換基としては、例えば
メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、
イソブチル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、tert−
ブチルなどの低級アルキル基；メトキシ、エトキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−プロポキシ、イソブト
キシ、ｎ−ブトキシ、tert−ブトキシなどの低級
アルコキシ基；塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲ
ン原子などが挙げられる。また、置換基はオルト
位、メタ位又はパラ位のいずれの位置にあつても
よく、１個又は２個以上の複数個であつてもよ
い。置換されていてもよいアリール基の具体例に
は、フエニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、
ｐ−トリル基、ｐ−エチルフエニル基、ｐ−ｎ−
プロピルフエニル基、ｐ−イソプロピルフエニル
基、ｐ−ｎ−ブチルフエニル基、２，４−ジメチ
ルフエニル基、ｐ−メトキシフエニル基、２，４
−ジメトキシフエニル基、ｐ−クロルフエニル
基、ｐ−プロムフエニル基などが挙げられる。こ
れらのうち、R¹として特に好適なものはフエニ
ル基及びｐ−トリル基である。R²は低級アルカ
ノイル基を表わし、R⁴は水素原子又は水酸基の
アセタール型保護基を表わす。R²¹はR⁴が水素原
子を表わす場合に低級アルカノイル基を表わし、
R⁴が水酸基のアセタール型保護基を表わす場合
に水素原子又は低級アルカノイル基を表わす。
R²及びR²¹が表わす低級アルカノイル基として
は、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基などが挙げられる。また、水酸
基のアセタール型保護基は、化学反応に際して水
酸基の反応性を一時的に遮蔽するために使用され
る通常のアセタール型保護基が好ましく、具体的
にはテトラヒドロピラン−２−イル基、４−メチ
ルテトラヒドロピラン−２−イル基；テトラヒド
ロフラン−２−イル基；メトキシメチル、１−メ
トキシエチル、１−エトキシエチル、１−ｎ−プ
ロポキシエチル、１−ｎ−ブトキシエチルなどの
低級アルコキシアルキル基などである。なお、本
明細書中、「低級」なる語は、この語が付された
基又は化合物の炭素原子数は６個以下、好ましく
は４個以下であることを意味する。 本発明に従う一般式（）で示される化合物と
一般式（）で示される化合物との反応は塩基の
存在下に行なわれる。一般式（）で示される化
合物は一般に一般式（）で示される化合物１モ
ルに対して約0.1〜10モル、好ましくは約１〜２
モルの範囲内で使用される。反応系内に存在させ
うる塩基は該一般式（）で示される化合物にお
いて−SO₂R¹基が結合している炭素原子にカルボ
アニオンを発生させる能力のある塩基であり、例
えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムなど
の有機リチウム化合物；メチルマグネシウムクロ
ライド、メチルマグネシウムブロマイド、エチル
マグネシウムクロライド、エチルマグネシウムプ
ロマイドなどの有機マグネシウムハライド（グリ
ニヤール試薬）；水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水素
化物；リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリ
ウムアミドなどのアルカリ金属アミド；リチウム
メトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメ
トキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert−
ブトキシドなどのアルカリ金属の低級アルコキシ
ドなどである。これら塩基の使用量は臨界的では
なく、用いる塩基の種類などに応じて変えること
ができるが、一般的にいえば、一般式（）で示
される化合物１モルに対して約0.1〜１モル、好
ましくは0.5〜１モルの範囲内で変えることがで
きる。この反応は通常溶媒中で行なわれ、用いう
る溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタン、ベ
ンゼン、トルエンなどの脂肪族又は芳香族炭化水
素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの鎖状
又は環状エーテル；ジメチルホルムアミド、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルホスホリルトリアミドなどの中から用い
る塩基との組合わせにおいて適宜選ばれる。反応
は用いる塩基によつても異なるが、通常約−100
℃〜150℃、好ましくは約−80℃〜50℃の温度範
囲内で行なわれる。また反応はヘリウム、窒素、
アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行なうのが
有利である。反応時間は採用した塩基、溶媒、反
応温度などによつて変化するが、例えば塩基とし
てｎ−ブチルリチウムを使用し、テトラヒドロフ
ラン溶媒中で約−80℃〜−50℃の温度で反応を行
なう場合には約２〜６時間である。 反応混合液からの一般式（−１）で示される
