JPH04124652A - Antistatic silver halide film photosensitive material - Google Patents

Antistatic silver halide film photosensitive material

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JPH04124652A
JPH04124652A JP24566090A JP24566090A JPH04124652A JP H04124652 A JPH04124652 A JP H04124652A JP 24566090 A JP24566090 A JP 24566090A JP 24566090 A JP24566090 A JP 24566090A JP H04124652 A JPH04124652 A JP H04124652A
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JP
Japan
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layer
antistatic
silver halide
photosensitive material
emulsion
Prior art date
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Pending
Application number
JP24566090A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Shibata
吉夫 柴田
Seiichi Sumi
角 誠一
Akira Furukawa
彰 古川
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (A)産業上の利用分野 本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、より詳し
くは帯電防止された裏塗り層に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) Industrial Application Field The present invention relates to silver halide photographic materials, and more particularly to antistatic backing layers.

(B)従来技術およびその問題点 ハロゲン化銀写真材料は、ベースとしてフィルム、紙等
が用いられているが、これらは導電性が低く種々の問題
が引き起こされていた。
(B) Prior art and its problems Silver halide photographic materials use films, paper, etc. as a base, but these have low conductivity and have caused various problems.

これらの問題点の1つは、フィルム、紙等にノ10ゲン
化銀を含む塗布液を塗布する場合、コーターで高速で塗
布するのであるが、ローラーで摩擦されこすられている
間に帯電し、これが放電した時にハロゲン化銀をカブラ
せる(静電気カブリ)という問題である。もし裏塗り層
の導電性を高め帯電防止を施してあれば通常ハロゲン化
銀乳剤の塗布の前に裏塗り層を塗布するので、この裏塗
り層がベースを通して反対側の乳剤を塗布する面の帯電
防止性も向上させ静電気カブリを防止出来る。
One of these problems is that when applying a coating solution containing silver 10ogenide to film, paper, etc., it is applied at high speed with a coater, but it becomes charged while being rubbed by a roller. This is a problem in that silver halide is fogged when discharged (static fog). If the backing layer has high conductivity and antistatic properties, the backing layer is usually applied before the silver halide emulsion is applied, so that the backing layer passes through the base and covers the side to be coated with the opposite emulsion. It also improves antistatic properties and prevents static fog.

第2に、ユーザーが感光材料を使用する時に、これらが
帯電しているとゴミ、ホコリが感光材料に付着し、露光
及び写真処理の過程でピンホール等の好ましくない画像
を形成することがあるし、感光材料同志がくっついて作
業性が悪いという問題がある。更に人間の手を通してこ
れら感光材料が放電するという問題もある。
Second, when users use photosensitive materials, if they are charged, dirt and dust may adhere to the photosensitive materials and form undesirable images such as pinholes during exposure and photographic processing. However, there is a problem in that the photosensitive materials stick together, resulting in poor workability. Furthermore, there is also the problem that these photosensitive materials discharge when passed through human hands.

これらの問題で重要なことは現像、定着、水洗という処
理の前でも後でも帯電特性が良好でなくてはならないと
いう点である。
What is important in these problems is that charging characteristics must be good both before and after processing such as development, fixing, and washing with water.

特許公開公報昭5゛6−92535、同昭61−174
542によれば裏塗り層とベースの間に帯電防止層を設
け、この層を通して帯電防止性を高め、かつこの層と裏
塗り層の接着性を向上させるためにアジリジン硬膜剤を
用いることが記載されている。しかしながらアジリジン
硬膜剤は皮膚をカブラせ安全衛生上好ましくなく、さら
にベースとの間に帯電防止層を設けているために裏塗り
層の接着が充分でなくかつ乾燥性が悪いという欠点を有
していた。
Patent Publications No. 5-6-92535, No. 61-174
According to No. 542, an antistatic layer is provided between the backing layer and the base, and an aziridine hardener can be used to increase the antistatic properties through this layer and to improve the adhesion between this layer and the backing layer. Are listed. However, aziridine hardeners cause skin fogging, which is undesirable from a safety and hygiene perspective.Furthermore, because an antistatic layer is provided between the aziridine hardener and the base, the adhesion of the backing layer is insufficient and drying properties are poor. was.

