JPH04128266A - ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 - Google Patents
ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物Info
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- JPH04128266A JPH04128266A JP21769789A JP21769789A JPH04128266A JP H04128266 A JPH04128266 A JP H04128266A JP 21769789 A JP21769789 A JP 21769789A JP 21769789 A JP21769789 A JP 21769789A JP H04128266 A JPH04128266 A JP H04128266A
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はスルホニルヒダントイン誘導体、その製造方法
、それを有効成分として含有するアルドースレダクター
ゼ(以下ARと略記する。)阻害作用を有する医薬組成
物及びその誘導体の合成中間体に関する。
、それを有効成分として含有するアルドースレダクター
ゼ(以下ARと略記する。)阻害作用を有する医薬組成
物及びその誘導体の合成中間体に関する。
[従来技術]
糖尿病合併症としての白内障、末梢神経障害。
網膜症および腎症はARによって糖質から生成する相応
のポリオール類が不必要に蓄積されるところから発生す
る。例えば糖性白内障は眼球の水晶体に存在するARが
グルコースやガラクトースなどを相応の糖アルコールに
変換し、その糖アルコールが水晶体に不必要に蓄積され
て浸透圧が上昇し。
のポリオール類が不必要に蓄積されるところから発生す
る。例えば糖性白内障は眼球の水晶体に存在するARが
グルコースやガラクトースなどを相応の糖アルコールに
変換し、その糖アルコールが水晶体に不必要に蓄積され
て浸透圧が上昇し。
これが該水晶体に障害を与えることによって起こること
が報告されている[J、H,Kinoshlta e
t al、 Biochlm。
が報告されている[J、H,Kinoshlta e
t al、 Biochlm。
B i o p h y s 、A c t a +
158 + 472(1968)およびその中に引用
の参考例を参照]。また糖尿病動物の水晶体、末梢神経
索及び腎臓におけるソルビトール蓄積による様々な悪影
響についての報告もなされている[A、Pirie
et al、、Exp、Eye Res。
158 + 472(1968)およびその中に引用
の参考例を参照]。また糖尿病動物の水晶体、末梢神経
索及び腎臓におけるソルビトール蓄積による様々な悪影
響についての報告もなされている[A、Pirie
et al、、Exp、Eye Res。
3.124(1964);L、T、Chylack
Jr、 et al 、、 Inves
t、 0phtha1..8,401(1969);
J、D。
Jr、 et al 、、 Inves
t、 0phtha1..8,401(1969);
J、D。
Ward et al 、、 Diabet
ologia、6,531(1970)参照〕。従ッテ
。
ologia、6,531(1970)参照〕。従ッテ
。
前記合併症を予防、軽減ないし治療するには、その原因
であるARの活性をできるだけ強力に阻害することが肝
要である。
であるARの活性をできるだけ強力に阻害することが肝
要である。
関連する先行技術には次のようなものがある。
奥田らは、特開昭58−109418号、特開昭62−
67075号、特開昭62−201873号および特開
平1−61485号においてAR抑制剤として有用なス
ルホニルヒダントイン誘導体を開示している。マラマス
ら(M、S、Ma 1amas et at、)は
、特開昭63−22565号においてAR抑制剤として
有用なスルホニルヒダントイン誘導体を開示している。
67075号、特開昭62−201873号および特開
平1−61485号においてAR抑制剤として有用なス
ルホニルヒダントイン誘導体を開示している。マラマス
ら(M、S、Ma 1amas et at、)は
、特開昭63−22565号においてAR抑制剤として
有用なスルホニルヒダントイン誘導体を開示している。
また。
大石らは、特開昭62−155269号において糖尿病
合併症治療剤として有用なベンゾフラニルスルホニルグ
リシン誘導体を開示している。
合併症治療剤として有用なベンゾフラニルスルホニルグ
リシン誘導体を開示している。
[発明が解決しようとする課題]
従来、AR活性阻害剤としてアルレスタチンやツルビニ
ルなど多数の化合物が提供されているが。
ルなど多数の化合物が提供されているが。
そのAR活性阻害能においてなお充分に満足され得ない
のに加え、試験管内ではある程度有効なAR活性阻害能
を示しても生体内では代謝的な要因などにより十分な効
果が得られていないのが実情であり、更に強力なAR活
性阻害力を有し、かつ生体内で有効な、化合物が望まれ
ていた。