化合物の分離回収は通常の方法により行なうこと
ができる。例えば、反応混合液を水、塩化アンモ
ニウム水溶液、希塩酸などに注いだのち、有機層
を分離し、その有機層を必要によりこれについて
水洗及び／又は無水硫酸ナトリウムでの乾燥及
び／又は溶媒の減圧下での留去を行なつたのち、
再結晶、クロマトグラフイーなどの精製手段に付
することにより一般式（−１）で示される化合
物を単離する。 一般式（−１）で示される化合物に水酸基の
アセタール型保護基を導入し、必要に応じて生成
する化合物を非酸性条件下に加溶媒分解せしめる
ことにより一般式 （式中、R¹は前記定義のとおりであり、R³は水
酸基のアセタール型保護基を表わし、R²¹は水素
原子又は低級アルカノイル基を表わす）で示され
る化合物が製造される。 一般式（−１）で示される化合物のR²¹が低
級アルカノイル基を表わす場合の一般式（−
２）で示される化合物への変換は、例えば、一般
式（−１）で示される化合物と３，４−ジヒド
ロ−2H−ピラン、４−メチル−３，４−ジヒド
ロ−2H−ピラン、２，３−ジヒドロフラン、低
級アルキルビニルエーテルなどのビニルエーテル
類とを酸性触媒の存在下に反応させるか、又は一
般式（−１）で示される化合物に五酸化リンな
どの存在下にメチラールを作用させることにより
行なわれる。一般式（−１）で示される化合物
とビニルエーテル類との反応は、必ずしも溶媒中
で行なうことを必要としないが、通常は塩化メチ
レン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
ベンゼンなどの溶媒中で行なうのが好ましい。酸
性触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン
酸若しくはそのピリジン塩、硫酸、塩酸などを使
用することができるが、ｐ−トルエンスルホン酸
若しくはそのピリジン塩を使用するのが好まし
い。この反応において、ビニルエーテル類として
３，４−ジヒドロ−2H−ピラン、４−メチル−
３，４−ジヒドロ−2H−ピラン又は２，３−ジ
ヒドロフランを用いる場合には、それぞれ一般式
（−２）においてR²¹が低級アルカノイル基で
ありかつR³がテトラヒドロピラン−２−イル基、
４−メチルテトラヒドロピラン−２−イル基又は
テトラヒドロフラン−２−イル基である化合物が
得られる。またビニルエーテル類としてメチルビ
ニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどの低
級アルキルビニルエーテルを用いる場合には、一
般式（−２）においてR²¹が低級アルカノイル
基でありかつR³が１−低級アルコキシエチル基
である化合物が得られる。他方、一般式（−
１）で示される化合物に五酸化リンなどの存在下
にメチラールを作用させることにより、一般式
（−２）においてR²¹が低級アルカノイル基で
ありかつR³がメトキシメチル基であり化合物が
得られる。 上記の各反応により得られたR²¹が低級アルカ
ノイル基を表わす場合の一般式（−２）で示さ
れる化合物の反応混合物からの分離回収は通常の
方法により行なうことができる。例えば、反応混
合物を水に注いだのち、ベンゼン、ジエチルエー
テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液を水洗し
て無水硫酸ナトリウムで乾燥する。ついで、抽出
液から低沸点物を減圧下に留去し、その残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに付すること
によりR²¹が低級アルカノイル基を表わす場合の
一般式（−２）で示される化合物を単離するこ
とができる。 このようにして得られるR²¹が低級アルカノイ
ル基を表わす場合の一般式（−２）で示される
化合物はそのまま後述のビタミンＡの合成反応に
付することができ、又は所望により該化合物を非
酸性条件下に加溶媒分解せしめ、生成するR²¹が
水素原子を表わす場合の一般式（−２）で示さ
れる化合物を後述のビタミンＡの合成反応に付す
ることもできる。非酸性条件下での加溶媒分解反
応は、例えばメタノール、エタノールなどのアル
コール類；又はこれらのアルコール類と水及び／
又はベンゼン、トルエンなどの炭化水素類との混
合物などの溶媒中で、好ましくはアルカリ金属の
水酸化物又は炭酸塩の存在下に行なわれる。アル
カリ金属の水酸化物又は炭酸塩としては、例え
ば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
リチウム、炭酸カリウムなどが使用される。アル
カリ金属の水酸化物又は炭酸塩の使用量はR²¹が
低級アルカノイル基を表わす場合の一般式（−
２）で示される化合物に対して約１〜２当量の範
囲内が好適である。溶媒の使用量はR²¹が低級ア
ルカノイル基を表わす場合の一般式（−２）で
示される化合物の濃度が約0.1〜10モル／とな
る程度の量であることが好ましい。溶媒としてア
ルコール類と水及び／又は炭化水素類との混合物
を使用する場合には、該水及び／又は炭化水素類
は反応系が相分離を起こさない程度に用いること
が好ましい。反応は約−10℃〜30℃の温度範囲内
で行なうのが適当である。この反応により得られ
るR²¹が水素原子を表わす場合の一般式（−
２）で示される化合物の反応混合物からの分離
は、通常の方法により行なうことができる。例え
ば、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、