(C)発明の目的 本発明の目的は、良好な帯電防止性を持った裏塗り層を
提供することである。
(C) Object of the invention The object of the invention is to provide a backing layer with good antistatic properties.

(D)発明の構成 導電性ポリマー層をゼラチンを含む裏塗り層とフィルム
ベースの間に持つハロゲン化銀フィルム感光材料におい
て、該導電性ポリマーがN−メチロール(メタ)アクリ
ルアミドとスチレンスルホン酸の共重合体であるハロゲ
ン化銀フィルム感光材料により達成される。
(D) Structure of the Invention In a silver halide film photosensitive material having a conductive polymer layer between a gelatin-containing backing layer and a film base, the conductive polymer is a combination of N-methylol (meth)acrylamide and styrene sulfonic acid. This is achieved using a silver halide film photosensitive material that is a polymer.

本発明に用いられる導電性ポリマーはN−メチロール(
メタ)アクリルアミドとスチレンスルホン酸の共重合体
であり、加熱により架橋するものである。共重合体中の
N−メチロール(メタ)アクリルアミドの比率は好まし
くは5重量%以上70重量%以下であり、より好ましく
は10重量%以上60重量%以下である。
The conductive polymer used in the present invention is N-methylol (
It is a copolymer of meth)acrylamide and styrene sulfonic acid, and crosslinks when heated. The ratio of N-methylol (meth)acrylamide in the copolymer is preferably 5% by weight or more and 70% by weight or less, more preferably 10% by weight or more and 60% by weight or less.

該共重合体の製造は、好ましくはP−スチレンスルホン
酸又はそのアルカリ金属塩とN−メチロール(メタ)ア
クリルアミドとの混合物を、好ましくはアルコール/水
混合溶剤に溶解し、モノマーの状態では該媒体に溶解す
るが、重合の進行に伴いポリマーが生成すると該媒体に
不溶性となり析出するような系で重合を行う。少なくと
も40重量%以上の濃度でアルコールを含有する水/ア
ルコール混合溶媒系が特に好ましい。こうした重合を行
う際に、あらかじめ該媒体に可溶な樹脂を存在させてお
くことで、析出するポリマーが微粒子状に得られる。即
ち、分散安定剤として作用するポリマーの存在下でモノ
マーの状態では媒体に可溶であるが、ポリマーになると
不溶性となるような条件で重合をおこなう。
Preferably, the copolymer is produced by dissolving a mixture of P-styrene sulfonic acid or its alkali metal salt and N-methylol (meth)acrylamide in an alcohol/water mixed solvent, and in the monomer state, the mixture is dissolved in the medium. Polymerization is carried out in a system in which the polymer is soluble in the medium, but as the polymer is formed as the polymerization progresses, it becomes insoluble in the medium and precipitates. Particularly preferred are water/alcohol mixed solvent systems containing alcohol in a concentration of at least 40% by weight. When carrying out such polymerization, by making a soluble resin exist in the medium in advance, the precipitated polymer can be obtained in the form of fine particles. That is, in the presence of a polymer that acts as a dispersion stabilizer, polymerization is carried out under conditions such that the monomer state is soluble in the medium, but the polymer becomes insoluble.

さらに本発明において、スチレンスルホン酸又はそのア
ルカリ金属塩およびN−メチロール(メタ)アクリルア
ミド以外にも第3成分として種々のモノマーが共重合可
能であるが、その中でも特に酸性基を有するモノマーを
共重合することで、皮膜の熱硬化性をさらに促進するこ
とができる。
Furthermore, in the present invention, various monomers other than styrene sulfonic acid or its alkali metal salt and N-methylol (meth)acrylamide can be copolymerized as the third component, but among them, monomers having acidic groups are particularly copolymerized. By doing so, the thermosetting properties of the film can be further promoted.

このようなモノマーとしてとくに(メタ)アクリル酸、
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ま
たはマレイン酸のような酸性モノマーの共重合が好まし
い。このような酸性モノマーの共重合比率は0.5重量
%から10重量%程度の範囲が好ましい。
Such monomers include (meth)acrylic acid,
Preference is given to copolymerization of acidic monomers such as 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or maleic acid. The copolymerization ratio of such acidic monomers is preferably in the range of about 0.5% by weight to 10% by weight.

本発明の熱硬化性を有する帯電防止用ポリマーは上記の
ような組成により合成され、基本的には充分な性能を有
する耐水性帯電防止皮膜が形成されるのであるが、さら
に必要に応じては上記以外のモノマーとしてスチレンお
よびその誘導体や(メタ)アクリル酸エステル等のモノ
マーを共重合させてもよい。
The thermosetting antistatic polymer of the present invention is synthesized with the above composition, and basically forms a water-resistant antistatic film with sufficient performance. As monomers other than those mentioned above, monomers such as styrene, derivatives thereof, and (meth)acrylic acid esters may be copolymerized.

スチレンスルホン酸のカウンターイオンとしてはナトリ
ウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオンが
好ましい。以下に合成例を示す。
As counter ions for styrene sulfonic acid, alkali metal ions such as sodium ions and potassium ions are preferred. A synthesis example is shown below.

合成例1 撹拌機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を備えた
500m14ツロフラスコにポリビニルピロリドン’7
g、p−スチレンスルホン酸ナトリウム70g5N−メ
チロールアクリルアミド30gを仕込み、エタノール2
00gおよび蒸留水100gを加え、70℃で溶解した
。窒素雰囲気下75℃でAIBNlgを添加し重合を開
始したところ安定な白色エマルジョンを生成した。
Synthesis Example 1 Polyvinylpyrrolidone '7 was placed in a 500 m 14 flask equipped with a stirrer, thermometer, nitrogen inlet tube, and reflux condenser.
g, 70 g of sodium p-styrenesulfonate, 30 g of 5N-methylolacrylamide, and ethanol 2
00g and 100g of distilled water were added and dissolved at 70°C. When 1 g of AIBN was added at 75° C. under a nitrogen atmosphere to initiate polymerization, a stable white emulsion was produced.

重合開始後3時間を経た後、減圧蒸留によりエタノール
を留去し、均質な低粘度のポリマー水溶液を得た。
Three hours after the start of polymerization, ethanol was distilled off under reduced pressure to obtain a homogeneous low-viscosity polymer aqueous solution.

合成例2 合成例1と同様に、ポリビニルピロリドン7g。Synthesis example 2 Similarly to Synthesis Example 1, 7 g of polyvinylpyrrolidone.

p−スチレンスルホン酸ナトリウム70 g S、N−
メチロールアクリルアミド30gおよび2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸5gをエタノール
150gおよび蒸留水150gを含む混合溶媒に70℃
で溶解し、窒素雰囲気下75℃でABINl、Ogを添
加することで重合を開始した。重合開始後、直ちに白色
のポリマー微粒しか析出し系は乳白色のエマルジョンと
なった。
Sodium p-styrene sulfonate 70 g S,N-
30 g of methylol acrylamide and 5 g of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid were added to a mixed solvent containing 150 g of ethanol and 150 g of distilled water at 70°C.
The polymerization was started by adding ABINl and Og at 75° C. under a nitrogen atmosphere. Immediately after the start of polymerization, only fine white polymer particles were precipitated and the system became a milky white emulsion.

重合開始後約1時間後にエタノール50gを添加し、さ
らに約2時間加熱撹拌を行なった。
About 1 hour after the start of polymerization, 50 g of ethanol was added, and the mixture was further heated and stirred for about 2 hours.

その後、エタノールを減圧下留去し、均一な水溶液を得
た。
Thereafter, ethanol was distilled off under reduced pressure to obtain a homogeneous aqueous solution.

合成例3 合成例1と同様にポリビニルピロリドン7g。Synthesis example 3 7 g of polyvinylpyrrolidone as in Synthesis Example 1.

p−スチレンスルホン酸ナトリウム70g、N−メチロ
ールアクリルアミド25gおよびメタアクリル酸5gを
エタノール200 g、および蒸留水100gに溶解し
、75℃でAIBNl、Ogを添加することで重合を開
始した。
70 g of sodium p-styrene sulfonate, 25 g of N-methylolacrylamide, and 5 g of methacrylic acid were dissolved in 200 g of ethanol and 100 g of distilled water, and polymerization was initiated by adding AIBNl and Og at 75°C.

