JPH04125500A - Sor光装置におけるsor光出射用窓装置 - Google Patents

Sor光装置におけるsor光出射用窓装置

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JPH04125500A
JPH04125500A JP2246569A JP24656990A JPH04125500A JP H04125500 A JPH04125500 A JP H04125500A JP 2246569 A JP2246569 A JP 2246569A JP 24656990 A JP24656990 A JP 24656990A JP H04125500 A JPH04125500 A JP H04125500A
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JP
Japan
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sor
atmosphere
cavity
light
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JP2246569A
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English (en)
Inventor
Motoharu Marushita
丸下 元治
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IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
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Publication of JPH04125500A publication Critical patent/JPH04125500A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

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  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、SOR光(シンクロトロン放射光)装置に
おいて、LSI基板等の露光対象を大気中で露光するこ
とを可能にして、露光作業効率を高めたものである。
〔従来の技術〕
近年、シンクロトロン装置は、SOR光装置として、超
々LS1回路の作成、医療分野における診断、分子解析
、構造解析等様々な分野への適用が期待されている。
SOR光装置の概要を第2図に示す。SOR光装置1に
おいて、電子発生装置(電子銃等)10で発生した電子
ビームは直線加速器(ライナック)12で光速近くに加
速され、ビーム輸送部14の偏向電磁石16で偏向され
て、インフレクタ18を介してシンクロトロンの蓄積リ
ング22内に入射される。蓄積リング22に入射された
電子ビームは高周波加速空洞21でエネルギを与えられ
ながら収束電磁石23で収束され、偏向電磁石24で偏
向されて真空ダクト22内を周回し続ける。
偏向電磁石24で偏向される時に発生するSOROR光
査9取り出しライン26を通して出射されて、露光装置
28に送られて超々LS1回路作成用の光源等として利
用される。
従来における光取り出しライン26の構造を第3図に示
す。光取り出しライン26の途中には、斜入射ミラー3
0が配設されている。斜入射ミラー30は、無酸素銅S
iC,Au、Pt等の平面鏡で構成され、SOROR光
査9射して光取り出しライン26端部の窓板31の中央
部に取り付けられた金属製窓32から出射させる。
斜入射ミラー30は軸34を支点として、上下方向に揺
動自在に支持されている。斜入射ミラー30の端部には
ミラー揺動機構36のロッド38が取り付けられている
。ロッド38はモータ40で駆動されるカム42の回転
により上下方向に動作し、斜入射ミラー30を上下方向
に揺動して、SOROR光査9下方向に揺動させる。
蓄積リング22(第2図)から出射されたSOROR光
査9来垂直方向の広がりが小さいが、この斜入射ミラー
30の揺動により垂直方向に拡大されて、LSI露光用
等の露光面積が確保される。
金属製窓32は、光取りしライン26の内部の高真空と
外部の低真空を遮断しなからSOROR光査9射する働
きを有するもので、SOROR光査9過率が高くかつ機
械的強度が強いベリリウムの薄板で通常構成されている
。そして、その正面形状は、第4図に示すように、全露
光範囲に対応した面積を有している。
ベリリウム窓32はSOROR光査9過により加熱され
るため、大気中にさらされていると腐食を起こし、強度
が弱まる欠点がある。このため、第1図に示すように、
ベリリウム窓32および露光対象(LSI基板等)35
全体をヘリウム等の不活性ガスが充填された密閉容器3
3中に収容して、この中で露光するようにして、ベリリ
ウム窓32の腐食を防止していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記従来装置では、露光対象35を密閉容器33中に入
れて露光しなければならないので、密閉容器33中に露
光対象35を出し入れするのに手間がかかり、露光作業
の効率が悪かった。
この発明は、前記従来の技術における欠点を解決して、
大気中での露光を可能にして、露光効率を高めたSOR
光装置におけるSOR光出射用窓装置を提供しようとす