希塩酸、希硫酸などを加えて残存するアルカリ金
属の水酸化物又は炭酸塩を中和し、必要に応じて
溶媒として用いたアルコール類を留去し、その残
渣に水を加えたのち、ベンゼン、塩化メチレン、
ジエチルエーテル、酢酸エチルなどで抽出し、抽
出液を水洗して無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
次いで、抽出液から必要に応じて低沸点物を減圧
下に留去し、その残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付することによりR²¹が水素原子
を表わす場合の一般式（−２）で示される化合
物を単離することができる。 上記一般式（−１）で示される化合物の製造
において出発原料として使用する一般式（）で
示される化合物はそれ自体既知の化合物であり
（特許第1168158号参照）、安価な工業原料である
リナロールから好収率でかつ容易に製造すること
ができる。例えば、一般式（）においてR¹が
フエニル基である化合物は次の方法により製造さ
れる。 すなわち、リナロールに塩化チオニルを作用さ
せることによりゲラニルクロライドを得、該ゲラ
ニルクロライドとフエニルスルフイン酸ナトリウ
ムとを反応させることによりゲラニルフエニルス
ルホンを得る。ゲラニルフエニルスルホンを酸触
媒、例えば硫酸と酢酸との混合酸の存在下に閉環
反応させることによりβ−シクロゲラニルフエニ
ルスルホンを得る。なお、閉環反応の際にβ−シ
クロゲラニルフエニルスルホンの異性体であるα
−シクロゲラニルフエニルスルホンが副生するこ
とがあるが、両者の生成混合物をヘキサンなどの
溶媒中で晶析することにより高純度のβ−シクロ
ゲラニルフエニルスルホンを得ることができる。
また、α−シクロゲラニルフエニルスルホンはこ
れを上記の閉環反応系にもどすことにより目的と
するβ−シクロゲラニルフエニルスルホンに変換
される。リナロールからのβ−シクロゲラニルフ
エニルスルホンの合計収率は通常約70〜90％であ
る。 またもう一方の出発原料である一般式（）で
示される化合物もリナロールから好収率でかつ容
易に製造することができる。例えば、一般式
（）においてR²がアセチル基である化合物は次
の方法により製造される。 すなわち、リナロールに無水酢酸を作用させる
ことにより、ゲラニルアセテートを得、該ゲラニ
ルアセテートを例えば、エタノール溶媒中で還流
下に二酸化セレンに作用させることにより目的と
する８−アセトキシ−２，６−ジメチル−２，６
−オクタジエナールを得る。リナロールからの８
−アセトキシ−２，６−ジメチル−２，６−オク
タジエナールの合成収率は通常約60〜80％であ
る。 上記の如くして製造される一般式（−１）で
示される化合物及び一般式（−２）で示される
化合物、すなわち一般式（）で示されるスルホ
ンは従来の文献に未載の新規な化合物である。一
般式（−１）で示される化合物のうち、R¹と
してはフエニル基又はｐ−トリル基であるもの
が、そしてR²としてはアセチル基であるものが
好適である。また一般式（−２）で示される化
合物のうち、R¹としてはフエニル基又はｐ−ト
リル基であるものが、そしてR²¹としては水素原
子又はアセチル基であるものが、さらにR³とし
てはメトキシメチル基、１−エトキシエチル基、
１−ｎ−ブトキシエチル基、テトラヒドロピラン
−２−イル基又は４−メチルテトラヒドロピラン
−２−イル基であるものが好適である。 一般式（−２）で示される化合物を塩基で処
理することにより式 で示されるビタミンＡが製造される。この処理に
用いられる塩基としては、例えばカリウムメトキ
シド、カリウムエトキシド、カリウムイソプロポ
キシド、カリウムｎ−プロポキシド、カリウムｎ
−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、水酸
化カリウムなどのカリウムの低級アルコキシド及
び水酸化物が挙げられる。かかる塩基の使用量は
臨界的ではなく、用いる塩基の種類などに応じて
広範囲にわたり変えることができるが、一般には
一般式（−２）で示される化合物１モルに対し
て約２〜30モル、好ましくは約２〜10モル、さら
に好ましくは約３〜６モルの範囲内とすることが
できる。この反応はヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの脂肪族又は
芳香族の炭化水素などの溶媒中で行なうのが好ま
しい。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、ま
た２種以上の混合溶媒として用いてもよい。溶媒
の使用量もまた臨界的ではないが、一般的には該
溶媒中における一般式（−２）で示される化合
物の濃度が約0.05〜１モル／、好ましくは約
0.1〜0.5モル／の範囲内となるような量で用い
るのが有利である。上記の処理の際の温度は用い
る塩基の種類などに応じて変えることができる
が、一般には約０〜100℃、好ましくは約20〜80
℃の範囲内の温度が適当である。また、この処理
は通常、ヘリウム、窒素、アルゴンなどの不活性
ガス雰囲気中で行なうのが好ましい。 上記の塩基での処理・反応により、一般式（
−２）で示される化合物からビタミンＡが高収率
で生成する。生成するビタミンＡの反応混合物か
らの分離回収はそれ自体既知の方法で行なうこと
ができる。例えば、反応混合物を水、塩化アンモ
ニウム水溶液などに加え、有機層を分離し、この
有機層について必要により水洗及び／又は無水硫
酸ナトリウムでの乾燥及び／又は溶媒の減圧下で