生成物は粒子径1ミクロン以下の安定なエマルジョンで
あった。
The product was a stable emulsion with a particle size of less than 1 micron.

合成例4 合成例1と同様にポリビニルアルコール(クラレ製PV
A203、ポリ酢酸ビニル部分ケン化物)Log、p−
スチレンスルホン酸ナトリウム70g、N−メチロール
アクリルアミド30gおよび2−アクリルアミド−2−
メチルプロパンスルホン酸5gをエタノール150gお
よび蒸留水150gの混合溶媒に溶解した。
Synthesis Example 4 Same as Synthesis Example 1, polyvinyl alcohol (Kuraray PV
A203, partially saponified polyvinyl acetate) Log, p-
70 g of sodium styrene sulfonate, 30 g of N-methylolacrylamide and 2-acrylamide-2-
5 g of methylpropanesulfonic acid was dissolved in a mixed solvent of 150 g of ethanol and 150 g of distilled water.

窒素雰囲気下75℃でAIBNl、Ogを添加すること
で重合を開始し1、生成したエマルジョンを安定化する
ため、さらにエタノール50gを3時間にわたって滴下
した。
Polymerization was started by adding AIBNl and Og at 75° C. under a nitrogen atmosphere. In order to stabilize the resulting emulsion, 50 g of ethanol was further added dropwise over 3 hours.

その後、エタノールを減圧により留去し、均一な水溶液
を得た。
Thereafter, ethanol was distilled off under reduced pressure to obtain a homogeneous aqueous solution.

本発明により得られる熱硬化性帯電防止剤は、これを単
独でフィルム等の支持体上に皮膜形成し、例えば50℃
程度の加熱条件で数時間のうちに完全に架橋するもので
ある。
The thermosetting antistatic agent obtained by the present invention can be prepared by forming a film alone on a support such as a film, for example at 50°C.
It is completely crosslinked within several hours under moderate heating conditions.

本発明の導電性ポリマーは、1rI!当り固形分として
0.1〜5gの塗布量が好ましい。
The conductive polymer of the present invention has 1rI! A coating amount of 0.1 to 5 g per solid content is preferred.

該導電性ポリマー層には必要に応じて他のバインダーを
含んでもよい。
The conductive polymer layer may contain other binders as necessary.

本発明に用いられる導電性ポリマー層は、ゼラチンを含
む裏塗り層とフィルムベースの間に位置するものであり
、その他の位置では好ましくない。
The conductive polymer layer used in the present invention is located between the gelatin-containing backing layer and the film base; other locations are not preferred.

例えば、裏塗り層を介してベースと反対側に帯電防止層
を設けた場合には、帯電防止層の皮膜が充分に形成され
ず抵抗値が高く、かつ−船釣には裏塗り層中にはフィル
ター染料が入っているので色素抜けが悪くなり好ましく
ない。更に乳剤層とフィルムベースの間に帯電防止層を
設けた場合、一般に乳剤層はストリッピングフィルムの
貼り込み等で有機溶剤を用いるので乳剤面は裏面よりも
強い接着が必要とされるので不利である。
For example, if an antistatic layer is provided on the opposite side of the base through a backing layer, the film of the antistatic layer will not be sufficiently formed and the resistance will be high. Because it contains filter dye, dye removal becomes difficult and is not desirable. Furthermore, when an antistatic layer is provided between the emulsion layer and the film base, it is disadvantageous because the emulsion layer generally requires stronger adhesion than the back side because organic solvents are used to attach the stripping film. be.

更に乳剤層と保護層の間、又はフィルムベースより保護
層の外側に帯電防止層を設けると、帯電防止層の皮膜が
充分に形成されず抵抗値が高く好ましくない。更に現像
進行性、定着速度から見て不利である。
Furthermore, if an antistatic layer is provided between the emulsion layer and the protective layer, or outside the protective layer from the film base, the antistatic layer will not be formed sufficiently, resulting in a high resistance value, which is undesirable. Furthermore, it is disadvantageous in terms of development progress and fixing speed.

