JPH04128253A - カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 - Google Patents
カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法Info
- Publication number
- JPH04128253A JPH04128253A JP24915190A JP24915190A JPH04128253A JP H04128253 A JPH04128253 A JP H04128253A JP 24915190 A JP24915190 A JP 24915190A JP 24915190 A JP24915190 A JP 24915190A JP H04128253 A JPH04128253 A JP H04128253A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- calixarene
- pattern
- film
- methyl
- acetylated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、多種の有機溶剤に対し高溶解性を示すカリッ
クスアレーン誘導体に関するものである。
クスアレーン誘導体に関するものである。
（従来の技術）
カリックスアレーンは、フェノール・ホルムアルデヒド
の縮合により生成する環状オリゴマーである。カリック
スアレーンおよびカリックスアレーン誘導体は、シクロ
デキストリンやクラウンエーテル類と同様に包接能を有
することが近年明らかにされ、水溶性カリックスアレー
ンの合成が研究され、水溶液中の包接が報告されており
、海水中ウラニルイオンの回収などを目的としたカリッ
クスアレーン誘導体の研究なども行われている。また、
カリックスアレーンは、その特徴から優れた機能性材料
となることが期待でき、本出願人は既にカリックスアレ
ーンをフィルム化することを提案した。
の縮合により生成する環状オリゴマーである。カリック
スアレーンおよびカリックスアレーン誘導体は、シクロ
デキストリンやクラウンエーテル類と同様に包接能を有
することが近年明らかにされ、水溶性カリックスアレー
ンの合成が研究され、水溶液中の包接が報告されており
、海水中ウラニルイオンの回収などを目的としたカリッ
クスアレーン誘導体の研究なども行われている。また、
カリックスアレーンは、その特徴から優れた機能性材料
となることが期待でき、本出願人は既にカリックスアレ
ーンをフィルム化することを提案した。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、機能性材料として用いるには、有機溶剤
に対し高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体が必要
である。今までに知られているカリックスアレーンおよ
びカリックスアレーン誘導体は、非常に溶解性が低く
（０，１ｗｔ％以下）、これを機能性材料として用いた
報告（マルコヴイツツ、ヤヌート、カスドナー、リーガ
ン（Ｍｉｃｈａｅｌ Ａ Ｍａｒｋｏｗｉｔｚ。
に対し高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体が必要
である。今までに知られているカリックスアレーンおよ
びカリックスアレーン誘導体は、非常に溶解性が低く
（０，１ｗｔ％以下）、これを機能性材料として用いた
報告（マルコヴイツツ、ヤヌート、カスドナー、リーガ
ン（Ｍｉｃｈａｅｌ Ａ Ｍａｒｋｏｗｉｔｚ。
Ｖａｃｌａｗ Ｊａｎｏｕｕｔ、 Ｄａｖｉｄ Ｇ、
Ｇａ５ｔｎｅｒ、 ａｎｄ ５ｔｅｖｅｎ Ｌ。
Ｇａ５ｔｎｅｒ、 ａｎｄ ５ｔｅｖｅｎ Ｌ。
Ｒｅｇｅｎ）ジャーナルオブアメリカンケミカルソサエ
テイ（Ｊ、 Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、）１９８９
．１１１．８１９２−８２００）は５００Ａ以下のフィ
ルムについてのみであった。本発明者は有機溶剤に対す
る溶解度を向上させる手段として大きなアルキル基を有
するカリックスアレーン、例えば、オクチルーカリツク
スアレーン、ドデシルーカリツクスアレーンなどを合成
し検討したが、溶解性の向上はなかった。また、アセチ
ル化も効果的と思われたのでｔ−プチルーカリツクスア
レーンをアセチル化したが溶解性に大きな向上は見られ
なかった。
テイ（Ｊ、 Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、）１９８９
．１１１．８１９２−８２００）は５００Ａ以下のフィ
ルムについてのみであった。本発明者は有機溶剤に対す
る溶解度を向上させる手段として大きなアルキル基を有
するカリックスアレーン、例えば、オクチルーカリツク
スアレーン、ドデシルーカリツクスアレーンなどを合成
し検討したが、溶解性の向上はなかった。また、アセチ
ル化も効果的と思われたのでｔ−プチルーカリツクスア
レーンをアセチル化したが溶解性に大きな向上は見られ
なかった。
本発明の目的は、有機溶剤に対して高溶解性を示すカリ
ックスアレーン誘導体を提供することにあり、また、そ
のフィルムおよびそのパターン形成方法を提供するもの
である。
ックスアレーン誘導体を提供することにあり、また、そ
