JPH04194800A - X線リソグラフィにおける露光方法 - Google Patents

X線リソグラフィにおける露光方法

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JPH04194800A
JPH04194800A JP2327416A JP32741690A JPH04194800A JP H04194800 A JPH04194800 A JP H04194800A JP 2327416 A JP2327416 A JP 2327416A JP 32741690 A JP32741690 A JP 32741690A JP H04194800 A JPH04194800 A JP H04194800A
Authority
JP
Japan
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window
light
sor
exposure
oblique incidence
Prior art date
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Pending
Application number
JP2327416A
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English (en)
Inventor
Motoharu Marushita
丸下 元治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP2327416A priority Critical patent/JPH04194800A/ja
Publication of JPH04194800A publication Critical patent/JPH04194800A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、SOR光(シンクロトロン放射光)を用い
たX線リングラフィにおいて、SOR光のビームロスを
減少させた露光方法に関する。
〔従来の技術〕
近年、シンクロトロン装置は、SOR光装置として、X
線リソグラフィによる超々LSI回路の作成等への適用
が期待されている。
SOR光装置の概要を第2図に示す。SOR光装置1に
おいて、電子発生装置(電子銃等)10て発生した電子
ビームは直線加速器(ライナック)12で光速近くに加
速され、ビーム輸送部14の偏向電磁石16て偏向され
て、インフレクタ18を介してシンクロトロンの蓄積リ
ング22内に入射される。蓄積リング22に入射された
電子ビームは高周波加速空洞21てエネルギを与えられ
ながら収束電磁石23で収束され、偏向電磁石24て偏
向されて真空ダクト22内を周回し続ける。
偏向電磁石24て偏向される時に発生するSOR光2つ
は光取り出しライン26を通して出射されて、露光装置
28に送られてX線リソグラフィによる超々LS1回路
作成用の光源等として利用される。
従来のX線リソグラフィにおける光取り出しライン26
の斜入射ミラ一部の構造を第3図に示す。
光取り出しライン26の途中には、斜入射ミラー30が
配設されている。斜入射ミラー30は、無酸素銅、5i
CSAu、Pt等の平面鏡で構成され、SOR光29を
反射して光取り出しライン26端部の窓32から出射さ
せる。
斜入射ミラー30は軸34を支点として、上下方向に揺
動自在に支持されている。斜入射ミラー30の端部には
ミラー揺動機構36のロッド38が取り付けられている
。ロッド38はモータ40で駆動されるカム42の回転
により上下方向に動作し、斜入射ミラー30を上下方向
に揺動して、SOR光29を上下方向に揺動させる。
蓄積リング22(第2図)から出射されるs。
R光29は第4図に示すように垂直方向の広がりが小さ
く、LSIのマスク31およびウェハの露光用には足り
ないため、この斜入射ミラー30の揺動によりSOR光
29を垂直方向に振って、必要な露光面積を確保する。
第3図において、SOR光29の出射用窓32は、内部
の高真空と外部の低真空を遮断しなからSOR光2つを
出射する働きを有するもので、SOR光29の透過率か
高くかつ機械的強度か強いベリリウム等の薄板か使用さ
れる。マスクやウェハはこの窓44の外側に配置されて
、この窓44から出射されたSOR光29によって露光
される。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記斜入射ミラー30を揺動した時のマスク31および
ウェハ33の露光面上でのSOR光2つの照射状態を第
5図に示す。マスク31およびウェハ33の露光領域3
5の全域を均一に露光するには、SOR光29を29′
の位置から29′の位置まで(またはその逆に)振られ
なければならない。このとき、露光領域35の上下方向
の幅をり、SOR光29の上下方向の幅をdとすると、
SOR光29の上下方向の移動距離はD+dとなり、露
光領域35の幅りに対し、dだけ余分に振られなければ
ならず、その分ビームロスとなっていた。
この発明は、前記従来の技術における問題点を解決して
、ビームロスを減少させたX線リソグラフィにおける露
光方法を提供しようとするものである。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は、SOR光装置の光取り出しライン中に斜入
射ミラーを配し、この斜入射ミラーを上下方向に揺動さ
せることにより、SOR光を上下方向に振って光取り出
しライン端部の窓部がら出射し、この出射されたSOR
光をマスクを介してウェハに照射して露光を行なうX線
リソグラフィにおける露光方法において、前記斜入射ミ
ラーに前後方向にわん曲したミラーを用いて、SOR光
を上下方向に集光させて露光を行なうようにしたことを
特徴とするものである。
〔作 用〕
この発明によれば、SOR光を上下方向に集光させて露
光を行なうようにしたので、露光面でのSOR光の上下
方向の幅か小さくなり、その分SOR光の振りが小さく
てすむので、ビームロスを減少させることができる。
なお、前記窓部を前記SOR光の上下方向の振動に同期
して上下動させることにより、窓の面積を小さくでき、
これにより窓の厚さを薄くして窓でのビームロスを減少
させることができる。
〔実施例〕
この発明の一実施例を第1図に示す。光取り出しライン
26の途中には、斜入射ミラー30′が配設されている
。斜入射ミラー30′は、無酸素銅、5iCSAu、P
t等の鏡で構成され、SOR光2つを反射して光取り出
しライン26端部の窓44の方向に導く。
斜入射ミラー30′の反射面は前後方向に楕円や円等に
よる凹状にわん曲した面に形成されている。また、左右
方向にはここでは平面に形成されている。
斜入射ミラー30′は軸34を支点として、上下方向に
揺動自在に支持されている。斜入射ミラー30 の端部
にはミラー揺動機構36のロッド38が取り付けられて
いる。ロッド38はモータ40て駆動されるカム42の
回転により上下方向に動作し、斜入射ミラー30′を上
下方向に揺動して、SOROR光合9下方向に揺動させ
て上下方向の必要な露光面積を確保する。
光取り出しライン26の端部にはへローズ46を介して
窓部48が取り付けられている。窓部48には、窓部揺
動機構52のロッド54が取り付けられている。ロッド
54はモータ56で駆動されるカム58の回転により上
下方向に動作し、窓部48をSOROR光合9下動に同
期させてベローズ46を介して上下方向に揺動させる。
窓#48のフランジには窓板5oが取り付けられ、窓板
50の中央部には窓44か取り付けられている。窓44
はベリリウム等の薄板で構成され、内部の高真空と外部
の低真空を遮断した状態てSOR光2つを出射する。
ミラー揺動機構36のカム42の回転位置は、パルスエ
ンコーダ等の位置検出器60て検出される。また、窓揺
動機構52のカム58の回転位置は、パルスエンコーダ
等の位置検出器62て検出される。
揺動制御手段64は、位置検出器60,62の検出に基
づき、サーボアンプ66.68を介してモータ40,5
6を同期駆動することにより、斜入射ミラー30′およ
び窓部48を連動させる。
これにより、SOROR光合9置に窓44か移動して、
SOROR光合9射される。
ミラー揺動機構36および窓部揺動機構52の動作を第
6図に示す。斜入射ミラー30′の右部が上方向に揺動
している時は窓部48も上方向に揺動して、上方向に揺
動しているSOROR光合944から8射させる。斜入
射ミラー3〔ビの右部が下方向に揺動している時は窓部
48も下方向に揺動して、下方向に揺動しているSOR
OR光合944から出射させる。
このようにして、全露光面積よりも小さい窓44を使用
して、SOROR光合9露光面積分出射させることがで
きる。したがって、窓44の板厚を薄くしても機械的強
度が十分に確保され、SOR光2つの透過率を高めて出
射強度を高めることかできる。
斜入射ミラー30の揺動によるマスク31およびウェハ
33に対する露光動作を第7図に示す。
斜入射ミラー30′の反射面は前後方向に楕円や円等に
よる凹状にわん曲した面に形成されているので、SOR
OR光合9入射ミラー30′で反射されると収束して、
上下方向の幅か狭くなる。そこで、マスク31およびウ
ェハ33を焦点位置fの近くに配置すれば、マスク31
やウェハ33上でのSOROR光合9下方向の幅は狭く
なる。
前記斜入射ミラー30′の揺動によるマスク31および
ウェハ33の露光面上でのSOROR光合9射状態を第
8図に示す。マスク31およびウェハ33の露光領域3
5の全域を均一に露光するには、SOROR光合99′
の位置から29′の位置まで(またはその逆に)振られ
なければならない。このとき、露光領域35の上下方向
の幅をり、SOR光2つの露光領域35の直り位置29
′での上下方向の幅をΔd′、直下位置29′での上下
方向の幅をΔd′とすると、SOROR光合9下方向の
移動距離は 集光により小さくなっているので、ビームロスは少なく
てすむ。
なお、斜入射ミラー30′の揺動に伴って、SOROR
光合9点位置fは例えば第7図に点線41で示すように
移動するが、焦点がウェハ33もしくはマスク31上に
結ぶと、この位置で露光強度が極大になって上下方向に
露光むらが生しるおそれがあるのて、ウェハ33上でS
OROR光合9点を結ばない位置にウェハ33を配置す
るのが望ましい。
ところで、第1図の実施例ではSOROR光合9下動に
連動させて窓部48を揺動させているが、これにより窓
を小面積にすることを可能にしている。すなわち、前記
第3図のような窓部を揺動させないものでは、窓32は
、第9図(a)に示すように、全露光範囲に対応した面
積が必要なため、窓32の板厚を厚くしなければ内部の
高真空を封止するに十分な強度か確保されない。窓32
は通常ベリリウム等のX線透過率の高い材料で作られる
が、それても薄く形成しなければX線の吸収量か多くな
ってしまい、第9図(a)のような厚さが必要な窓32
てはここでのビームロスが大きかった。
これに対し、窓部を揺動させることにより、窓はSOR
光を出射させるたけの上下方向の幅があればよくなるの
で、小面積に形成することができる。小面積であれば、
窓の板厚を薄くしても機械的強度か十分に確保され、S
OROR光合9過率を高めてビームロスを少なくするこ
とができる。
たたし、斜入射ミラーに従来のような平面鏡を用いた場
合にはSOROR光合9下方向の幅が広いので、第9図
(b)に示すように窓の上下方向の幅はある程度必要で
あるが、第1図のようにわん曲ミラー30を用いてSO
ROR光合9F方向に集光させると、窓44の上下方向
の幅は第9図(c)に示すように非常に狭く形成するこ
とができる。したがって、窓44の厚さをより薄くして
、よりビームロスを少なくすることかできる。
〔変更例〕
前記実施例では、マスク31やウェハ33の後方に焦点
を結ばせたか、第10図のように前方に焦点を結ばせる
こともてきる(この時もマスク31及びウェハ33上に
は焦点を結ばせない。)。
また、前記実施例では斜入射ミラー30′は左右方向に
は平面に形成したが、左右方向にも凹状にわん曲した面
に形成してSOROR光合9右方向の拡がりを集光させ
ることもてきる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明によれば、SOR光を上
下方向に収束させて露光を行なうようにしたので、露光
面でのSOR光の上下方向の幅が小さくなり、その分S
OR先の振りが小さくてすむので、ビームロスを減少さ
せることができる。
また、前記窓部を前記SOR光の上下方向の振動に同期
して上下動させることにより、窓の面積を小さくてき、
これにより窓の厚さを薄くして窓でのビームロスを減少
させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す光取り出しライン
の縦断面図および揺動機構の制御系統を示すブロック図
である。 第2図は、SOR光装置の概要を示す平面図である。 第3図は、従来の光取り出しラインの構造を示す縦断面
図である。 第4図は、第3図のSOR光位置による露光状態を示す
側面図である。 第5図は、第4図の窓44におけるマスク31およびウ
ェハ33の露光面での露光状態を示す正面図である。 第6図は、揺動機構の揺動動作を示す縦断面図である。 第7図は、第1図の窓44におけるマスク31およびウ
ェハ33の露光面での露光状態を示す正面図である。 第8図は、第7図の窓44におけるマスク3]およびウ
ェハ33の露光面での露光状態を示す正面図である。 第9図は、各種窓形状を示す正面図である。 第10図は、この発明の他の実施例を示す側面図である
。 1・・・SOR光装置、26・・光取り出しライン、2
9・・・SOR光、30.30’  ・・斜入射ミラ〜
、31・・・マスク、33・・・ウェハ、36・・・ミ
ラー揺動機構、44・・・窓、46・ベローズ、48・
窓部、52・・窓部揺動機構、64・・揺動制御手段。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)SOR光装置の光取り出しライン中に斜入射ミラ
    ーを配し、この斜入射ミラーを上下方向に揺動させるこ
    とにより、SOR光を上下方向に振って光取り出しライ
    ン端部の窓部から出射し、この出射されたSOR光をマ
    スクを介してウェハに照射して露光を行なうX線リソグ
    ラフィにおける露光方法において、 前記斜入射ミラーに前後方向にわん曲したミラーを用い
    て、SOR光を上下方向に集光させて露光を行なうよう
    にしたことを特徴とするX線リソグラフィにおける露光
    方法。
  2. (2)前記窓部を前記SOR光の上下方向の振動に同期
    して上下動させることを特徴とする請求項1記載のX線
    リソグラフィにおける露光方法。
JP2327416A 1990-11-28 1990-11-28 X線リソグラフィにおける露光方法 Pending JPH04194800A (ja)

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