従って、帯電防止ポリマーはフィルムベースとゼラチン
を含む裏塗り層の間に位置させるのが最も好ましい。
Therefore, the antistatic polymer is most preferably located between the film base and the gelatin-containing backing layer.

裏塗り層にゼラチンを含まず、ポリマー層単独もしくは
導電性ポリマー層単独という構成も考えられるが、この
場合は乳剤層及び保護層は主にゼラチン構成されている
のでカールが強くなり実用的でない。
It is also conceivable that the backing layer does not contain gelatin and consists of a polymer layer alone or a conductive polymer layer alone, but in this case, since the emulsion layer and the protective layer are mainly composed of gelatin, curling becomes strong and this is not practical.

裏塗り層のゼラチン量は、1−当り0.5〜8g1好ま
しくは1〜5gである。裏塗り層には更に前記した導電
性ポリマー、その他の導電性ポリマー、水溶性ポリマー
、硬膜剤、マット剤、ハレーション防止用染料、界面活
性剤などを必要に応じて含むことができる。
The amount of gelatin in the backing layer is 0.5 to 8 g per unit, preferably 1 to 5 g per unit. The backing layer may further contain the above-mentioned conductive polymers, other conductive polymers, water-soluble polymers, hardeners, matting agents, antihalation dyes, surfactants, and the like, as required.

本発明に用いられるフィルムベースはポリエチレンテレ
フタレートフィルムが主であるが、その他のポリエステ
ルベースも含まれる。
The film base used in the present invention is mainly a polyethylene terephthalate film, but other polyester bases are also included.

(E)実施例 実施例1 以下の溶液を作った。(E) Example Example 1 I made the following solution.

帯電防止層用塗液 (I−a、) 「−留水             500 ml裏塗
り液 (r−b) (以下余白) 染料(B に 染料(B −2) H4 NFI。
Coating liquid for antistatic layer (I-a) - Distilled water 500 ml Backing liquid (r-b) (Hereinafter, blank) Dye (Dye (B-2) H4 NFI.

染料(B−3) 乳剤用塗液 (I−c) * 0゜ 15μの単分散AgC1乳剤でダブル ジェット法で調製した。Dye (B-3) Coating liquid for emulsion (I-c) * 0° Double with 15μ monodisperse AgC1 emulsion Prepared by jet method.

この200gの中 には銀が100gゼラチンが20μ含まれている。In this 200g contains 100g of silver and 20μ of gelatin.

保護層用塗液 (I−d) これらの塗液を1d当り帯電防止層として20m1、裏
塗り層として60m1、乳剤層として60m1、保護層
として20m1塗布した。それぞれの層は一層づつ塗布
し、塗布するごとに50℃で1日加温した。
Coating liquid for protective layer (I-d) These coating liquids were coated per 1 d: 20 ml as an antistatic layer, 60 ml as a backing layer, 60 ml as an emulsion layer, and 20 ml as a protective layer. Each layer was applied one by one and heated at 50° C. for one day after each application.

帯電防止ポリマー層の位置は(a)裏塗りとベースの間
(b)裏塗り層を介してベースから離れた側、つまり最
外層(c)乳剤層とベースの間(d)乳剤層と保護層の
間(e)保護層の上、つまり最外層の5種類である。更
に帯電防止層を塗布していないものを(f)とした。
The position of the antistatic polymer layer is (a) between the backing layer and the base, (b) the side away from the base across the backing layer, i.e. the outermost layer, (c) between the emulsion layer and the base, and (d) the emulsion layer and the protective layer. There are five types: between layers (e) above the protective layer, that is, the outermost layer. Furthermore, the one to which no antistatic layer was applied was designated as (f).

これら加温後の試料を小西六社製GR−14自動現像機
を用いて処理した。現像は三菱製紙株式会社製MRA 
 CD−101,35℃20秒、定着は同CF−901
,35℃20秒である。
These heated samples were processed using a GR-14 automatic processor manufactured by Konishirokusha. Developed using MRA manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.
CD-101, 35℃ 20 seconds, fixing with the same CF-901
, 35°C for 20 seconds.

帯電防止能力は処理前、処理後の試料を25℃50%R
H(相対湿度)の雰囲気下に2時間放置しその表面抵抗
を三菱油化株式会社製ヒレスタ表面抵抗計モデルHT−
210で測定した。表面抵抗の目安としては1012Ω
以上が不可であり10口Ω以下が良好なレベルである。
Antistatic ability is measured at 25℃50%R for samples before and after treatment.
The surface resistance was measured after being left in an atmosphere of H (relative humidity) for 2 hours using a Hiresta surface resistance meter model HT- manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.
Measured at 210. A rough guide for surface resistance is 1012Ω.
A value of 10 ohms or less is considered a good level.

2種類の接着テストを行った。一つは裏面の接着テスト
であり、フィルム表面にカッターナイフで5目間隔に傷
を付け、水をつけてからティッシュ−で10回強くこす
り、その跡を見る方法である。この方法で全ての試料の
接着は良好であった。
Two types of adhesion tests were conducted. One is the adhesion test on the back side, which involves making scratches on the surface of the film with a utility knife at 5-stitch intervals, applying water, rubbing vigorously with a tissue 10 times, and observing the marks. Adhesion of all samples was good with this method.

もう一つの接着のテストは、ストリッピングフィルム貼
り込みに用いるベースカット液を用いて行った。
Another adhesion test was conducted using the base cut liquid used to attach the stripping film.

ベースカット液は乳剤面だけに使用するものであり、裏
塗り側は実施しなかった。ベースカット液は大日本イン
キ化学社製のものであり、その液で乳剤面を濡らし、テ
ィッシュ−で3回弱くこすった。全面に剥がれるものを
×、半分程剥れるものを△、少し剥れるものを○とした
。
The base cut liquid was used only on the emulsion side and was not applied on the back coating side. The base cut liquid was manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, and the emulsion surface was wetted with the liquid and gently rubbed three times with a tissue. A sample that peeled off completely was graded as ×, a sample that peeled off about half of the sample was graded as △, and a sample that peeled off slightly was graded as ○.

色素抜けに関しては処理済のサンプルの未露光部分を1
0枚重ね、○△×と視角判断した。○印は良好なもので
あり、△は実用可だがやや悪いレベル、×印は不可レベ
ルである。
Regarding dye loss, the unexposed part of the processed sample is
0 sheets were stacked, and the viewing angle was judged as ○△×. ○ indicates good quality, △ indicates practical but slightly poor level, and × indicates unacceptable level.

これらの結果を表1に示す。These results are shown in Table 1.

(以下余白) 表1かられかる様にN−メチロール(メタ)アクリルア
ミドとスチレンスルホン酸の共重合体を帯電防止層とし
て用いる場合、裏塗り層とベースの間に位置させるのが
最も好ましい事がわかる。
(Left below) As shown in Table 1, when a copolymer of N-methylol (meth)acrylamide and styrene sulfonic acid is used as an antistatic layer, it is most preferable to position it between the backing layer and the base. Recognize.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 導電性ポリマー層をゼラチンを含む裏塗り層とフィルム
ベースの間に持つハロゲン化銀フィルム感光材料におい
て、該導電性ポリマーがN−メチロール(メタ)アクリ
ルアミドとスチレンスルホン酸の共重合体からなること
を特徴とするハロゲン化銀フィルム感光材料。
In a silver halide film photosensitive material having a conductive polymer layer between a gelatin-containing backing layer and a film base, the conductive polymer is composed of a copolymer of N-methylol (meth)acrylamide and styrene sulfonic acid. Characteristic silver halide film photosensitive material.
JP24566090A 1990-09-14 1990-09-14 Antistatic silver halide film photosensitive material Pending JPH04124652A (en)

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US07/758,602 US5202223A (en) 1990-09-14 1991-09-12 Silver halide light-sensitive film material subjected to antistatic treatment

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