のフィルムおよびそのパターン形成方法を提供するもの
である。
（課題を解決するための手段）
本発明者は、新規な化合物としてメチルーカリックスア
レーンのアセチル化物の合成に成功し、この材料が多く
の溶剤（例；ピリジン、クロロポルム、ジクロロメタン
）などに対して高溶解性を示すのみでなく、その化合物
を有機溶剤（例；トルエン、モノクロロベンゼン、キシ
レン）に溶かし、スピンコード法により、膜厚のフィル
ムを得ることが可能であることを見だした。
レーンのアセチル化物の合成に成功し、この材料が多く
の溶剤（例；ピリジン、クロロポルム、ジクロロメタン
）などに対して高溶解性を示すのみでなく、その化合物
を有機溶剤（例；トルエン、モノクロロベンゼン、キシ
レン）に溶かし、スピンコード法により、膜厚のフィル
ムを得ることが可能であることを見だした。
（実施例）
実施例１（合成）
ｐ−クレゾール１８．７ｇをキシレン１５０ｍ１に溶か
しパラホルムアルデヒド９ｇを加え、さらに、ＩＯＮの
水酸化カリウム水溶液０．４ｍｌを加えた。これを、４
時間加熱還流し、析出物ろ過し、アセトン、エタノール
で洗浄、乾燥した。さらに、エタノールと水の混合溶液
で洗浄、乾燥し、メチルーカリックスアレーンを１０．
３ｇ得た。
しパラホルムアルデヒド９ｇを加え、さらに、ＩＯＮの
水酸化カリウム水溶液０．４ｍｌを加えた。これを、４
時間加熱還流し、析出物ろ過し、アセトン、エタノール
で洗浄、乾燥した。さらに、エタノールと水の混合溶液
で洗浄、乾燥し、メチルーカリックスアレーンを１０．
３ｇ得た。
得られたメチルーカリックスアレーン３．０ｇをピリジ
ン３０ｍ１に溶かし無水酢酸１ｍｌを加え、室温で３０
分撹はんした。この反応溶液を３００ｍ１の水にあけ、
析出物をろ過、乾燥し、メチルーカリックスアレーンの
アセチル化物３．７ｇを得た。
ン３０ｍ１に溶かし無水酢酸１ｍｌを加え、室温で３０
分撹はんした。この反応溶液を３００ｍ１の水にあけ、
析出物をろ過、乾燥し、メチルーカリックスアレーンの
アセチル化物３．７ｇを得た。
ＩＲ（第１図）、ＮＭＲ（第２図）、マススペクトルデ
ータ（９７２）より、生成物はメチル力リッスク［６］
アレーン・アセチル化物と同定できた。
ータ（９７２）より、生成物はメチル力リッスク［６］
アレーン・アセチル化物と同定できた。
この生成物をアセトンに溶解させ強く撹はんすると、数
分後に析出物を得、これを濾過・乾燥して、メチルーカ
リックス［６］アレーンのアセチル化物の異性体を得た
。この異性体についてはＩＲ。
分後に析出物を得、これを濾過・乾燥して、メチルーカ
リックス［６］アレーンのアセチル化物の異性体を得た
。この異性体についてはＩＲ。
ＮＭＲ，マススペクトルのデータは同じである。
実施例２（フィルム）
メチルーカリックスアレーンのアセチル化物の１０ｗｔ
％トルエン溶液を調整し、それを０．２ｐｍフィルター
に通した後に、スピンコード法によりシリコン基板上に
フィルム化した。スピンコードは回転数３０Ｏｒｐｍで
５秒、ひきつづき、１５００ｒｐｍで６０秒行った。こ
れを、窒素中１００°Ｃで３０分ベーキングを行った。
％トルエン溶液を調整し、それを０．２ｐｍフィルター
に通した後に、スピンコード法によりシリコン基板上に
フィルム化した。スピンコードは回転数３０Ｏｒｐｍで
５秒、ひきつづき、１５００ｒｐｍで６０秒行った。こ
れを、窒素中１００°Ｃで３０分ベーキングを行った。
膜厚的０．４５μｍの均一なフィルムが得られた。
実施例３（パターン形成）
実施例２で得られたフィルムにイオンビームを選択的に
照射（日本電子ＪＩＢＬ−１５０集束イオンビーム描画
装置、イオン種；Ｂｅ、加速エネルギー；２６０ＫｅＶ
、ビーム電流； ９．６ｐＡ、ビーム径；約０．１μｍ
、露光量； 、４．ＯＸ １０１ｏｎｓ／ｃｍ ） し
て重合し、ついで、エタノールで３０秒未照射部を溶解
除去させ、８０°Ｃで３０分ボストベークを行うことに
よりパターンを形成した。ＳＥＭでパターン形状を観察
したところ、角型性の良いパターンが０．１ｍｍ幅のパ
ターンも正確に形成された。また、３００°Ｃで３０分
加熱したが、形状に変化はなかった。これは、電子線、
Ｘ線でも同様であった。
照射（日本電子ＪＩＢＬ−１５０集束イオンビーム描画
装置、イオン種；Ｂｅ、加速エネルギー；２６０ＫｅＶ
、ビーム電流； ９．６ｐＡ、ビーム径；約０．１μｍ
、露光量； 、４．ＯＸ １０１ｏｎｓ／ｃｍ ） し
て重合し、ついで、エタノールで３０秒未照射部を溶解
除去させ、８０°Ｃで３０分ボストベークを行うことに
よりパターンを形成した。ＳＥＭでパターン形状を観察
したところ、角型性の良いパターンが０．１ｍｍ幅のパ
ターンも正確に形成された。また、３００°Ｃで３０分
加熱したが、形状に変化はなかった。これは、電子線、
Ｘ線でも同様であった。
以上の実施例は６量体について述べたが、４〜８量体は
、以上のような合成法のうち塩基性触媒の規走度を変え
ることにより、それぞれつくりわけることができる。又
−ユニットずつ縮合していく逐次合成法によってもつく
りわけることができる。
、以上のような合成法のうち塩基性触媒の規走度を変え
ることにより、それぞれつくりわけることができる。又
−ユニットずつ縮合していく逐次合成法によってもつく
りわけることができる。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、多種の有機溶剤に対し