のに加え、試験管内ではある程度有効なAR活性阻害能
を示しても生体内では代謝的な要因などにより十分な効
果が得られていないのが実情であり、更に強力なAR活
性阻害力を有し、かつ生体内で有効な、化合物が望まれ
ていた。
[課題を解決するための手段]
′本発明者らは更に強力で有効なAR活性阻害能を有す
る化合物を得るべく各種化合物の効果を鋭意研究した結
果、一般式(+)で表わされるヒダントイン誘導体およ
びこれらの塩類が極めて強力なAR活性阻害能を有する
ことを見出し2本発明を完成するに至った。
る化合物を得るべく各種化合物の効果を鋭意研究した結
果、一般式(+)で表わされるヒダントイン誘導体およ
びこれらの塩類が極めて強力なAR活性阻害能を有する
ことを見出し2本発明を完成するに至った。
本発明は一般式(り
(式中、Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝
鎖のアルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキ
ル基、ビフェニリル基あるいはハロゲン原子、低級アル
キル基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよいカ
ルボキシル基、保護されていてもよいカルボキシメチル
基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基、
低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保
護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミ
ノ基、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群か
ら選ばれる同一または異なる基1個以上で置換されてい
てもよい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わす)
で表わされるヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物ま
たは塩の溶媒和物、その製造法、それを含有する医薬組
成物ならびに合成中間体に関するものである。
鎖のアルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキ
ル基、ビフェニリル基あるいはハロゲン原子、低級アル
キル基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよいカ
ルボキシル基、保護されていてもよいカルボキシメチル
基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基、
低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級ア
ルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保
護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミ
ノ基、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群か
ら選ばれる同一または異なる基1個以上で置換されてい
てもよい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わす)
で表わされるヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物ま
たは塩の溶媒和物、その製造法、それを含有する医薬組
成物ならびに合成中間体に関するものである。
本発明のヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物および
塩の溶媒和物は強力なAR活性阻害能を有し、また、実
験動物モデルにおいて白内障阻止作用、神経障害阻止作
用、血糖低下作用を示すうえに抗痙彎薬活性の様な中枢
神経系の副作用がなく、毒性も低く、高い安全性を有し
ており、糖尿病合併症の治療および予防に利用され得る
。具体的には、神経症、自律神経障害、白内障、網膜症
。
塩の溶媒和物は強力なAR活性阻害能を有し、また、実
験動物モデルにおいて白内障阻止作用、神経障害阻止作
用、血糖低下作用を示すうえに抗痙彎薬活性の様な中枢
神経系の副作用がなく、毒性も低く、高い安全性を有し
ており、糖尿病合併症の治療および予防に利用され得る
。具体的には、神経症、自律神経障害、白内障、網膜症
。
腎症、細小血管症などの糖尿病に付随した症状の予防及
び治療に利用され得る。
び治療に利用され得る。
本発明のヒダントイン誘導体は次のようにして製造する
ことができる。
ことができる。
まず、一般式(Vl)
Q−SO2−Y (Vl )(式中、Qは炭
素原子数1から8までの直鎖または分枝鎖のアルキル基
、炭素原子数3から6までの環状アルキル基、ビフェニ
リル基あるいはハロゲン原子、低級アルキル基、ニトロ