の留去を行なうことにより、ビタミンＡを分離す
ることができる。必要に応じてさらに、このよう
にして分離されたビタミンＡを再結晶などの精製
手段に付することにより高純度のビタミンＡを取
得することができる。 また上記の如くして得られるビタミンＡを通常
の方法によりアシル化することによりビタミンＡ
のカルボン酸エステルに誘導することができる。
このアシル化反応は上記のビタミンＡの生成反応
によつて得られた反応混合物から分離されたビタ
ミンＡを含有する有機層又は該有機層から前述の
如くして分離又はさらに精製されたビタミンＡに
好適には有機溶媒中で第３級アミンの存在下にア
シル化剤を作用させることにより行なわれる。ア
シル化剤としては、例えば、無水酢酸、塩化アセ
チル、塩化パルミトイルなどが使用される。アシ
ル化剤の使用量はビタミンＡに対して約１〜10当
量、特に１〜３当量の範囲内が好ましい。有機溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの
炭化水素類；塩化メチレン、１，２−ジクロルエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類；ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル
類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類な
どが使用され、これらの有機溶媒はビタミンＡの
濃度が約0.1〜５モル／となる程度の量を使用
することが好ましい。第３級アミンとしては、例
えば、トリエチルアミン、ピリジンなどが使用さ
れる。これらの第３級アミンはビタミンＡに対し
て約１〜10当量用いることが好ましいが、さらに
過剰量を用いることによつて該第３級アミンに有
機溶媒として役割を兼ねさせることもできる。該
アシル化反応は一般に約−10℃〜30℃の温度範囲
内で行なうのが好適である。反応終了後、反応混
合物から必要に応じて沈澱物を濾別したのち、該
反応混合物に希硫酸、水、飽和重曹水などを加
え、有機層を分離する。得られた有機層を、必要
により、適宜水洗、乾燥、溶媒留去などの前処理
を行なうことによりビタミンＡのカルボン酸エス
テルを分離することができる。必要に応じてさら
に、このものを再結晶などの精製手段に付するこ
とにより高純度のビタミンＡのカルボン酸エステ
ルを得ることができる。 以上述べた方法により一般式（−２）で示さ
れる化合物から誘導されるビタミンＡ及びそのカ
ルボン酸エステルの立体構造は、本発明の方法に
おいて原料として使用する一般式（）で示され
る化合物の立体構造に依存する。 （式中、R²は前記定義のとおりである） すなわち、一般式（）において２位及び６位
の炭素−炭素二重結合に基づく立体構造がともに
トランス(E)に規制されている化合物を使用する場
合には、全トランスに立体規制されたビタミン
Ａ、さらにはそのカルボン酸エステルが優先的に
得られ、また一般式（）において２−位の炭素
−炭素二重結合に基づく立体構造がトランス(E)に
規制され、６位のそれがシス（Ｚ）に規制されて
いる化合物を使用する場合には、13−位の炭素−
炭素二重結合に基づく立体構造がシスに規制され
たビタミンＡ、さらにはそのカルボン酸エステル
が優先的に得られる。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例により限定さ
れるものではない。 〔実施例〕 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例により限定さ
れるものではない。 実施例 １ 窒素ガスで置換した200ml容三つ口フラスコに
β−シクロゲラニルフエニルスルホン（１〜）
10.80ｇ（38.3ｍmol）及びトルエン100mlを入れ、
ついでエチルマグネシウムブロミドのジエチルエ
ーテル溶液（1.06mol／）24.2ml（25.6ｍmol）
を内温20〜25℃で滴下した。滴下終了後、内温40
〜45℃で３時間撹拌した。次に、内温が−40〜−
30℃となるように冷却し、この溶液に８−アセト
キシ−２，６−ジメチル−２(E)，６(E)−オクタジ
エン−１−アール（２〜−１）4.02ｇ（19.1ｍmol）
のトルエン10mlの溶液を滴下した。滴下終了後、
同温度にてさらに２時間激しく撹拌した。反応混
合物に10％塩酸水溶液を加え、トルエン層を分離
した。このトルエン層を水洗し、さらに飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗滌し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。このトルエン層からトルエンを留
去し、その残渣をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフイー（溶出液：ヘキサンと酢酸エチル
との容量比７対３の混合液）により精製し、無色
透明の油状物（３〜−１）8.46ｇを得た。このもの
は下記の機器分析データにより、１−アセトキシ
−８−ヒドロキシ−３，７−ジメチル−９−（２，
６，６−トリメチル−１−シクロヘキセン−１−
イル）−９−フエニルスルホニル−２(E)，６(E)−
ノナジエンのジアステレオマーの混合物であるこ
とを確認した。収率91％。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.61〜2.03（ｍ，28H）；2.87（br，1H）；3.95，