高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体であるメチル
ーカリックスアレーンのアセチル化物を得、また、この
化合物により、厚いフィルムを得ることが可能となり、
また、それのパターン形成も可能となった。このように
、高溶解性カリックスアレーン誘導体を得たことにより
、カリックスアレーンの機能性材料への応用の可能性を
広げた。
高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体であるメチル
ーカリックスアレーンのアセチル化物を得、また、この
化合物により、厚いフィルムを得ることが可能となり、
また、それのパターン形成も可能となった。このように
、高溶解性カリックスアレーン誘導体を得たことにより
、カリックスアレーンの機能性材料への応用の可能性を
広げた。
第１図、第２図はそれぞれメチルーカリックスアレーン
のアセチル化物の赤外吸収スペクトルの図とプロトンＮ
ＭＲのスペクトルの図である。
のアセチル化物の赤外吸収スペクトルの図とプロトンＮ
ＭＲのスペクトルの図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下の構造式で示されるメチル−カリックスアレーン
のアセチル化物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ２、メチル−カリックスアレーンのアセチル化物より形
成されたフィルム。 ３、基板上に形成された請求項２のフィルムに、高エネ
ルギー線を選択的に照射し、次いで溶剤により未照射部
を溶解除去するパターン形成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915190A JPH0723340B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
| US07/694,491 US5143784A (en) | 1990-05-10 | 1991-05-02 | Soluble calixarene derivative and films thereof |
| EP91304191A EP0456497B1 (en) | 1990-05-10 | 1991-05-09 | Soluble calixarene derivative and films thereof |
| DE69110975T DE69110975T2 (de) | 1990-05-10 | 1991-05-09 | Lösliches Calixarenderivat und Filme von diesem. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915190A JPH0723340B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04128253A true JPH04128253A (ja) | 1992-04-28 |
| JPH0723340B2 JPH0723340B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=17188668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24915190A Expired - Fee Related JPH0723340B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0723340B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09173957A (ja) * | 1995-12-26 | 1997-07-08 | Nec Corp | 基板表面の平坦化方法 |
| JPH09236919A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-09 | Nec Corp | 超微細パタン形成方法及び超微細エッチング方法 |
| JP2000301500A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-31 | Lg Electronics Inc | 感光性ガラス基板を利用したマイクロ構造物の製造方法 |
| JP2017088847A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-05-25 | 学校法人 関西大学 | 高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP24915190A patent/JPH0723340B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09173957A (ja) * | 1995-12-26 | 1997-07-08 | Nec Corp | 基板表面の平坦化方法 |
| JPH09236919A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-09 | Nec Corp | 超微細パタン形成方法及び超微細エッチング方法 |