基、シアノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、
保護されていてもよいカルボキシメチル基、ハロゲン化
低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカ
ルボニル基、低級アルコキシ基、低級アルキルスルフィ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていても
よい水酸基、保護されていてもよいアミノ基、カルバモ
イル基もしくはフェニル基からなる群から選ばれる同一
または異なる基1個以上で置換されていてもよい単環複
素環基あるいは縮合複素環基を表わし、Yはハロゲン原
子を表わす)で表わされる出発物質のスルホニルハライ
ドは9式Q−H(Qは前記と同一の意味を有し、Hは水
素原子を表わす)で表わされる化合物に、塩基(たとえ
ばn−ブチルリチウムやリチウムジイソプロピルアミド
など)と、二酸化イオウな反応させた後、ハロゲン化剤
(たとえば塩素。
素原子数1から8までの直鎖または分枝鎖のアルキル基
、炭素原子数3から6までの環状アルキル基、ビフェニ
リル基あるいはハロゲン原子、低級アルキル基、ニトロ
基、シアノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、
保護されていてもよいカルボキシメチル基、ハロゲン化
低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカ
ルボニル基、低級アルコキシ基、低級アルキルスルフィ
ニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていても
よい水酸基、保護されていてもよいアミノ基、カルバモ
イル基もしくはフェニル基からなる群から選ばれる同一
または異なる基1個以上で置換されていてもよい単環複
素環基あるいは縮合複素環基を表わし、Yはハロゲン原
子を表わす)で表わされる出発物質のスルホニルハライ
ドは9式Q−H(Qは前記と同一の意味を有し、Hは水
素原子を表わす)で表わされる化合物に、塩基(たとえ
ばn−ブチルリチウムやリチウムジイソプロピルアミド
など)と、二酸化イオウな反応させた後、ハロゲン化剤
(たとえば塩素。
臭素、五塩化リン、塩化チオニル、N−クロロスクシン
イミドまたはN−ブロモスクシンイミドなど)を反応さ
せることにより合成できる。
イミドまたはN−ブロモスクシンイミドなど)を反応さ
せることにより合成できる。
また9式Q−H(Q、Hは前記と同一の意味を有する)
で表わされる化合物に、ハロスルホン酸。
で表わされる化合物に、ハロスルホン酸。
望ましくはクロロスルホン酸などを作用させることによ
り直接スルホニルハライドを合成できる。
り直接スルホニルハライドを合成できる。
また1式Q 5O3H(Qは前記と同一の意味を有す
る)で表わされる化合物に、たとえば炭酸水素ナトリウ
ムなどを作用させて塩とした後、ハロゲン化剤(たとえ
ば五塩化リン、塩化チオニルまたは臭化チオニルなど)
を反応させることにより合成できる。
る)で表わされる化合物に、たとえば炭酸水素ナトリウ
ムなどを作用させて塩とした後、ハロゲン化剤(たとえ
ば五塩化リン、塩化チオニルまたは臭化チオニルなど)
を反応させることにより合成できる。
また9式Q 5C82C6H5(Qは前記と同一の意
味を有する)で表わされる化合物に、ハロゲン化剤(た
とえば塩素など)を作用させることにより合成できる。
味を有する)で表わされる化合物に、ハロゲン化剤(た
とえば塩素など)を作用させることにより合成できる。
また9式Q NH2(Qは前記と同一の意味を有する
)で表わされる化合物に、亜硝酸塩(たとえば亜硝酸ナ
トリウムなど)を作用させた後、二酸化イオウおよびハ
ロゲン化剤(たとえば塩化銅なと)を反応させることに
より合成できる。
)で表わされる化合物に、亜硝酸塩(たとえば亜硝酸ナ
トリウムなど)を作用させた後、二酸化イオウおよびハ
ロゲン化剤(たとえば塩化銅なと)を反応させることに
より合成できる。
この様にして得られたスルホニルハライドと一般式(■
) NH,CH2CO−R (■) (式中、Rは水酸基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基で置換されていてもよいアミノ基を表わす)
で表わされるグリシン誘導体とを反応させて、一般式(
V) Q−So2NHCH,Co−R ■ (式中、Q、Rは前記と同一の意味を有する)で表わさ
れるスルホニルグリシン誘導体を合成することができる
。一般式(Vl)で表わされるスルホニルハライドと一
般式(■)で表わされる化合物との縮合反応は、水溶液
中または有機溶媒(例えば塩化メチレン、クロロホルム
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、
酢酸エチル。
) NH,CH2CO−R (■) (式中、Rは水酸基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基で置換されていてもよいアミノ基を表わす)
で表わされるグリシン誘導体とを反応させて、一般式(
V) Q−So2NHCH,Co−R ■ (式中、Q、Rは前記と同一の意味を有する)で表わさ
れるスルホニルグリシン誘導体を合成することができる
。一般式(Vl)で表わされるスルホニルハライドと一
般式(■)で表わされる化合物との縮合反応は、水溶液
中または有機溶媒(例えば塩化メチレン、クロロホルム
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、
酢酸エチル。
アセトン、N、N−ジメチルホルムアミドあるいはそれ
らの混合溶媒など)中またはその混合溶媒中で、必要に
応じて脱酸剤を加えることにより行なわれる。脱酸剤と
しては有機溶媒中では例えば。
らの混合溶媒など)中またはその混合溶媒中で、必要に
応じて脱酸剤を加えることにより行なわれる。脱酸剤と
しては有機溶媒中では例えば。
有機塩基(例えばトリエチルアミン、ジエチルアニリン
、ピリジンなど)が、水溶液中では水溶性塩基(例えば
、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム
、水酸化ナトリウムなど)が用いられる。縮合反応は一
20℃から80℃の温度範囲で行なわれるが、好ましく
は0℃から室温の範囲で行なわれる。
、ピリジンなど)が、水溶液中では水溶性塩基(例えば
、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム
、水酸化ナトリウムなど)が用いられる。縮合反応は一
20℃から80℃の温度範囲で行なわれるが、好ましく
は0℃から室温の範囲で行なわれる。
一般式(V)のRが非置換のアミノ基の場合には、該ス
ルホニルグリシン誘導体は一般式(II)Q−SO、N
HCH2CONH2(II )(式中、Qは前記と同一
の意味を有する)で表わされる。
ルホニルグリシン誘導体は一般式(II)Q−SO、N
HCH2CONH2(II )(式中、Qは前記と同一
の意味を有する)で表わされる。
一般式(II )で表わされるスルホニルグリシン誘導
体は塩基(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム
、ブチルリチウムなど)の存在下に。
体は塩基(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム
、ブチルリチウムなど)の存在下に。
ハロ蟻酸エステル(例えば、クロロ蟻酸メチル。
クロロ蟻酸エチルなど)を用いて環化し、一般式(1)
で表わされるヒダントイン誘導体とすることができる。
で表わされるヒダントイン誘導体とすることができる。
環化反応は一般に、不活性溶媒(例えばN、N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレンな
ど)中で、温度範囲一20℃から120℃で行なわれる
が、好ましくは0℃から80℃で行なわれる。
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレンな
ど)中で、温度範囲一20℃から120℃で行なわれる
が、好ましくは0℃から80℃で行なわれる。
Rがアルコキシカルボニル基で置換されたアミノ基の場
合には、該スルホニルグリシン誘導体を。
合には、該スルホニルグリシン誘導体を。
上記の塩基と処理することにより、ヒダントイン誘導体
とすることができる。
とすることができる。
一般式(V)のRが水酸基またはアルコキシ基の場合に
は、該スルホニルグリシン誘導体を、酸無水物(例えば
、無水酢酸、無水プロピオン酸など)の存在下、必要に
応じて塩基(例えばピリジン、トリエチルアミンなど)
を加え、チオシアン酸塩(例えばチオシアン酸アンモニ
ム、チオシアン酸カリウムなど)を用いて環化し、さら
に必要に応じて加水分解することにより、一般式(IV
)で表わされるチオヒダントイン誘導体とすることがで
きる。環化反応は一般に、有機溶媒(例えばピリジン、
トリエチルアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドなど)中で。
は、該スルホニルグリシン誘導体を、酸無水物(例えば
、無水酢酸、無水プロピオン酸など)の存在下、必要に
応じて塩基(例えばピリジン、トリエチルアミンなど)
を加え、チオシアン酸塩(例えばチオシアン酸アンモニ
ム、チオシアン酸カリウムなど)を用いて環化し、さら
に必要に応じて加水分解することにより、一般式(IV
)で表わされるチオヒダントイン誘導体とすることがで
きる。環化反応は一般に、有機溶媒(例えばピリジン、
トリエチルアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドなど)中で。
温度範囲0℃から120℃で行われ、fEましくは室温
から100℃で行なわれる。更に該チオヒダントイン誘
導体を、適当な酸化剤(例えば、硝酸。
から100℃で行なわれる。更に該チオヒダントイン誘
導体を、適当な酸化剤(例えば、硝酸。
塩素、−塩化ヨウ素、過マンガン酸カリウム、過酸化水
素、ジメチルスルホキシド−硫酸など)によって酸化す
ることにより、一般式(1)で表わされるヒダントイン
誘導体とすることができる。
素、ジメチルスルホキシド−硫酸など)によって酸化す
ることにより、一般式(1)で表わされるヒダントイン
誘導体とすることができる。
一般式(1)の化合物において、直鎖または分枝鎖の炭
素原子数1から8のアルキル基は例えば。
素原子数1から8のアルキル基は例えば。
メチル、エチル、イソプロピル、第三級ブチル。
ヘキシル、オクチルなどを示し、炭素原子数3から6の
環状アルキル基は例えば、シクロプロピル。
環状アルキル基は例えば、シクロプロピル。
シクロペンチル、シクロヘキシルなどを示し、単環複素
環基は例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、
ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサシリ
ル、イソオキサシリル、オキサジアゾリル、チアゾリル
、インチアゾリル、チアゾリニル、チアジアゾリル、チ
アトリアゾリル。
環基は例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、
ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサシリ
ル、イソオキサシリル、オキサジアゾリル、チアゾリル
、インチアゾリル、チアゾリニル、チアジアゾリル、チ
アトリアゾリル。
チエニル、フリル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、
チアゾリジニル、ピリジル及びそのN−オキシト、ピラ
ジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピペリジル、ピ
ペラジニル、モルホリニル。
チアゾリジニル、ピリジル及びそのN−オキシト、ピラ
ジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピペリジル、ピ
ペラジニル、モルホリニル。
トリアジニルなどを、望ましくはチアゾリル、チエニル
、フリル、ピリジルを示し、縮合複素環基は例えば、イ
ンドリル、イソインドリル、ベンズイミダゾリル、キノ
リル、イソキノリル、キナゾリニル、シンノリニル、フ
タラジニル、キノキザリニル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリル、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベン
ズイソオキサシリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチ
エニル、テトラヒドロベンゾチエニル、ベンゾフラニル
、イソベンゾフラニル、クロメニル。
、フリル、ピリジルを示し、縮合複素環基は例えば、イ
ンドリル、イソインドリル、ベンズイミダゾリル、キノ
リル、イソキノリル、キナゾリニル、シンノリニル、フ
タラジニル、キノキザリニル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリル、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベン
ズイソオキサシリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチ
エニル、テトラヒドロベンゾチエニル、ベンゾフラニル
、イソベンゾフラニル、クロメニル。
クロマニル、クマリニル、クロモニル、トリアゾロピリ
ジル、テトラシロピリジル、プリニル、チアゾロピリミ
ジニル、トリアゾロピリミジニル。
ジル、テトラシロピリジル、プリニル、チアゾロピリミ
ジニル、トリアゾロピリミジニル。
チアジアゾロピリミジニル、チアゾロピリダジニル、ナ
フチリジニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、フ
ェノキサジニル、フェノチアジニル。
フチリジニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、フ
ェノキサジニル、フェノチアジニル。
カルバゾリルなどを、望ましくはインドリル、ベンズイ
ミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチアゾリル、
ベンズイソオキサシリル、ベンズイソチアゾリル、ベン
ゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、ベンゾフラ
ニル、クマリニル、クロモニルを、さらに望ましくはベ
ンゾ[bコチェニルまたはベンゾ[b]フラニルを示す
。該単環複素環基および縮合複素環基は、低級アルキル
基(例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
第三級ブチルなと)、低級アルキルカルボニル基(例え
ばアセチル、プロパノイル、ブタノイル、ピバロイルな
ど)、低級アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、第三級ブトキシなど)2.フェニル基
、シアノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保