4.20（ｄ，合して1H）；4.50（ｄ，2H）；4.85，
4.97（ｄ，合して1H）；5.25，5.62（ｍ，合して
2H）；7.40〜8.03（ｍ，5H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：3500（OH），1735 （Ｃ＝Ｏ），1140（SO₂） FD−MASSｍ／ｅ：488（M⁺） 100ml容なす形フラスコに化合物（３〜−１）
2.67ｇ（5.5ｍmol）及びメチラール9.65ml（110
ｍmol）を入れ、撹拌して溶液とした。この溶液
に五酸化リン0.22ｇ（1.54ｍmol）を添加して室
温下で撹拌した。五酸化リン添加の２時間後及び
５時間後にそれぞれ五酸化リン0.21ｇを加えて24
時間反応させた。分液ロートに飽和重曹水を入
れ、この中に反応混合物の溶液部分を加えて分液
した。一方、その残渣にトルエンと飽和重曹水と
を加え、撹拌することによりタール分を溶解させ
た。得られた水層と有機層とを分液ロートに移し
て分液した。有機層を合し、飽和重曹水で洗滌
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸
マグネシウムを濾別したのち、40℃で溶媒を留去
することにより赤色の油状物を得た。この油状物
をシリカゲルクロマトグラフイー（展開液：酢酸
エチルとヘキサンとの容量比１対６〜１対４の混
合液）に付することにより、生成物2.68ｇを得
た。このものは下記の機器分析データにより、１
−アセトキシ−３，７−ジメチル−８−メトキシ
メトキシ−９−フエニルスルホニル−９−（２，
６，６−トリメチル−１−シクロヘキセン−１−
イル）−２(E)，６(E)−ノナジエン（４〜）であるこ
とを確認した。収率92％。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.69〜1.99（ｍ，28H）；3.16，3.35（ｓ，
3H）；3.96〜5.60（ｍ，8H）：7.38〜8.01（ｍ，
5H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：1730（Ｃ＝Ｏ），1140
（SO₂） FD−MASSｍ／ｅ：532（M⁺） 100ml容なす形フラスコに化合物（４〜）2.68ｇ
（5.04ｍmol）及びメタノール11mlを入れて溶液
としたのち、この溶液に、水酸化ナトリウム0.33
ｇを加えて室温下で1.5時間撹拌した。反応混合
液を分液ロートへ移し、これに大量の水及びトル
エンを加えて抽出した。トルエン抽出液を飽和塩
化アンモニウム水及び水で洗滌し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾
別したのち、40℃のトルエンを減圧下に留去し
て、赤色の油状物を得た。この油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（展開液：酢酸エチ
ルとヘキサンとの容量比１対４〜１対１の混合
液）に付することにより、生成物2.34ｇを得た。
このものは下記の機器分析データにより、１−ヒ
ドロキシ−３，７−ジメチル−８−メトキシメト
キシ−９−フエニルスルホニル−９−（２，６，
６−トリメチル−１−シクロヘキセン−１−イ
ル）−２(E)，６(E)−ノナジエン（５〜）であること
を確認した。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.68〜2.04（ｍ，26H）；3.15，3.36（ｓ，
3H）；3.95〜5.60（ｍ，8H）：7.40〜8.00（ｍ，
5H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：3500（OH），1140（SO₂） 参考例 １ 窒素ガス雰囲気下、50ml容褐色なす形フラスコ
に実施例１で得た化合物（５〜）0.5121ｇ（1.05ｍ
mol）及びトルエン５mlを入れ、撹拌して溶液と
した。この溶液にカリウムメトキシド0.21ｇ
（3.15ｍmol）を加え、室温で５分間、さらに40
℃で２時間撹拌した。反応混合物にヘキサン20ml
及び水15mlを加え、得られた混合液を分液ロート
に移して分液した。水槽をヘキサン15mlで抽出し
た。ヘキサン層を合し、水で２回洗滌したのち、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグ
ネシウムを濾別し、35℃で減圧下に溶媒を留去し
て、オレンジ色の油状物（６〜−１）を得た。この
もののIRスペクトルは市販のビタミンＡのそれ
と一致した。 窒素ガス雰囲気下、100ml容褐色なす形フラス
コに上記の油状物、ヘキサン４ml及びトリエチル
アミン1.1mlを入れ、氷水浴で冷却した。この混
合物に無水酢酸0.68mlを加え、冷却下に20分間、
さらに室温下で16時間撹拌した。反応混合物にヘ
キサン25mlを加え、氷水浴中で冷却したのち、こ
れに飽和重曹水10mlを加えた。15分間撹拌したの
ち、混合物を分液ロートに移し、これにヘキサン
15ml及び飽和重曹水10mlを加えて分液した。ヘキ
サン層を飽和重曹水で洗滌し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別し
たのち、溶媒を35℃で減圧下に留去して、オレン
ジ色の油状物0.3723ｇを得た。このものは高速液
体クロマトグラフイー分析（カラム：μ−ポラシ