| JP2000301500A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-31 | Lg Electronics Inc | 感光性ガラス基板を利用したマイクロ構造物の製造方法 |
| JP2017088847A (ja) * | 2015-08-24 | 2017-05-25 | 学校法人 関西大学 | 高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0723340B2 (ja) | 1995-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5143784A (en) | Soluble calixarene derivative and films thereof | |
| JP2562178B2 (ja) | 感光層形成材料用の放射線感応性混合物 | |
| TW200536810A (en) | Calixarene compound, method for menufacturing same, intermediate of same, and composition containing same | |
| KR20160040466A (ko) | 풀러렌 | |
| JPS6121957B2 (ja) | ||
| EP1734032A1 (en) | Calixresorcinarene compounds, photoresist base materials, and compositions thereof | |
| JPH0219849A (ja) | 感放射線混合物及びレリーフパターン作製方法 | |
| JPH04128253A (ja) | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 | |
| He et al. | NIR‐Sensitized Activated Formation of Lophyl Radicals by Heptamethine Cyanines Enables Dry Film Photoresists | |
| JPH0415232A (ja) | カリックスアレーンおよび／またはカリックスアレーン誘導体のフィルムおよびその製造法 | |
| Aoai et al. | Application of silylether and silylester polymer for chemical amplification system | |
| Maekawa et al. | Higher sensitive extreme ultraviolet (EUV) resist materials derived from pt-Butylcalix [n] arenes (n= 4 and 8) | |
| US9290435B2 (en) | Molecular glass of spirofluorene derivative, preparation method thereof and use thereof in photo-etching | |
| JP2740240B2 (ja) | カリックスアレーン誘導体 | |
| Maekawa et al. | Design of High-sensitive Resist Materials Based on Polyacetals | |
| JP6304644B2 (ja) | ハイパーブランチポリマー | |
| JP2964109B2 (ja) | ポジ型レジスト材料 | |
| JPH01139609A (ja) | 陽イオン硬化組成物と光硬化組成物 | |
| JP3374170B2 (ja) | 光制御金属イオン捕捉剤及びそれを用いた金属イオン回収方法 | |
| JP2005139302A (ja) | ポリイミド前駆体およびこれを含む感光性ポリアミック酸ワニス | |
| JP2893923B2 (ja) | 組成物およびそのフイルムおよびそのパターン形成方法 | |
| JPH07252214A (ja) | スルホニウム塩及びレジスト材料 | |
| JPH06228032A (ja) | 組成物および膜製造方法 | |
| JPH04248554A (ja) | 酸不安定基を有する感放射線性混合物ならびにレリーフパターンおよび画像の形成方法 | |
| KR950006903B1 (ko) | 알킬 술폰닐옥시 벤조페논계 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 화학증폭형 포토레지스트 조성물 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080315 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090315 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090315 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100315 Year of fee payment: 15 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |