JPH04126765A - ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物 - Google Patents
ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH04126765A JPH04126765A JP24705990A JP24705990A JPH04126765A JP H04126765 A JPH04126765 A JP H04126765A JP 24705990 A JP24705990 A JP 24705990A JP 24705990 A JP24705990 A JP 24705990A JP H04126765 A JPH04126765 A JP H04126765A
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- JP
- Japan
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- group
- weight
- ketone resin
- polyarylene sulfide
- sulfone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成
物に関する。更に詳しくは、ポリアリーレンサルファイ
ドケトン樹脂の結晶化速度が著しく改良されたポリアリ
ーレンサルファイドケトン樹脂組成物に関する。
物に関する。更に詳しくは、ポリアリーレンサルファイ
ドケトン樹脂の結晶化速度が著しく改良されたポリアリ
ーレンサルファイドケトン樹脂組成物に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課8]ポリア
リーレンサルファイドケトン樹脂は、卓越した耐熱性、
耐薬品性、及び難燃性を有するエンジニアリングプラス
チックとして近年注目されており、これら各種の特性を
生かし、自動車部品分野、電気電子部品分野等で大きな
需要の伸びをみせている。しかしながらこの樹脂は、射
出成形により加工する場合結晶化速度が遅いため高い金
型温度で成形しないと高結晶化度の成形品が得られない
という問題点がある。
リーレンサルファイドケトン樹脂は、卓越した耐熱性、
耐薬品性、及び難燃性を有するエンジニアリングプラス
チックとして近年注目されており、これら各種の特性を
生かし、自動車部品分野、電気電子部品分野等で大きな
需要の伸びをみせている。しかしながらこの樹脂は、射
出成形により加工する場合結晶化速度が遅いため高い金
型温度で成形しないと高結晶化度の成形品が得られない
という問題点がある。
近年では、ポリアリーレンサルファイド樹脂の結晶化核
剤としてポリフェニレンサルファイドケトン樹脂を用い
ることが知られている。(例えば、特開昭62−283
155号公報、63−260952号公報、64−79
259号公報、特開平1−282261号公報等)しか
しながら、ポリフェニレンサルファイドケトン樹脂の結
晶化速度を向上させる方法は、未だ検討されておらず、
低い金型温度で成形しても十分に結晶化し得るポリアリ
ーレンサルファイドケトン樹脂組成物の開発が望まれて
いる。
剤としてポリフェニレンサルファイドケトン樹脂を用い
ることが知られている。(例えば、特開昭62−283
155号公報、63−260952号公報、64−79
259号公報、特開平1−282261号公報等)しか
しながら、ポリフェニレンサルファイドケトン樹脂の結
晶化速度を向上させる方法は、未だ検討されておらず、
低い金型温度で成形しても十分に結晶化し得るポリアリ
ーレンサルファイドケトン樹脂組成物の開発が望まれて
いる。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、前記問題点を改善し、結晶化速度を速め、従
来よりも低い金型温度で成形しても十分に結晶化し得る
ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物を提供す
るものである。
来よりも低い金型温度で成形しても十分に結晶化し得る
ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物を提供す
るものである。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記した現状に鑑み鋭意研究を進めた結
果、ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂にジフェニ
ルスルホン及び/又はその誘導体を特定量添加すること
により結晶化速度が著しく改良されることを見出だした
。
果、ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂にジフェニ
ルスルホン及び/又はその誘導体を特定量添加すること
により結晶化速度が著しく改良されることを見出だした
。
