JPH04116115A - 鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉 - Google Patents
鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉Info
- Publication number
- JPH04116115A JPH04116115A JP23626090A JP23626090A JPH04116115A JP H04116115 A JPH04116115 A JP H04116115A JP 23626090 A JP23626090 A JP 23626090A JP 23626090 A JP23626090 A JP 23626090A JP H04116115 A JPH04116115 A JP H04116115A
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- Japan
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- hole
- gas
- dispersion plate
- gas injection
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- Pending
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- Manufacture Of Iron (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉
の改良に関する。
の改良に関する。
鉄鉱石の溶融還元では、設備を溶融還元炉と流動層式の
予備還元炉とから構成し、溶融還元炉で発生する排ガス
を予備還元炉流動層の流動化、還元ガスとして利用する
方法が経済上好ましい。そして、この流動層としては、
技術的完成度が高く、しかも鉱石の予熱、還元に伴う粉
化を抑制できるという点から、バブリング流動層が特に
有利である。
予備還元炉とから構成し、溶融還元炉で発生する排ガス
を予備還元炉流動層の流動化、還元ガスとして利用する
方法が経済上好ましい。そして、この流動層としては、
技術的完成度が高く、しかも鉱石の予熱、還元に伴う粉
化を抑制できるという点から、バブリング流動層が特に
有利である。
この予備還元炉は、その内部にガス噴出用の多数のノズ
ル孔（ガス通孔）を有する分散板を備えており、この分
散板の上方に形成される予備還元室に鉄鉱石が装入され
１分散板下方のガス吹込室（風箱）に溶融還元炉からの
排ガス（還元ガス）が導入される。この還元ガスは、分
散板のノズル孔を通じて上方の予備還元室に吹き出され
、これにより流動層が形成され、鉄鉱石の予備還元と予
熱がなされる。
ル孔（ガス通孔）を有する分散板を備えており、この分
散板の上方に形成される予備還元室に鉄鉱石が装入され
１分散板下方のガス吹込室（風箱）に溶融還元炉からの
排ガス（還元ガス）が導入される。この還元ガスは、分
散板のノズル孔を通じて上方の予備還元室に吹き出され
、これにより流動層が形成され、鉄鉱石の予備還元と予
熱がなされる。
このような予備還元炉では、排ガス中に含まれるダスト
の分散板への付着が大きな問題となる。
の分散板への付着が大きな問題となる。
すなわち、溶融還元炉から発生する排ガスには多量のダ
ストが含まれており、このうち１０μｍ以下の微粒ダス
トは、多くの場合サイクロン等の除塵装置では除去でき
ず、このような微粒ダストを含む排ガスがそのまま予備
還元炉に導入されてしまう。
ストが含まれており、このうち１０μｍ以下の微粒ダス
トは、多くの場合サイクロン等の除塵装置では除去でき
ず、このような微粒ダストを含む排ガスがそのまま予備
還元炉に導入されてしまう。
上記ダストはＳやＮａ、 Ｋ等のアルカリ化合物を多く
含んでいるため、９００℃を超えるような温度の排ガス
中では粘着性を持ち、このため予備還元炉に導入された
ダストは分散板下面やノズル孔内面に付着することにな
る。特に、ガス吹込室に導入された排ガスはノズル孔を
通過する際に縮流され、ノズル孔内のガス流速は極めて
高く（流速：数十ｍ／ｓｅｅ以上）なるため、ノズル孔
内面ではダストが特ｔこ強固に付着し易い。このような
ダストによる付着物は次第に成長し、遂には還元ガスの
円滑な流れを妨げ、適正な流動層を形成できなくなる。
含んでいるため、９００℃を超えるような温度の排ガス
中では粘着性を持ち、このため予備還元炉に導入された
ダストは分散板下面やノズル孔内面に付着することにな
る。特に、ガス吹込室に導入された排ガスはノズル孔を
通過する際に縮流され、ノズル孔内のガス流速は極めて
高く（流速：数十ｍ／ｓｅｅ以上）なるため、ノズル孔
内面ではダストが特ｔこ強固に付着し易い。このような
ダストによる付着物は次第に成長し、遂には還元ガスの
円滑な流れを妨げ、適正な流動層を形成できなくなる。
第４図はこのような状況を示すもので、ｌは流動層、２
は分散板、３は分散板下方のガス吹込室、４は付着、成
長したダストである。
は分散板、３は分散板下方のガス吹込室、４は付着、成
長したダストである。
本発明は、このような従来の問題に鑑みなされたもので
、分散板、特にノズル孔内面に対するダストの付着、成
長を効果的に防止できる予備還元炉の提供をその目的と
する。
、分散板、特にノズル孔内面に対するダストの付着、成
長を効果的に防止できる予備還元炉の提供をその目的と
する。
このため本発明は、次のような構成を有する。
（１）多数のノズル孔が貫設された分散板を炉内部に有
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対して水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通ずる高圧ガスの流