ル、展開液：ヘキサンとイソプロピルエーテルと
の容量比９対１の混合液）の結果、ビタミンＡア
セテート（７〜−１）（全トランス体比率95％）を
0.2755ｇ含んでいた。化合物（５〜）からの合計収
率は80％であつた。 実施例 ２ アルゴンガスで置換した200ml容フラスコにβ
−シクロゲラニルフエニルスルホン（１〜）5.00ｇ
（18.0ｍmol）及びテトラヒドロフラン60mlを入
れ、−78℃に冷却したのち、ｎ−ブチルリチウム
のヘキサン溶液（1.5mol／）6.6ml（9.9ｍmol）
を滴下し、同温度で３時間撹拌した。次に、この
溶液中に８−アセトキシ−２，６−ジメチル−２
(E)，６(E)−オクタジエン−１−アール（２〜−１）
1.89ｇ（9.0ｍmol）のテトラヒドロフラン15mlの
溶液を−78℃で滴下し、同温度で２時間撹拌し、
さらに−50℃で２時間撹拌した。−78℃に冷却し
たのち、反応混合物に水を加え、ついで常温まで
昇温させた。得られた混合物をベンゼン100mlで
３回計300mlで抽出した。抽出液を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。この抽出液からベン
ゼンを留去し、その残渣をシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフイー（溶出液：ヘキサンと酢
酸エチルとの容量比５対１の混合液）により精製
し、無色透明の油状物（３〜−１）4.01ｇを得た。
このものは下記の機器分析データにより１−アセ
トキシ−８−ヒドロキシ−３，７−ジメチル−９
−（２，６，６−トリメチル−１−ジクロヘキセ
ン−１−イル）−９−フエニルスルホニル−２(E)，
６(E)−ノナジエンであることを確認した。収率93
％。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.62〜1.94（ｍ，28H）；3.73（br，1H）；3.81
（ｄ，1H），4.41（ｄ，2H），4.90（ｄ，1H），
5.21（ｍ，2H），7.38〜7.99（ｍ，5H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：3500（OH），1735 （Ｃ＝Ｏ），1140（SO₂） FD−MASSｍ／ｅ：488（M⁺） 100ml容フラスコに１−アセトキシ−３，７−
ジメチル−８−ヒドロキシ−９−フエニルスルホ
ニル−９−（２，６，６−トリメチル−１−シク
ロヘキセン−１−イル）−２(E)，６(E)−ノナジエ
ン（３〜−１）1.36ｇ（2.8ｍmol）、触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩及び塩化メチレン
15mlをとり、氷水で冷却した。この溶液中に３，
４−ジヒドロ−2H−ピラン0.73ml（8.4ｍmol）
を滴下し、氷冷下で３時間撹拌した。反応混合液
中に重曹水を注ぎ、塩化メチレンで抽出した。塩
化メチレン抽出液を水洗したのち、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した。抽出液から塩化メチレンを
エバポレーターで留去したのち、残つた油分をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイー（展開液：酢
酸エチルとｎ−ヘキサンとの１対５の混合液）に
かけ、１−アセトキシ−３，７−ジメチル−８−
（テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ−９−
フエニルスルホニル−９−（２，６，６−トリメ
チル−１−シクロヘキセン−１−イル）−２(E)，
６(E)−ノナジエン（８〜−１）を1.59ｇ得た。収率
99％。生成物の機器分析データを次に示す。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.62〜2.03（ｍ，34H）；3.23〜5.36（ｍ，
9H）；7.43〜8.15（ｍ，5H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：1745（Ｃ＝Ｏ），1150
（SO₂） FD−MASSｍ／ｅ：573（M⁺＋１），572（M⁺） 参考例 ２ 窒素ガス雰囲気下、100ml容褐色フラスコに実
施例２で得た化合物（８〜−１）1.59ｇ及びトルエ
ン15.9mlを入れ、撹拌して溶液とした。この溶液
に内温を27℃に保ちながらカリウムメトキシド
0.97ｇを加え、その温度で0.3時間、さらに内温
38℃で1.5時間撹拌した。反応混合物にヘキサン
60ml及び水45mlを加えて撹拌したのち、混合液を
分液ロートに移して分液した。水槽をヘキサン45
mlで抽出した。ヘキサン層を合し、水で２回洗滌
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無
水硫酸マグネシウムを濾別し、35℃の減圧下に溶
媒を留去し、オレンジ色の油状物（６〜−１）を得
た。 窒素ガス雰囲気下、100ml容褐色なす形フラス
コに上記の油状物、ヘキサン10.6ml及びトリエチ
ルアミン2.9mlを入れ、氷水浴で冷却した。この
混合物に無水酢酸1.8mlを加え、冷却下に20分間、
さらに室温下で16時間撹拌した。反応混合物にヘ
キサン70mlを加え、氷水浴中で冷却したのち、こ
れに飽和重曹水27mlを加えて15分間撹拌した。こ
の混合物を分液ロートに移し、これにヘキサン40
ml及び飽和重曹水27mlを加えて分液した。ヘキサ
ン層を飽和重曹水で洗滌し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別した
のち、溶媒を35℃で減圧下に留去して、オレンジ
色の油状物を得た。このものは高速液体クロマト
グラフイー分析（カラム：μ−ポラシル、展開
液：ヘキサンとイソプロピルエーテルとの容量比
９対１の混合液）の結果、ビタミンＡアセテート
（７〜−１）（全トランス体比率95％）を0.70ｇ含ん
でいた。化合物（８〜）からの合計収率は77％であ
つた。 参考例 ３ 窒素ガス雰囲気下、100ml容褐色なす形フラス
コに実施例１(E)で得た１−アセトキシ−３，７−
ジメチル−８−メトキシメトキシ−９−フエニル
スルホニル−９−（２，６，６−トリメチル−１
−シクロヘキセン−１−イル）−２(E)，６(E)−ノ
ナジエン（４〜）2.68ｇ及びシクロヘキサン80mlを
入れて撹拌して溶液とした。この溶液にカリウム
メトキシド3.53ｇを加え、内温39℃で1.8時間撹
拌した。反応混合物にヘキサン96ml及び水72mlを
加えて撹拌したのち、混合液を分液ロートに移し
た。水層をヘキサン96mlで抽出した。ヘキサン層
を合し、水で２回洗滌したのち、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別
し、35℃で減圧下に溶媒を留去して、オレンジ色
の油状物（６〜−１）を得た。 次に窒素ガス雰囲気下、300ml容褐色なす形フ
ラスコに上記の油状物、ヘキサン19.2ml及びトリ
エチルアミン5.3mlを入れ、氷水浴で冷却した。
この混合物に無水酢酸3.26mlを加え、冷却下に20
分間、さらに室温下で16時間撹拌した。反応混合
物にヘキサン120mlを加え、氷水浴中で冷却した
のち、これに飽和重曹水48mlを加えた。15分間撹
拌したのち、混合物を分液ロートに移し、これに
ヘキサン72ml及び重曹水48mlを加えて分液した。
ヘキサン層を飽和重曹水で洗滌し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾
別したのち、溶媒を35℃で減圧下に留去して、オ
レンジ色の油状物を得た。このものは高速液体ク
ロマトグラフイー分析（カラム：μ−ポラシル、
展開液：ヘキサンとイソプロピルエーテルとの容
量比９対１の混合液）の結果、ビタミンＡアセテ
ート（７〜−１）（全トランス体比率95％）を1.29
ｇ含んでいた。化合物（４〜）からの合計収率は78
％であつた。 実施例 ３ アルゴンガスで置換した200ml容３つ口フラス
コにβ−シクロゲラニル−ｐ−トリルスルホン
（９〜）7.01ｇ（24.0ｍmol）及びテトラヒドロフラ
ン70mlを入れ、−78℃に冷却したのち、ｎ−ブチ
ルリチウムのヘキサン溶液（1.5mol／）9.6ml
（14.4ｍmol）を滴下し、同温度で３時間撹拌し
た。次に、この溶液中に８−アセトキシ−２，６
−ジメチル−２(E)，６(E)−オクタジエン−１−ア
ール（２〜−１）2.52ｇ（12.0ｍmol）のテトラヒ
ドロフラン15mlの溶液を−78℃で滴下し、同温度
で３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、常温
まで昇温させた。得られた混合物をベンゼン50ml
で３回計150mlで抽出し、ベンゼン抽出液を水洗
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この抽出
液から溶媒を留去し、その残渣をシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフイー（溶出液：ヘキサ
ンと酢酸との容量比５対１〜３対１の混合液）に
より精製し、白色の固型物4.88ｇを得た。このも
のは下記の機器分析データにより、１−アセトキ
シ−８−ヒドロキシ−３，７−ジメチル−９−
（２，６，６−トリメチル−１−シクロヘキセン
−１−イル）−９−（ｐ−トリル）スルホニル−２
(E)，６(E)−ノナジエン（10〜）であることを確認し
た。収率81％。 NMR δ^CDCl3 _{(CH3)3SiOSi(CH3)3}： 0.61〜2.01（ｍ，28H），2.37（ｓ，3H），3.71
（br.，1H），3.94（ｄ，1H），4.49（ｄ，2H），
4.97（ｄ，1H），5.16（ｍ，2H），7.26（ｄ，2H），
7.86（ｄ，2H） IR（フイルム）ν（cm^-1）：3480（OH），1735 （Ｃ＝Ｏ），1140（SO₂） 100ml容なす形フラスコに化合物（10〜）1.00ｇ
（1.99ｍmol）、３，４−ジヒドロ−2H−ピラン
0.52ml、塩化メチレン10ml及び触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸を入れ、０℃で６時間撹拌した。
分液ロートに飽和重曹水を入れ、この中に反応混
合物の溶液部分を加えて分液した。水層を塩化メ
チレンで抽出した。塩化メチレン層を合し、水洗
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無
水硫酸マグネシウムを濾別したのち、塩化メチレ
ンをエバポレーターで留去して、粘稠な油分1.47
ｇを得た。この油分をシリカゲルクロマトグラフ
イー（展開液；酢酸エチルとヘキサンとの容量比
１対３の混合液）に付することにより、生成物
1.09ｇを得た。このものは下記のIRスペクトルに
より、１−アセトキシ−３，７−ジメチル−８−