即ち、本発明は、(A)ポリアリーレンサルファイドケ
トン樹脂70重量%〜99.5重量%、(B)下記一般
式(1)で表されるジフェニルスルホン及び/又はその
誘導体(式中R1〜R1oは各々水素原子、アルキル基
、フェニル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子
、アルキレングリコール基、ヒドロキシル基、ニトリル
基、カルボキシル基、又はアミノ基を示す。)30重量
%〜0,5重量% から成るポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物
に関する。
トン樹脂70重量%〜99.5重量%、(B)下記一般
式(1)で表されるジフェニルスルホン及び/又はその
誘導体(式中R1〜R1oは各々水素原子、アルキル基
、フェニル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子
、アルキレングリコール基、ヒドロキシル基、ニトリル
基、カルボキシル基、又はアミノ基を示す。)30重量
%〜0,5重量% から成るポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物
に関する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で用いられる成分(A)のポリアリーレンサルフ
ァイドケトン樹脂は、繰り返し単位が一般式+Ar−8
−Ar−CO+で表される結晶性高分子の中から選ばれ
る1種或いは2種以上のものである。ここで+Ar−8
−Ar−Co+は、下記の構造単位で構成されているも
のがあげられる。
ァイドケトン樹脂は、繰り返し単位が一般式+Ar−8
−Ar−CO+で表される結晶性高分子の中から選ばれ
る1種或いは2種以上のものである。ここで+Ar−8
−Ar−Co+は、下記の構造単位で構成されているも
のがあげられる。
(但し、式中R1□〜R14は各々水素原子、アルキル
基、フェニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ニトリル基、アミノ基、アルコキシル基、ヒドロ
キシル基またはスルホン酸基である。) ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂は、−般にハロ
ゲン置換芳香族化合物と硫化アルカリとの反応例えばイ
ンディアン ジャーナル オブケミストリー、21.5
01 (1982)により製造できる。また、米国特許
第4716212号公報記載によれば、得られた重合体
は、酸素雰囲気下において加熱することにより重合度を
あげることが可能である。更に、特開昭64−5403
1号公報などにより製造される高熱安定性の重合体を用
いることも可能である。
基、フェニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ニトリル基、アミノ基、アルコキシル基、ヒドロ
キシル基またはスルホン酸基である。) ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂は、−般にハロ
ゲン置換芳香族化合物と硫化アルカリとの反応例えばイ
ンディアン ジャーナル オブケミストリー、21.5
01 (1982)により製造できる。また、米国特許
第4716212号公報記載によれば、得られた重合体
は、酸素雰囲気下において加熱することにより重合度を
あげることが可能である。更に、特開昭64−5403
1号公報などにより製造される高熱安定性の重合体を用
いることも可能である。
本発明に使用するに適したポリアリーレンサルファイド
ケトン樹脂の溶融粘度(高化式フローテスターにより(
ダイス:直径0.5mm、長さ2關)365℃、10k
g荷重での測定)は、成形品を得ることができる粘度で
あれば特に限定はないが100〜50000ポアズのも
のが好ましい。100ポアズ未満のものは、機械的特性
に難点を生じ、50000ポアズを越えるものは、樹脂
の成形が困難なため好ましくない。しかし、特に好まし
くはポリフェニレンサルファイドケトン樹脂である。
ケトン樹脂の溶融粘度(高化式フローテスターにより(
ダイス:直径0.5mm、長さ2關)365℃、10k
g荷重での測定)は、成形品を得ることができる粘度で
あれば特に限定はないが100〜50000ポアズのも
のが好ましい。100ポアズ未満のものは、機械的特性
に難点を生じ、50000ポアズを越えるものは、樹脂
の成形が困難なため好ましくない。しかし、特に好まし
くはポリフェニレンサルファイドケトン樹脂である。
ポリフェニレンサルファイドケトン樹脂は、一般を持っ
た構造が70モル%以上好ましくは90モル%以上含ま
れているものであれば他の成分が共重合されたものであ
っても良い。共重合成分として、例えば、下記の構造単
位で構成されているものがあげられる。
た構造が70モル%以上好ましくは90モル%以上含ま
れているものであれば他の成分が共重合されたものであ
っても良い。共重合成分として、例えば、下記の構造単
位で構成されているものがあげられる。
(但し、式中RRは各々水素原子、アルキ15°
16 ル基、フェニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキ
シル基、ニトリル基、アミノ基、アルコキシル基、ヒド
ロキシル基又はスルホン酸基を示す。
16 ル基、フェニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキ
シル基、ニトリル基、アミノ基、アルコキシル基、ヒド
ロキシル基又はスルホン酸基を示す。
また、式中Xはメチレン、エチレン、イソプロピル、エ
ーテルを示す。) また、本発明で使用されるポリフェニレンサルファイド
ケトン樹脂は、360℃で2時間加熱したときの重量減
が0.5重量%未満であることが好ましい。加熱重量減
が0.5重量%以上であるようなオリゴマー及び不純物
が多いポリフェニレンサルファイドケトン樹脂を使用し
た場合、分解発生ガスによる機械強度の低下及び腐蝕や
成形加工時における溶融流れの急激な変化を誘発する場
合がある。また、重合後有機溶媒千よる洗浄や熱処理に
よる架橋などの後処理によって重量減が0゜5重量%未
満としたものを使用することもできる。
ーテルを示す。) また、本発明で使用されるポリフェニレンサルファイド
ケトン樹脂は、360℃で2時間加熱したときの重量減
が0.5重量%未満であることが好ましい。加熱重量減
が0.5重量%以上であるようなオリゴマー及び不純物
が多いポリフェニレンサルファイドケトン樹脂を使用し
た場合、分解発生ガスによる機械強度の低下及び腐蝕や
成形加工時における溶融流れの急激な変化を誘発する場
合がある。また、重合後有機溶媒千よる洗浄や熱処理に
よる架橋などの後処理によって重量減が0゜5重量%未
満としたものを使用することもできる。
本発明で用いられる成分(B)はジフェニルスルホン及
びその誘導体の中から1つ或いは2つ以上が選ばれて用
いられる。
びその誘導体の中から1つ或いは2つ以上が選ばれて用
いられる。
ジフェニルスルホン及びその誘導体は、下記一般式(I
) (R,〜R1oは各々水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリルオキシ基、フェニル基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子、アルキングリコール基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、又はアミノ基を示す。) で示される。例えば、ジフェニルスルホン、フェニル−
p−トリルスルホン、フェニル−m−トリルスルホン、
ビス(4−トリル)スルホン、ビス(3−トリル)スル
ホン、ビス(3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビ
ス(3,5−ジメトキシフェニル)スルホン、ビス(4
−メトキシフェニル)スルホン、ビス(3−メトキシフ
ェニル)スルホン、ビス(4−エトキシフェニル)スル
ホン、ビス(3−エトキシフェニル)スルホン、ビス(
3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)スルホン、
ビス(3,5−ジメチル−4−エトキシフェニル)スル
ホン、ビス(4−アリルオキシフェニル)スルホン、p
−フルオロフェニルフェニルスルホン、ビス(4−フル
オロフェニル)スルホン、ビス(4−クロロフェニル)
スルホン、ビス(4−ブロモフェニル)スルホン、4−
フルオロフェニルトリルスルホン、p−フルオロフェニ
ル−p−メトキシフェニルスルホン、4−フルオロ−3
−二トロフェニル−3−二トロフェニルスルホン、4−
フルオロ−3−ニトロフェニルスルホン、4−クロロフ
ェニル−4−フルオロフェニルスルホン、p−クロロフ
ェニルフェニルスルホン、ビス(4−クロロフェニル)
スルホン、2゜4.4−.5−テトラクロロジフェニル
スルホン、ビス(4−クロロ−3−二トロフェニル)ス
ルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、4.4−−スルホニルジベンジルアルコール、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、4.4−−スルホニルジベンゾイックアシッド、
4.4=−スルホニルビス(メチルベンゾエート)、ビ
ス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−アミノ
フェニル)スルホン等が挙げられるが、用いるポリアリ
ーレンサルファイドケトンの加工温度よりも沸点が高い
ことが望ましい。