路を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設備にお
ける予備還元炉。
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対して水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通ずる高圧ガスの流
路を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設備にお
ける予備還元炉。
（２）多数のノズル孔が貫設された分散板を炉内部に有
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対しで水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通ずる高圧ガスの流
路を設けるとともに、該流路から分散板下面に向けてガ
ス噴射孔を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設
備における予備還元炉。
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対しで水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通ずる高圧ガスの流
路を設けるとともに、該流路から分散板下面に向けてガ
ス噴射孔を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設
備における予備還元炉。
分散板内部の流路にＮ２等の高圧ガスを流し、このガス
をガス噴射孔からノズル孔下端近傍の内部に噴射させる
。このガスは上向きの旋回流となってノズル孔上方に流
れ、その過程でノズル孔内面に付着したダストを剥離、
除去する。
をガス噴射孔からノズル孔下端近傍の内部に噴射させる
。このガスは上向きの旋回流となってノズル孔上方に流
れ、その過程でノズル孔内面に付着したダストを剥離、
除去する。
また、上記（２）の構成によれば、以上のようなノズル
孔内部への高圧ガスの噴射に加＆、高圧ガスの流路から
分散板下面に向けて設けられたガス噴射孔から高圧ガス
が噴射され、分散板下面に付着したダストも除去される
。このようなガス噴射は、特に分散板下面のノズル孔入
口近傍に付着したダストを除去するのに有効である。
孔内部への高圧ガスの噴射に加＆、高圧ガスの流路から
分散板下面に向けて設けられたガス噴射孔から高圧ガス
が噴射され、分散板下面に付着したダストも除去される
。このようなガス噴射は、特に分散板下面のノズル孔入
口近傍に付着したダストを除去するのに有効である。
分散板内部の流路への高圧ガスの供給は、ダストの付着
状態に応じて定期的に行えばよいが、場合によっては常
時ガスを供給するようにしてもよい。
状態に応じて定期的に行えばよいが、場合によっては常
時ガスを供給するようにしてもよい。
また、ガス噴射孔から噴射される高圧ガスに固形の粉末
材を混入させることができ、これによりガス噴射による
ダスト除去効果をより高めることができる。
材を混入させることができ、これによりガス噴射による
ダスト除去効果をより高めることができる。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示すもので、
予備還元炉内の分散板５に設けられるノズル孔６を示し
ている。分散板５は予備還元炉の内部を上下に仕切るも
ので、その上部が予備還元室１２を、また、下部がガス
吹込室１３をそれぞれ構成している。このガス吹込室１
３にはガス吹込口（図示せず）が設けられ、これに溶融
還元炉からのガス導管が接続されている。
予備還元炉内の分散板５に設けられるノズル孔６を示し
ている。分散板５は予備還元炉の内部を上下に仕切るも
ので、その上部が予備還元室１２を、また、下部がガス
吹込室１３をそれぞれ構成している。このガス吹込室１
３にはガス吹込口（図示せず）が設けられ、これに溶融
還元炉からのガス導管が接続されている。
前記ノズル孔６は耐火物製の分散板本体７に埋め込まれ
る金属筒８により構成されている。この金属筒８のノズ
ル孔下端（入口）近傍位置には、金属筒内へのガス噴射
方向が上向きで且つ金属筒の筒芯に対して水平方向で偏
向した複数のガス噴射孔９が設けられている。本実施例
では、このガス噴射孔９の水平方向でのガス噴射方向は
、第２図に示すように金属筒内径の接線方向と略一致し
ている。
る金属筒８により構成されている。この金属筒８のノズ
ル孔下端（入口）近傍位置には、金属筒内へのガス噴射
方向が上向きで且つ金属筒の筒芯に対して水平方向で偏
向した複数のガス噴射孔９が設けられている。本実施例
では、このガス噴射孔９の水平方向でのガス噴射方向は
、第２図に示すように金属筒内径の接線方向と略一致し
ている。
一方、分散板本体７の内部には前記ガス噴射孔９に連通
する高圧ガスの流路１０が設けられでいる。この流路１
０には予備還元炉の外部から高圧ガスが供給される。
する高圧ガスの流路１０が設けられでいる。この流路１
０には予備還元炉の外部から高圧ガスが供給される。
第３図は本発明の第２の構成を示すもので、上記構成に
加え、前記流路１０がら分散板下面に向けてガス噴射孔
１１を設けたものである。
加え、前記流路１０がら分散板下面に向けてガス噴射孔
１１を設けたものである。
このガス噴射孔１１は、各ノズル孔６の周囲にこれを囲
むような形で複数設けられており、ノズル孔の中心方向
に向かって斜め下方にガスを噴射するように設けられて
いる。
むような形で複数設けられており、ノズル孔の中心方向
に向かって斜め下方にガスを噴射するように設けられて
いる。
予ａ還元炉では、高温で且つ多量のダストを含む排ガス
が長時間分散板５を通過すると、ノズル孔６の内面や分
散板の下面にダストによる付着物が生成する。本発明の
