JPH04191309A - 鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、鉄鉱石の溶融還元設備における予備還元炉
の改良に関する。

〔従来の技術〕

鉄鉱石の溶融還元では、設備を溶融還元炉と流動層式の
予備還元炉とから構成し、溶融還元炉で発生する排ガス
を予備還元炉流動層の流動化、還元ガスとして利用する
方法が経済上好ましい。そして、この流動層としては、
技術的完成度が高く。

しかも鉱石の予熱、還元に伴う粉化を抑制できるという
点から、バブリング流動層が特に有利である。

この予備還元炉は、その内部にガス噴出用の多数のノズ
ル孔（ガス通孔）を有する分散板を備えており、この分
散板の上方に形成される予備還元室に鉄鉱石が装入され
、分散板下方のガス吹込室（風箱）に溶融還元炉からの
排ガス（還元ガス）が導入される。この還元ガスは１分
散板のノズル孔を通じて上方の予備還元室に吹き出され
、これにより流動層が形成され、鉄鉱石の予備還元と予
熱がなされる。

〔発明が解決しようとする課題〕

このような予備還元炉では、排ガス中に含まれるダスト
の分散板への付着が大きな問題となる。

すなわち、溶融還元炉から発生する排ガスには多量のダ
ストが含まれており、このうち１０μｍ以下の微粒ダス
トは、多くの場合サイクロン等の除塵装置では除去でき
ず、このような微粒ダストを含む排ガスがそのまま予備
還元炉に導入されてしまう。

上記ダストはＳやＮａ、　Ｋ等のアルカリ化合物を多く
含んでいるため、９００℃を超えるような温度の排ガス
中では粘着性を持ち、このため予備還元炉に導入された
ダストは分散板下面やノズル孔内面（特にノズル孔入側
内面）に付着することになる。このようなダストによる
付看物は次第に成長し、遂には還元ガスの円滑な流れを
妨げ、適正な流動層を形成できなくなる。第２図はこの
ような状況を示すもので、１は流動層、２は分散板、３
は分散板下方のガス吹込室、４は付着、成長したダスト
である。

本発明は、このような従来の問題に鑑みなされたもので
、分散板に対するダストの付着、成長を効果的に防止で
きる予備還元炉の提供をその目的とする。

〔課題を解決するための手段〕 このため本発明は、多数のノズル孔が貫設された分散板
を炉内部に有する流動層式の千ｍ還元炉において、炉の
底部に、炉の底板上面に設けられる複数の凹部と、底板
内部に前記各凹部の底部に開口するようにして設けられ
るガス供給孔と、該ガス供給孔に炉外からガスを供給す
る供給手段とからなるブラスト装置を設けたことをその
特徴とする。

〔作用〕

ショット等の粒子を底板上面の凹部内に装入しておき、
炉の操業中、定期的に供給手段からガス供給孔に高圧ガ
スを供給し、凹部内の粒子を分散板下面に向けて噴射さ
せる。この粒子の噴射により、第２図に示すように分散
板下面およびノズル孔の入口近傍に付着したダストが除
去される。

除去されたダストの凝集物は落下して凹部内に溜り１次
のブラストのための粒子として用いられる。このダスト
の凝集物はある程度の硬度を有しており、ブラスト用の
粒子として十分使用に耐え得るものである。したがって
、基本的には本発明の装置では炉外からのブラスト用粒
子の補給は必要としない。

通常、分散板下方のガス吹込室内のガス流速は数ｍ／ｓ
ｅｅ前後であり、このため前記粒子の噴射速度が数十ｍ
１ｓｅｃ以上となるよう高圧ガスを供給することが好ま
しい。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例を示すもので、５は分散板、
６はこの分散板に多数設けられるノズル孔、７は炉の底
板である。分散板５は予備還元炉の内部を上下に仕切る
もので、その上部が予備還元室１２を、また、下部がガ
ス吹込室１３をそれぞれ構成しているにのガス吹込室１
３にはガス吹込口（図示せず）が設けられ、これに溶融
還元炉からのガス導管が接続されている。

炉の底板上面には多数の凹部８が設けられている。本実
施例では、これら凹部８は断面コーン状に構成されてい
る。なお、この凹部８は、除去したダストの凝集物をブ
ラスト用の粒子としてその内部に回収するため、底板上
面になるべく密に設けるようにすることが好ましい。

底板７の内部には、上端が前記各四部８の底部に開口す
るようにしてガス供給孔９が設けられている。そして、
これらガス供給孔９の下端には。

炉外からガスを供給するガス供給管１０が接続されてい
る。なお、１１はガス供給管１０に設けられるバルブで
ある。

以上のような構成によれば、最初にショット等の粒子を
底板上面の凹部８に装入しておく。そして、炉の操業中
、定期的にガス供給管１０からガス供給孔９にＮ２等の
高圧ガスを供給し、凹部８内の粒子Ａを分散板５の下面
に向けて噴射させる。

この粒子Ａの噴射により、分散板５の下面およびノズル
孔６の入口近傍に付着したダストが除去される。

除去されたダストの凝集物は落下して凹部８内に溜り、
次のブラストのための粒子として用いられる。

前記ガス供給管１０からの高圧ガスは、通常、粒子の噴
射速度が数十ｍ／ｓｅｃ以上となるような圧力で１〜２
秒間供給される。

〔発明の効果〕

以上述べた本発明によれば、分散板下面やノズル孔の入
口近傍でのダストの付着、成長が効果的に防止されるた
め、排ガスの流動層内への吹き込みを安定して行わせる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。第２
図は従来の予備還元炉におけるダストの付着状況を示す
説明図である。 図において、５は分散板、６はノズル孔、７は底板、８
は凹部、９はガス供給孔、１０はガス供給管である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 多数のノズル孔が貫設された分散板を炉内部に有する流
   動層式の予備還元炉において、炉の底部に、炉の底板上
   面に設けられる複数の凹部と、底板内部に前記各凹部の
   底部に開口するようにして設けられるガス供給孔と、該
   ガス供給孔に炉外からガスを供給する供給手段とからな
   るブラスト装置を設けたことを特徴とする鉄鉱石の溶融
   還元設備における予備還元炉。