（テトラヒドロピラン−２−イル）オキシ−９−
（ｐ−トリル）スルホニル−９−（２，６，６−ト
リメチル−１−シクロヘキセン−１−イル）−２
(E)，６(E)−ノナジエン（11〜）であることを確認し
た。収率93％。 IR（フイルム）ν（cm^-1）：2930，1740，1600，
1450，1380，1365，1300，1230，1140，1080，
1020，960，815 参考例 ４ 100ml容褐色なす形フラスコにカリウムメトキ
シド0.60ｇ（8.53ｍmol）及びトルエン25mlを入
れ、アルゴン雰囲気下としたのち、実施例３で得
た化合物（11〜）1.00ｇ（1.71ｍmol）を５mlのト
ルエンに溶かした溶液を室温下で加えた。室温で
30分間、さらに40℃で２時間撹拌した。反応混合
物を塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、ジエチルエ
ーテルで抽出した。抽出液を水洗し、さらに飽和
食塩水で洗滌したのち、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別したの
ち、ジエチルエーテル及びトルエンを留去して、
赤黄色の油分（６〜−１）0.76ｇを得た。 次いで、上記の油分を５mlのピリジンに溶か
し、この溶液に無水酢酸５ml及び触媒量のジメチ
ルアミノピリジンを加えて、室温下で２時間撹拌
した。反応混合物の多量の水に注ぎ、ヘキサンで
抽出した。ヘキサン抽出液を80％のメタノール水
溶液で洗滌し、さらに水で３回洗滌したのち、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネ
シウムを濾別したのち、ヘキサンを留去して、赤
黄色の油分0.64ｇを得た。この油分は液体クロマ
トグラフイー分析の結果、ビタミンＡアセテート
（７〜−１）（全トランス体比率95％）を0.34ｇ含ん
でいた。化合物（11〜）からの合計収率は61％であ
つた。 実施例 ４〜６ 実施例２(A)で得た１−アセトキシ−３，７−ジ
ジメチル−８−ヒドロキシ−９−フエニルスルホ
ニル−９−（２，６，６−トリメチル−１−シク
ロヘキセン−１−イル）−２(E)，６(E)−ノナジエ
ン（３〜−１）1.36ｇ（2.8ｍmol）及び塩化メチレ
ン15mlを使用して第１表に示す条件を採用する以
外は実施例２(B)におけると同様にして反応及び処
理を行ない、対応するアセタール類（12〜〜14〜）を
得た。結果を第１表に示す。

【表】 参考例 ５〜７ 実施例４〜６で得た化合物（12〜）〜（14〜）の
1.05ｍmol及びカリウムメトキシド5.25ｍmolを
用いて第２表に示す条件を採用する以外は参考例
１におけると同様にして反応及び処理を行ない、
ビタミンＡアセテート（７〜−１）を得た。結果を
第２表に示す。

〔発明の効果〕

本発明の方法によれば、上記の実施例から明ら
かなとおり、安価な工業原料であるリナロールか
ら容易にかつ好収率でともに製造される一般式
（）で示される化合物及び一般式（）で示さ
れる化合物の塩基の存在下での反応により高収率
でかつ容易に一般式（−１）で示される化合物
を製造することができ、さらには該一般式（−
１）で示される化合物から高収率でかつ容易に一
般式（−２）で示される化合物を製造すること
ができる。また本発明の一般式（−２）で示さ
れる化合物は上記の参考例から明らかなとおり塩
基による処理により高収率でかつ容易に、しかも
本発明の方法において原料として用いる一般式
（）で示される化合物の立体構造に依存する立
体規制されたビタミンＡ、さらにはそのカルボン
酸エステルに誘導される。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R¹は置換されていてもよいアリール基
   を表わし、R⁴は水素原子又は水酸基のアセター
   ル型保護基を表わし、R²¹はR⁴が水素原子を表わ
   す場合に低級アルカノイル基を表わし、R⁴が水
   酸基のアセタール型保護基を表わす場合に水素原
   子又は低級アルカノイル基を表わす） で示されるスルホン。 ２ R¹がフエニル基又はｐ−トリル基を表わす
   特許請求の範囲第１項記載のスルホン。 ３ R²¹が水素原子又はアセチル基を表わす特許
   請求の範囲第１項記載のスルホン。 ４ R⁴が水素原子、メトキシメチル基、１−エ
   トキシエチル基、１−ｎ−ブトキシエチル基、テ
   トラヒドロピラン−２−イル基又は４−メチルテ
   トラヒドロピラン−２−イル基を表わす特許請求
   の範囲第１項記載のスルホン。 ５ 一般式 （式中、R¹は置換されていてもよいアリール基
   を表わす） で示される化合物と一般式 （式中、R²は低級アルカノイル基を表わす） で示される化合物とを塩基の存在下に反応させる
   ことにより一般式 （式中、R¹及びR²は前記定義のとおりである。） で示される化合物を得、ついで必要に応じて該一
   般式（−１）で示される化合物に水酸基のアセ
   タール型保護基を導入し、さらに必要に応じて生
   成する化合物を非酸性条件下に加溶媒分解せしめ
   ることを特徴とする一般式 （式中、R¹は前記定義のとおりであり、R⁴は水
   素原子又は水酸基のアセタール型保護基を表わ
   し、R²¹はR⁴が水素原子を表わす場合に低級アル
   カノイル基を表わし、R⁴が水酸基のアセタール
   型保護基を表わす場合に水素原子又は低級アルカ
   ノイル基を表わす） で示されるスルホンの製造方法。