) (R,〜R1oは各々水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリルオキシ基、フェニル基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子、アルキングリコール基、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、又はアミノ基を示す。) で示される。例えば、ジフェニルスルホン、フェニル−
p−トリルスルホン、フェニル−m−トリルスルホン、
ビス(4−トリル)スルホン、ビス(3−トリル)スル
ホン、ビス(3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビ
ス(3,5−ジメトキシフェニル)スルホン、ビス(4
−メトキシフェニル)スルホン、ビス(3−メトキシフ
ェニル)スルホン、ビス(4−エトキシフェニル)スル
ホン、ビス(3−エトキシフェニル)スルホン、ビス(
3,5−ジメチル−4−メトキシフェニル)スルホン、
ビス(3,5−ジメチル−4−エトキシフェニル)スル
ホン、ビス(4−アリルオキシフェニル)スルホン、p
−フルオロフェニルフェニルスルホン、ビス(4−フル
オロフェニル)スルホン、ビス(4−クロロフェニル)
スルホン、ビス(4−ブロモフェニル)スルホン、4−
フルオロフェニルトリルスルホン、p−フルオロフェニ
ル−p−メトキシフェニルスルホン、4−フルオロ−3
−二トロフェニル−3−二トロフェニルスルホン、4−
フルオロ−3−ニトロフェニルスルホン、4−クロロフ
ェニル−4−フルオロフェニルスルホン、p−クロロフ
ェニルフェニルスルホン、ビス(4−クロロフェニル)
スルホン、2゜4.4−.5−テトラクロロジフェニル
スルホン、ビス(4−クロロ−3−二トロフェニル)ス
ルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、4.4−−スルホニルジベンジルアルコール、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、4.4−−スルホニルジベンゾイックアシッド、
4.4=−スルホニルビス(メチルベンゾエート)、ビ
ス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−アミノ
フェニル)スルホン等が挙げられるが、用いるポリアリ
ーレンサルファイドケトンの加工温度よりも沸点が高い
ことが望ましい。
また成分(B)の添加量は成分(A)と成分(B)の合
計量に対して0.5重量%〜30重量%である。添加量
が0.5重量%未満の場合では、結晶化速度を速める効
果が少なくなるため好ましくない。一方、添加量が30
重量%を越えると、機械物性が著しく低下するため好ま
しくない。
計量に対して0.5重量%〜30重量%である。添加量
が0.5重量%未満の場合では、結晶化速度を速める効
果が少なくなるため好ましくない。一方、添加量が30
重量%を越えると、機械物性が著しく低下するため好ま
しくない。
本発明の組成物に結晶核剤を併用すると、−層結晶化速
度が速くなり、本発明の効果は一段と増大する。この目
的に使用する結晶核剤としては、シリカ、カオリン、タ
ルク、ハイトロン、ボロンナイトライド等の無機物や、
ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、
安息香酸カルシウム、シュウ酸ナトリウム、フタル酸三
ナトリウム、トリメリット酸三ナトリウム、ピロメリッ
ト酸四カリウム等の有機カルボン酸金属塩を用いること
ができる。
度が速くなり、本発明の効果は一段と増大する。この目
的に使用する結晶核剤としては、シリカ、カオリン、タ
ルク、ハイトロン、ボロンナイトライド等の無機物や、
ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、
安息香酸カルシウム、シュウ酸ナトリウム、フタル酸三
ナトリウム、トリメリット酸三ナトリウム、ピロメリッ
ト酸四カリウム等の有機カルボン酸金属塩を用いること
ができる。
これらの結晶核剤の添加量は本発明の組成物に対して0
.05重量%〜10重量%てあれば充分であり好ましく
は0.1重量%〜5重量%である。
.05重量%〜10重量%てあれば充分であり好ましく
は0.1重量%〜5重量%である。
添加量が0.05重量%未満の場合では結晶化の促進効
果が小さい場合がある。
果が小さい場合がある。
更に、本発明の組成物には、必要に応じて一般の成形用
樹脂組成物中に充填される種々の物質を配合することが
できる。そのような物質としては繊維状(例えば炭素繊
維、ガラス繊維、アラミド繊維、アスベスト繊維、チタ
ン酸カリウム繊維など)、鱗片状(マイカ、グラファイ
ト、ガラスフレーク、アルミニウムフレークなど)ある
いは粉末状(炭酸カルシウム、クレー、硫酸亜鉛など)
の補強用、非補強用充填剤、顔料及びその他の着色剤、
光及び熱安定化剤、離型剤、可塑剤、難燃化剤、発泡剤
又は特殊な添加剤、例えば重合体靭性付与剤等が含まれ
る。上記充填剤の配合量は、本発明の組成物に対して0
.5重量%〜70重量%であり好ましくは10重量%〜
60重量%である。配合量が70重量%を越えると、成
形加工時の流動性が悪くなる場合がある。
樹脂組成物中に充填される種々の物質を配合することが
できる。そのような物質としては繊維状(例えば炭素繊
維、ガラス繊維、アラミド繊維、アスベスト繊維、チタ
ン酸カリウム繊維など)、鱗片状(マイカ、グラファイ
ト、ガラスフレーク、アルミニウムフレークなど)ある
いは粉末状(炭酸カルシウム、クレー、硫酸亜鉛など)
の補強用、非補強用充填剤、顔料及びその他の着色剤、
光及び熱安定化剤、離型剤、可塑剤、難燃化剤、発泡剤
又は特殊な添加剤、例えば重合体靭性付与剤等が含まれ
る。上記充填剤の配合量は、本発明の組成物に対して0
.5重量%〜70重量%であり好ましくは10重量%〜
60重量%である。配合量が70重量%を越えると、成
形加工時の流動性が悪くなる場合がある。
さらに必要に応じて、ポリエチレン、ポリブタジェン、
ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリスチレン、ポ
リブテン、ポリα−メチルスチレン、ポリ酢酸ビニル、
ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、
ナイロン6゜6、ナイロン6.10、ナイロン12、ナ
イロン11、ナイロン4,6等のポリアミド、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ボ
リアリレート、液晶ポリマー等のポリエステル、ポリウ
レタン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェ
ニレンオキシド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
、ポリアリルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、
シリコーン樹脂、フェノキシ樹脂、フッ素樹脂などの単
独重合体、ランダム又はブロック、グラフト共重合体の
一種以上を混合して使用することもできる。
ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリスチレン、ポ
リブテン、ポリα−メチルスチレン、ポリ酢酸ビニル、
ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、
ナイロン6゜6、ナイロン6.10、ナイロン12、ナ
イロン11、ナイロン4,6等のポリアミド、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ボ
リアリレート、液晶ポリマー等のポリエステル、ポリウ
レタン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェ
ニレンオキシド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
、ポリアリルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、
シリコーン樹脂、フェノキシ樹脂、フッ素樹脂などの単
独重合体、ランダム又はブロック、グラフト共重合体の
一種以上を混合して使用することもできる。
[実施例コ
つぎに実施例及び比較例を示して本説明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
なお、以下の実施例で用いたポリアリーレンスルフィド
ケトン樹脂組成物の結晶化速度は、溶融したサンプルを
急冷することにより得た非晶サンプルを用い、DSC(
セイコー電子工業■製、DSC−200型)にて10℃
/ m i nの昇温速度で昇温した際の冷結晶化温度
を測定することにより評価した。
ケトン樹脂組成物の結晶化速度は、溶融したサンプルを
急冷することにより得た非晶サンプルを用い、DSC(
セイコー電子工業■製、DSC−200型)にて10℃
/ m i nの昇温速度で昇温した際の冷結晶化温度
を測定することにより評価した。
参考例1
本発明に用いたポリフエニレンス刀フィトケトン樹脂(
以下PP5Kと略す)は、以下のようにして合成した。
以下PP5Kと略す)は、以下のようにして合成した。
撹拌機を装置する内容積15gのオートクレーブにN−
メチル−2−ピロリドン7g、硫化ナトリウム(N a
2 S ・60 、4重量%)678g(5,26モ
ル)、4.4−−ジクロロベンゾフェノン1331g
(5,36モル)を仕込み、撹拌下150℃で3時間、
さらに260℃で3時間反応させた。
メチル−2−ピロリドン7g、硫化ナトリウム(N a
2 S ・60 、4重量%)678g(5,26モ
ル)、4.4−−ジクロロベンゾフェノン1331g
(5,36モル)を仕込み、撹拌下150℃で3時間、
さらに260℃で3時間反応させた。
反応終了後、室温まで冷却し、遠心分離機でろ過し、ポ
リマーとろ液を分離した。
リマーとろ液を分離した。
さらに、ポリマーは水7gとともに180℃で洗浄し、
遠心分離機でろ過し、ポリマーと水を分離した。
遠心分離機でろ過し、ポリマーと水を分離した。
次に、100℃で1晩乾燥し、1070g (収率96
96)のPP5Kを得た。DSCの測定より、このPP
5Kの融点は350℃、ガラス転移点137℃であった
。還元粘度[η]−0,48(HSo O,5g/
dρ、30℃)であっ2 4゛ た。高化式フロテスターを用いて測定した溶融粘度(3
65℃)は920ポイズであった。
96)のPP5Kを得た。DSCの測定より、このPP
5Kの融点は350℃、ガラス転移点137℃であった
。還元粘度[η]−0,48(HSo O,5g/
dρ、30℃)であっ2 4゛ た。高化式フロテスターを用いて測定した溶融粘度(3
65℃)は920ポイズであった。
実施例1
参考例1のPP5K95重量%とジフェニルスルホン(
東京化成工業社製)5重量%をラボブラストミルミキサ
ーR−60(東洋精機型)を用いて360℃、75rp
mで5分間溶融混練した。
東京化成工業社製)5重量%をラボブラストミルミキサ
ーR−60(東洋精機型)を用いて360℃、75rp
mで5分間溶融混練した。
混線後サンプルのガラス転移点(Tg)、冷結晶化温度
(Tc)、融点(Tm)をDSC(セイコー電子工業■
製、DSC−200型)で測定した。
(Tc)、融点(Tm)をDSC(セイコー電子工業■
製、DSC−200型)で測定した。
結果を第1表に示す。
実施例2
参考例1のPP5K90重量%とジフェニルスルホン1
0重量%を実施例1と同様の方法により360℃で5分
間溶融混練した。混練後サンプルのガラス転移点(Tg
)、冷結晶化温度(Tc)、融点(Tm)をDSC(セ
イコー電子工業■製。
0重量%を実施例1と同様の方法により360℃で5分
間溶融混練した。混練後サンプルのガラス転移点(Tg
)、冷結晶化温度(Tc)、融点(Tm)をDSC(セ
イコー電子工業■製。
DSC−200型)で測定した。結果を第1表に示す。
比較例1
参考例1のPP5Kを実施例1と同様の方法により36
0℃で5分間溶融混練した。混練後サンプルのガラス転
移点(Tg)、冷結晶化温度(TC)、融点(Tm)を
DSC(セイコー電子工業■製、DSC−200型)で
測定した。結果を第1表に示す。
0℃で5分間溶融混練した。混練後サンプルのガラス転
移点(Tg)、冷結晶化温度(TC)、融点(Tm)を
DSC(セイコー電子工業■製、DSC−200型)で
測定した。結果を第1表に示す。
[発明の効果コ
本発明によれば、著しく結晶化速度の速いポリアリーレ
ンサルファイドケトン樹脂組成物が得られ、低い金型温
度での射出成形においても十分に結晶化した成形品を得
ることができる。
ンサルファイドケトン樹脂組成物が得られ、低い金型温
度での射出成形においても十分に結晶化した成形品を得
ることができる。
Claims (1)
- (1)(A)ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂7
0重量%〜99.5重量%、 (B)下記一般式( I )で表されるジフェニルスルホ
ン及び/又はその誘導体(式中R_1〜R_1_0は各
々水素原子、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、
ニトロ基、ハロゲン原子、アルキレングリコール基、ヒ
ドロキシル基、ニトリル基、カルボキシル基、又はアミ
ノ基を示す。)30重量%〜0.5重量% ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) から成るポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24705990A JPH04126765A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24705990A JPH04126765A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04126765A true JPH04126765A (ja) | 1992-04-27 |
Family
ID=17157811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24705990A Pending JPH04126765A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | ポリアリーレンサルファイドケトン樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04126765A (ja) |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP24705990A patent/JPH04126765A/ja active Pending
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