JPH0723340B2 - カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 - Google Patents
カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法Info
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、多種の有機溶剤に対し高溶解性を示すカリッ
クスアレーン誘導体に関するものである。
クスアレーン誘導体に関するものである。
（従来の技術） カリックスアレーンは、フェノール・ホルムアルデヒド
の縮合により生成する環状オリゴマーである。カリック
スアレーンおよびカリックスアレーン誘導体は、シクロ
デキストリンやクラウンエーテル類と同様に包接能を有
することが近年明らかにされ、水溶性カリックスアレー
ンの合成が研究され、水溶液中の包接が報告さており、
海水中ウラニルイオンの回収などを目的としたカリック
スアレーン誘導体の研究なども行われている。また、カ
リックスアレーンは、その特徴から優れた機能性材料と
なることが期待でき、本出願人は既にカリックスアレー
ンをフィルム化することを提案した。
の縮合により生成する環状オリゴマーである。カリック
スアレーンおよびカリックスアレーン誘導体は、シクロ
デキストリンやクラウンエーテル類と同様に包接能を有
することが近年明らかにされ、水溶性カリックスアレー
ンの合成が研究され、水溶液中の包接が報告さており、
海水中ウラニルイオンの回収などを目的としたカリック
スアレーン誘導体の研究なども行われている。また、カ
リックスアレーンは、その特徴から優れた機能性材料と
なることが期待でき、本出願人は既にカリックスアレー
ンをフィルム化することを提案した。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、機能性材料として用いるには、有機溶剤
に対し高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体が必要
である。今までに知られているカリックスアレーンおよ
びカリックスアレーン誘導体は、非常に溶解性が低く
（0.1wt％以下）、これを機能性材料として用いた報告
（マルコヴィッツ，ヤヌート，カストナー，リーガン
（Michael A Markowitz,Vaclaw Janouut,David G.Gastn
er,and Steven L.Regen）ジャーナル オブ アメリカ
ン ケミカル ソサエテイ（J.Am.Chem.Soc.）1989,11
1,8192−8200）は500Å以下のフイルムについてのみで
あった。本発明者は有機溶剤に対する溶解度を向上させ
る手段として大きなアルキル基を有するカリックスアレ
ーン、例えば、オクチル−カリックスアレーン、ドデシ
ル−カリックスアレーンなどを合成し検討したが、溶解
性の向上はなかった。また、アセチル化も効果的と思わ
れたのでｔ−ブチル−カリックスアレーンをアセチル化
したが溶解性に大きな向上は見られなかった。
に対し高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体が必要
である。今までに知られているカリックスアレーンおよ
びカリックスアレーン誘導体は、非常に溶解性が低く
（0.1wt％以下）、これを機能性材料として用いた報告
（マルコヴィッツ，ヤヌート，カストナー，リーガン
（Michael A Markowitz,Vaclaw Janouut,David G.Gastn
er,and Steven L.Regen）ジャーナル オブ アメリカ
ン ケミカル ソサエテイ（J.Am.Chem.Soc.）1989,11
1,8192−8200）は500Å以下のフイルムについてのみで
あった。本発明者は有機溶剤に対する溶解度を向上させ
る手段として大きなアルキル基を有するカリックスアレ
ーン、例えば、オクチル−カリックスアレーン、ドデシ
ル−カリックスアレーンなどを合成し検討したが、溶解
性の向上はなかった。また、アセチル化も効果的と思わ