るものである。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は、SOR光装置の光取り出しラインに配設さ
れてこの光取り出しラインを真空封止してSOR光を取
り出すベリリウム等の金属製窓と、この金属製窓の外側
に配設されて、この金属製窓の外側の面と大気とを遮断
する内部に不活性ガスが充填されたキャビティと、この
キャビティの一部に配設されてこのキャビティを通過し
てきたSOR光を大気中に出射する前記金属製窓よりも
薄いX線マスク基板材料で作られたX線マスク基板窓と
を具備してなるものである。
〔作 用〕
この発明によれば、SOR光は金属製窓からキャビティ
およびX線マスク基板窓を通って大気中に出射される。
そして、この発明によれば、金属製窓の外側にキャビテ
ィを形成して不活性ガスを充填したので、金属製窓は大
気に触れず、腐食が防止されて、強度を長期間保つこと
ができる。したがって、金属製窓および露光対象を前記
従来装置のように密閉容器中に収容して露光しなくてす
み、大気中での露光ができるので、露光作業効率が良好
となる。
また、X線マスク基板窓は、例えば窒化シリコンや窒化
ボロン等のX線マスク基板材料の薄板で構成され、ベリ
リウム等の雰;金属製窓のようには酸化されにくいので
、大気中にさらされても問題はない。また、X線マスク
基板材料は、ベリリラム等の金属製窓に比べて単位厚さ
当りのX線透過率は低く、強度も弱いが、キャビティ内
は不活性ガスが充填されていて真空ではないので、X線
マスク基板窓は薄く (例えばベリリウム窓の1/10
程度の厚さに)形成することができ、SOR光の減衰を
低く抑えることができる。
なお、SOR光の揺動に連動して金属製窓およびそれ以
後の部分をベローズを介して揺動させるようにすれば、
金属製窓およびX線マスク基板窓をSOR光の揺動範囲
に対して小面積に形成することができるので、金属製窓
およびX線マスク基板窓を薄くしても十分な強度を確保
することができ、これによりSOR光の透過率をより高
めることができる。
また、キャビティ内に外部から不活性ガスを流す流路を
形成して、不活性ガスを流すようにすれば、金属製窓の
冷却を行なうこともできる。
〔実施例〕
この発明の一実施例を第1図に示す。光取り出しライン
26の途中には、斜入射ミラー30が配設されている。
斜入射ミラー30は、無酸素銅SiC,Au、Pt等の
平面鏡で構成され、SOROR光査9射して光取り出し
ライン26端部の窓44の方向に導く。
斜入射ミラー30は軸34を支点として、上下方向に揺
動自在に支持されている。斜入射ミラー30の端部には
ミラー揺動機構36のロッド38が取り付けられている
。ロッド38はモータ40で駆動されるカム42の回転
により上下方向に動作し、斜入射ミラー30を上下方向
に揺動して、SOROR光査9下方向に揺動させて上下
方向の必要な露光面積を確保する。 光取り出しライン
26の端部にはベローズ46を介して窓部48が設けら
れている。窓部48には、窓部揺動機構52のロッド5
4が取り付けられている。ロッド54はモータ56で駆
動されるカム58の回転により上下方向に動作し、窓部
 48をベローズ46を介して上下方向に揺動させる。
窓部48のフランジ48aには窓板50が取り付けられ
て光取り出しライン26を真空封止している。窓板50
の中央部には金属製窓としてベリリウム窓44が設けら
れている。ベリリウム窓44はベリリウムの薄板(例え
ば厚さ10μm)で構成され、光取り出しライン26を
真空封止した状態でSOROR光査9り出す。
ベリリウム窓44は、第5図に正面図で示すように、上
下方向の幅がSOROR光査9動範囲(つまり、全露光
範囲)より狭く形成されている。
したがって従来のもの(第4図)よりも面積が小さいの
で、薄く形成しても強度を確保することができ、SOR
OR光査9過率を高めることができる。
第1図において、窓板50の外側には円筒状容器70が
取り付けられ、さらに円筒状容器70の開口端部は窓板
72で封止されて、円筒状容器70内にその外側の大気
82と遮断されたキャビティ74を形成している。この
キャビティ74内には大気圧または大気圧より減圧され
た不活性ガスとしてX線透過率の高いヘリウムガス80
が配管81から流されて、ベリリウム窓44を冷却して
いる。
窓板72の中央部には、X線マスク基板窓76が設けら
れている。X線マスク基板窓76は例えば窒化シリコン
、窒化ボロン等の腐食をしないまたはしにくいX線マス
ク基板材料で作られ、その厚さはヘリウムガスを封止す
るのに必要な厚さだけあればよく、例えば1μm程度に
することができる。キャビティ74を通過してきたSO
ROR光査9線マスク基板窓76から出射され、大気8
2中に置かれた露光対象 (LSI基板等)78に照射されて、露光が行なわれる
X線基板窓76は、第6図に正面図で示すように、上下
方向の幅がSOROR光査9動範囲(つまり、前露光範
囲)より狭く形成されている。
第1図において、ミラー揺動機構36のカム42の回転
位置は、パルスエンコーダ等の位置検出器60で検出さ
れる。また、窓揺動機構52のカム58の回転位置は、
パルスエンコーダ等の位置検出器62で検出される。
揺動制御手段64は、位置検出器60.62の検出に基
づき、サーボアンプ66.68を介してモータ40,5
6を同期駆動することにより、斜入射ミラー30および
窓部48を連動させる。これにより、SOROR光査9
動位置に窓44゜76が移動して、SOROR光査9射
される。
ミラー揺動機構36および窓部揺動機構52の動作を第