予備還元炉では、このように付着物が生成した状態で、
分散板内部の流路１０にＮ２等の高圧ガスを流し、この
ガスをガス噴射孔９からノズル孔下端近傍の内部に噴射
させる。
が長時間分散板５を通過すると、ノズル孔６の内面や分
散板の下面にダストによる付着物が生成する。本発明の
予備還元炉では、このように付着物が生成した状態で、
分散板内部の流路１０にＮ２等の高圧ガスを流し、この
ガスをガス噴射孔９からノズル孔下端近傍の内部に噴射
させる。
ガス噴射孔９は、そのガス噴射方向が上向きで且つ金属
筒８の筒芯に対して水平方向で偏向しているため、噴射
ガスは上向きの旋回流となってノズル孔上方に流れ、そ
の過程でノズル孔内面に付着したダストを剥離、除去す
る。
筒８の筒芯に対して水平方向で偏向しているため、噴射
ガスは上向きの旋回流となってノズル孔上方に流れ、そ
の過程でノズル孔内面に付着したダストを剥離、除去す
る。
また、第３図に示す実施例によれば、以上のような作用
に加え、高圧ガスの流路１０から分散板下面のノズル孔
入口周囲に向けて設けられたガス噴射孔１１から高圧ガ
スが噴射され、この噴射ガスにより、ノズル孔入口近傍
の分散板下面に付着したダストも除去される。
に加え、高圧ガスの流路１０から分散板下面のノズル孔
入口周囲に向けて設けられたガス噴射孔１１から高圧ガ
スが噴射され、この噴射ガスにより、ノズル孔入口近傍
の分散板下面に付着したダストも除去される。
流＃＆１０への高圧ガスの供給は、通常ダストの付着状
態に応じて定期的に行われるが、常時ガスを供給し、各
噴射孔から噴射させておくようにしてもよい。また、ガ
ス噴射孔９．１１がら噴射されるガスの圧力は、通常７
ｋｇ／ｃｍ２以上程度とすることが好ましい。
態に応じて定期的に行われるが、常時ガスを供給し、各
噴射孔から噴射させておくようにしてもよい。また、ガ
ス噴射孔９．１１がら噴射されるガスの圧力は、通常７
ｋｇ／ｃｍ２以上程度とすることが好ましい。
また、上述したようにガス噴射孔９．１１がら噴射され
る高圧ガスに固形の粉末材を混入させることにより、ガ
ス噴射によるダスト除去効果をより高めることができる
。
る高圧ガスに固形の粉末材を混入させることにより、ガ
ス噴射によるダスト除去効果をより高めることができる
。
以上述べた本発明によれば、分散板のノズル孔内面、さ
らには分散板下面でのダストの付着、成長が効果的に防
止されるため、排ガスの流動層内への吹き込みを安定し
て行わせることができる。
らには分散板下面でのダストの付着、成長が効果的に防
止されるため、排ガスの流動層内への吹き込みを安定し
て行わせることができる。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示すもので、
第１図は分散板の縦断面図、第２図はノズル孔内面を構
成する金属筒の水平断面図である。 第３図は本発明の他の実施例における分散板の縦断面図
である。第４図は従来の予備還元炉におけるダストの付
着状況を示す説明図である。 図において、５は分散板、６はノズル孔、８は金属筒、
９．１１はガス噴射孔、１ｏは流路である。 第 図 第 図
第１図は分散板の縦断面図、第２図はノズル孔内面を構
成する金属筒の水平断面図である。 第３図は本発明の他の実施例における分散板の縦断面図
である。第４図は従来の予備還元炉におけるダストの付
着状況を示す説明図である。 図において、５は分散板、６はノズル孔、８は金属筒、
９．１１はガス噴射孔、１ｏは流路である。 第 図 第 図
Claims (2)
- （１）多数のノズル孔が貫設された分散板を炉内部に有
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対して水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通する高圧ガスの流
路を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設備にお
ける予備還元炉。 - （２）多数のノズル孔が貫設された分散板を炉内部に有
する流動層式の予備還元炉において、ノズル孔の内面を
金属筒により構成し、該金属筒のノズル孔下端近傍位置
に、金属筒内へのガス噴射方向が上向きで且つ金属筒の
筒芯に対して水平方向で偏向したガス噴射孔を設け、分
散板の内部には前記ガス噴射孔に連通する高圧ガスの流
路を設けるとともに、該流路から分散板下面に向けてガ
ス噴射孔を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融還元設
備における予備還元炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23626090A JPH04116115A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23626090A JPH04116115A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04116115A true JPH04116115A (ja) | 1992-04-16 |
Family
ID=16998149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23626090A Pending JPH04116115A (ja) | 1990-09-06 | 1990-09-06 | 鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04116115A (ja) |
-
1990
- 1990-09-06 JP JP23626090A patent/JPH04116115A/ja active Pending
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