れたのでｔ−ブチル−カリックスアレーンをアセチル化
したが溶解性に大きな向上は見られなかった。
本発明の目的は、有機溶剤に対して高溶解性を示すカリ
ックスアレーン誘導体を提供することにあり、また、そ
のフィルムおよびそのパターン形成方法を提供するもの
である。
ックスアレーン誘導体を提供することにあり、また、そ
のフィルムおよびそのパターン形成方法を提供するもの
である。
（課題を解決するための手段） 本発明者は、新規な化合物としてメチル−カリックスア
レーンのアセチル化物の合成に成功し、この材料が多く
の溶剤（例；ピリジン、クロロホルム、ジクロロメタ
ン）などに対して高溶解性を示すのみでなく、その化合
物を有機溶剤（例；トルエン、モノクロロベンゼン、キ
シレン）に溶かし、スピンコート法により、膜厚のフィ
ルムを得ることが可能であること見だした。
レーンのアセチル化物の合成に成功し、この材料が多く
の溶剤（例；ピリジン、クロロホルム、ジクロロメタ
ン）などに対して高溶解性を示すのみでなく、その化合
物を有機溶剤（例；トルエン、モノクロロベンゼン、キ
シレン）に溶かし、スピンコート法により、膜厚のフィ
ルムを得ることが可能であること見だした。
（実施例） 実施例１（合成） ｐ−クレーゾール18.7gをキシレン150mlに溶かしパラホ
ルムアルデヒド9gを加え、さらに、10Nの水酸化カリウ
ム水溶液0.4mlを加えた。これを、４時間加熱還流し、
析出物ろ過し、アセトン、エタノールで洗浄、乾燥し
た。さらに、エタノールと水の混合溶液で洗浄、乾燥
し、メチル−カリックスアレーンを10.3g得た。
ルムアルデヒド9gを加え、さらに、10Nの水酸化カリウ
ム水溶液0.4mlを加えた。これを、４時間加熱還流し、
析出物ろ過し、アセトン、エタノールで洗浄、乾燥し
た。さらに、エタノールと水の混合溶液で洗浄、乾燥
し、メチル−カリックスアレーンを10.3g得た。
得られたメチル−カリックスアレーン3.0gをピリジン30
mlに溶かし無水酢酸1mlを加え、室温で30分攪はんし
た。この反応溶液を300mlの水にあけ、析出物をろ過、
乾燥し、メチル−カリックスアレーンのアセチル化物3.
7gを得た。
mlに溶かし無水酢酸1mlを加え、室温で30分攪はんし
た。この反応溶液を300mlの水にあけ、析出物をろ過、
乾燥し、メチル−カリックスアレーンのアセチル化物3.
7gを得た。
IR（第１図）、NMR（第２図）、マススペクトルデータ
（972）より、生成物はメチルカリックス［６］アレー
ン・アセチル化物と同定できた。
（972）より、生成物はメチルカリックス［６］アレー
ン・アセチル化物と同定できた。
この生成物をアセトンに溶解させ強く攪はんすると、数
分後に析出物を得、これを濾過・乾燥して、メチル−カ
リックス［６］アレーンのアセチル化物の異性体を得
た。この異性体についてはIR,NMR,マススペクトルのデ
ータは同じである。
分後に析出物を得、これを濾過・乾燥して、メチル−カ
リックス［６］アレーンのアセチル化物の異性体を得
た。この異性体についてはIR,NMR,マススペクトルのデ
ータは同じである。
実施例２（フィルム） メチル−カリックスアレーンのアセチル化物の10wt％ト
ルンエン溶液を調整し、それを0.2μｍフィルターに通
した後に、スピンコート法によりシリコン基板上にフィ
ルム化した。スピンコートは回転数300rpmで５秒、ひき
つづき、1500rpmで60秒行った。これを、窒素中100℃で
30分ベーキングを行った。膜厚約0.45μｍの均一なフィ
ルムが得られた。
ルンエン溶液を調整し、それを0.2μｍフィルターに通
した後に、スピンコート法によりシリコン基板上にフィ
ルム化した。スピンコートは回転数300rpmで５秒、ひき
つづき、1500rpmで60秒行った。これを、窒素中100℃で
30分ベーキングを行った。膜厚約0.45μｍの均一なフィ
ルムが得られた。
実施例３（パターン形成） 実施例２で得られたフィルムにイオンビームを選択的に
照射（日本電子JIBL−150集束イオンビーム描画装置、
イオン種;Be++、加速エネルギー;260KeV,ビーム電流;9.