7図に示す。(a)のように斜入射ミラー30の右部が
上方向に揺動している時は窓部48も上方向に揺動して
、上方向に揺動しているSOROR光査944.76か
ら出射させて露光対象78の上部を露光する。また、(
b)のように斜入射ミラー30の右部が下方向に揺動し
ている時は窓部48も下方向に揺動して、下方向に揺動
しているSOROR光査944.76から出射させて露
光対象78の下部を露光する。このようにして、SOR
OR光査9動幅よりも小さい窓44.76を使用して、
SOROR光査9射して、露光対象78全体を露光する
ことができる。
このような構成によれば、ベリリウム窓44は大気82
と遮断されているので、SOROR光査9り加熱されて
も腐食することはない。したがって、前記第3図の従来
装置のように全体を密閉容器33で密閉して露光する必
要がなく、大気中で露光ができるので、露光作業効率が
良好となり、生産性が高められる。また、窓44.76
の面積を小さくできるので、窓44の板厚を薄くしても
機械的強度が十分に確保され、SOROR光査9過率を
高めて出射強度を高めることができる。
〔変更例〕
前記実施例ではベローズ46を1段としたが、2段以上
に配列すれば、より大きな揺動距離を確保することがで
きる。
また、前記実施例では、ミラー揺動機構36と窓部揺動
機構52を電気的制御により同期させるようにしたが、
同一駆動源を用いてメカ的に連動させて同期させること
もできる。
また、前記実施例では窓部48の揺動を上下方向の回転
運動としたが、上下方向の平行移動とすることもできる
また、前記実施例では、この発明をミラー揺動によるS
OR光揺動に適用した場合について説明したが蓄積リン
グ内の電子ビームの揺動によるSOR光揺動にも適用す
ることができる。
また、前記実施例では、金属製窓44にベリリウムを用
いた場合について説明したが、真空封止が可能で、かつ
SOR光を透過し、かつ大気中でSOR光が照射される
と腐食を生じるような各種金属材料を金属製窓に用いた
場合にもこの発明を適用することができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、金属製窓の外
側にキャビティを形成して不活性ガスを充填したので、
金属製窓は大気に触れず、腐食が防止されて、強度を長
期間保つことができる。したがって、金属製窓および露
光対象を前記従来装置のように密閉容器中に収容して露
光しなくてすみ、大気中での露光ができるので、露光作
業効率が良好となる。
また、SOR光の揺動に連動して金属製窓およびそれ以
後の部分をベローズを介して揺動させるようにすれば、
金属製窓およびX線マスク基板窓をSOR光の揺動範囲
に対して小面積に形成することができるので、金属製窓
およびX線マスク基板窓を薄くしても十分な強度を確保
することができ、これによりSOR光の透過率をより高
めることができる。
また、キャビティ内に外部から不活性ガスを流す流路を
形成して、不活性ガスを流すようにすれば、金属製窓の
冷却を行なうこともできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す光取り出しライン
の縦断面図および揺動機構の制御系統を示すブロック図
である。 第2図は、SOR光装置の概要を示す平面図である。 第3図は、従来の光取り出しラインの構造を示す縦断面
図である。 第4図は、第3図の窓32の形状を示す正面図である。 第5図は、第1図のベリリウム窓44の形状を示す正面
図である。 第6図は、第1図のX線マスク基板窓76の形状を示す
正面図である。 第7図は、第1図の揺動機構の揺動動作を示す縦断面図
である。 1・・・SOR光装置、26・・・光取り出しライン、
29・・・SOR光、30・・・斜入射ミラー、36・
・・ミラー揺動機構、44・・・ベリリウム窓(金属製
窓)、46・・・ベローズ、48・・・窓部、52・・
・窓部揺動機構、64・・・揺動制御手段、74・・・
キャビティ、76・・・X線マスク基板窓、78・・・
露光対象、80・・・ヘリウムガス(不活性ガス)、8
2・・・大気。 出願人  石川島播磨重工業株式会社 第5 図 72:窓板 第6図 手 続 り竹 正 書 平成 12 28゜ 年弁存月−!F@1コ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)SOR光装置の光取り出しラインに配設されてこ
    の光取り出しラインを真空封止してSOR光を取り出す
    金属製窓と、 この金属製窓の外側に配設されて、この金属製窓の外側
    の面と大気とを遮断する内部に不活性ガスが充填された
    キャビティと、 このキャビティの一部に配設されてこのキャビティを通
    過してきたSOR光を大気中に出射する前記金属製窓よ
    りも薄いX線マスク基板材料で作られたX線マスク基板
    窓と を具備してなるSOR光装置におけるSOR光出射用窓
    装置。
  2. (2)前記光取り出しラインが前記金属製窓よりも手前
    の部分にベローズを具え、SOR光の上下方向の揺動に
    同期して前記金属製窓以後の部分が上下方向に揺動され
    ることを特徴とする請求項1記載のSOR光装置におけ
    るSOR光出射用窓装置。
JP2246569A 1990-09-17 1990-09-17 Sor光装置におけるsor光出射用窓装置 Pending JPH04125500A (ja)

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