6pA,ビーム径；約0.1μm,露光量;.4.0×1013ions/cm2）
して重合し、ついで、エタノールで30秒未照射部を溶解
除去させ、80℃で30分ポストベークを行うことによりパ
ターンを形成した。SEMでパターン形状を観察したとこ
ろ、角型性の良いパターンが0.1μｍ幅のパターンも正
確に形成された。また、300℃で30分加熱したが、形状
に変化はなかった。これは、電子線、Ｘ線でも同様であ
った。
照射（日本電子JIBL−150集束イオンビーム描画装置、
イオン種;Be++、加速エネルギー;260KeV,ビーム電流;9.
6pA,ビーム径；約0.1μm,露光量;.4.0×1013ions/cm2）
して重合し、ついで、エタノールで30秒未照射部を溶解
除去させ、80℃で30分ポストベークを行うことによりパ
ターンを形成した。SEMでパターン形状を観察したとこ
ろ、角型性の良いパターンが0.1μｍ幅のパターンも正
確に形成された。また、300℃で30分加熱したが、形状
に変化はなかった。これは、電子線、Ｘ線でも同様であ
った。
以上の実施例は６量体について述べたが、４〜８量体
は、１ユニットずつ縮合させる逐次合成法によって任意
のｎ量体（ｎ＝４〜８）を合成することができる。
は、１ユニットずつ縮合させる逐次合成法によって任意
のｎ量体（ｎ＝４〜８）を合成することができる。
（発明の効果） 以上の説明から明らかなように、多種の有機溶剤に対し
高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体であるメチル
−カリックスアレーンのアセチル化物を得、また、この
化合物により、厚いフィルムを得ることが可能となり、
また、それのパターン形成も可能となった。このよう
に、高溶解性カリックスアレーン誘導体を得たことによ
り、カリックスアレーンの機能性材料への応用の可能性
を広げた。
高溶解性を示すカリックスアレーン誘導体であるメチル
−カリックスアレーンのアセチル化物を得、また、この
化合物により、厚いフィルムを得ることが可能となり、
また、それのパターン形成も可能となった。このよう
に、高溶解性カリックスアレーン誘導体を得たことによ
り、カリックスアレーンの機能性材料への応用の可能性
を広げた。
【図面の簡単な説明】 第１図、第２図はそれぞれメチル−カリックスアレーン
のアセチル化物の赤外吸収スペクトルの図とプロトンNM
Rのスペクトルの図である。
のアセチル化物の赤外吸収スペクトルの図とプロトンNM
Rのスペクトルの図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 61:06
Claims (3)
- 【請求項１】下の構造式で示されるメチル−カリックス
アレーンのアセチル化物。 - 【請求項２】メチル−カリックスアレーンのアセチル化
物より形成されたフィルム。 - 【請求項３】基板上に形成された請求項２のフィルム
に、高エネルギー線を選択的に照射し、次いで溶剤によ
り未照射部を溶解除去するパターン形成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915190A JPH0723340B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
| US07/694,491 US5143784A (en) | 1990-05-10 | 1991-05-02 | Soluble calixarene derivative and films thereof |
| EP91304191A EP0456497B1 (en) | 1990-05-10 | 1991-05-09 | Soluble calixarene derivative and films thereof |
| DE69110975T DE69110975T2 (de) | 1990-05-10 | 1991-05-09 | Lösliches Calixarenderivat und Filme von diesem. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24915190A JPH0723340B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04128253A JPH04128253A (ja) | 1992-04-28 |
| JPH0723340B2 true JPH0723340B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=17188668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24915190A Expired - Fee Related JPH0723340B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-09-19 | カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0723340B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2853626B2 (ja) * | 1995-12-26 | 1999-02-03 | 日本電気株式会社 | 基板表面の平坦化方法 |
| IT1282709B1 (it) * | 1996-02-28 | 1998-03-31 | Nec Corp | Procedimento di formazione di configurazione ultrafine e procedimento di incisione ultrafine utilizzando derivato di |
| US6511793B1 (en) * | 1999-03-24 | 2003-01-28 | Lg Electronics Inc. | Method of manufacturing microstructure using photosensitive glass substrate |
| JP6850079B2 (ja) * | 2015-08-24 | 2021-03-31 | 学校法人 関西大学 | 高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法 |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP24915190A patent/JPH0723340B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04128253A (ja) | 1992-04-28 |
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|---|---|---|---|
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