護されていてもよいカルボキシメチル基、ニトロ基、ハ
ロゲン化低級アルキル基(例えばトリフルオロメチル。
ミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチアゾリル、
ベンズイソオキサシリル、ベンズイソチアゾリル、ベン
ゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、ベンゾフラ
ニル、クマリニル、クロモニルを、さらに望ましくはベ
ンゾ[bコチェニルまたはベンゾ[b]フラニルを示す
。該単環複素環基および縮合複素環基は、低級アルキル
基(例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
第三級ブチルなと)、低級アルキルカルボニル基(例え
ばアセチル、プロパノイル、ブタノイル、ピバロイルな
ど)、低級アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、
イソプロポキシ、第三級ブトキシなど)2.フェニル基
、シアノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保
護されていてもよいカルボキシメチル基、ニトロ基、ハ
ロゲン化低級アルキル基(例えばトリフルオロメチル。
ペンタフルオロエチルなど)、保護されていてもよい水
酸基、保護されていてもよいアミノ基(例えばアシルア
ミノなど)、低級アルキルチオ基。
酸基、保護されていてもよいアミノ基(例えばアシルア
ミノなど)、低級アルキルチオ基。
低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル
基またはハロゲン原子(例えば弗素、塩素。
基またはハロゲン原子(例えば弗素、塩素。
臭素など)などからなる群から選ばれる同一または異な
る基1個以上で置換されていてもよいものとする。
る基1個以上で置換されていてもよいものとする。
単環MI素環基においては無置換またはハロゲン原子ま
たはフェニル基により1ないし2個置換されたものが望
ましく、縮合複素環基においては無置換またはハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、低
級アルキルチオ基またはシアノ基により1ないし3個置
換されたものが望ましい、縮合複素環基が置換されてい
てもよいベンゾ[bフラン−−2−イル基の場合には、
その置換基は1ないし3個のハロゲン原子が望ましい。
たはフェニル基により1ないし2個置換されたものが望
ましく、縮合複素環基においては無置換またはハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、低
級アルキルチオ基またはシアノ基により1ないし3個置
換されたものが望ましい、縮合複素環基が置換されてい
てもよいベンゾ[bフラン−−2−イル基の場合には、
その置換基は1ないし3個のハロゲン原子が望ましい。
一般式(1)で表わされる本発明の化合物においてヒダ
ントイン部分は次式に示すように:互変異性の関係にあ
ることが知られている。一般にこれらは同一物質として
扱われているため9本発明においては、これらの異性体
を含めてヒダントイン部分として表わしている。
ントイン部分は次式に示すように:互変異性の関係にあ
ることが知られている。一般にこれらは同一物質として
扱われているため9本発明においては、これらの異性体
を含めてヒダントイン部分として表わしている。
またこの互変異性の関係からヒダントイン部分は酸性を
示し9種々の塩を形成する。塩としては例えば、ナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩、アンモ
ニウム塩などの無機塩基、ベンジルアミン塩、ジエチル
アミン塩などの有機塩基との塩およびアルギニン塩、リ
ジン塩などのアミノ酸との塩など製剤宇土許容される塩
が有用であり、常法により容易に得ることができる。
示し9種々の塩を形成する。塩としては例えば、ナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、マグネシウ
ム塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩、アンモ
ニウム塩などの無機塩基、ベンジルアミン塩、ジエチル
アミン塩などの有機塩基との塩およびアルギニン塩、リ
ジン塩などのアミノ酸との塩など製剤宇土許容される塩
が有用であり、常法により容易に得ることができる。
また、−最大(1)で表わされる化合物は、酸付加塩を
形成することができる。酸付加塩としては例えば、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩などの無機酸との
塩、酢酸塩、クエン酸塩。
形成することができる。酸付加塩としては例えば、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩などの無機酸との
塩、酢酸塩、クエン酸塩。
マレイン酸塩、酒石酸塩、安息香酸塩、アスコルビン酸
塩、エタンスルホン酸塩、トルエンスルボン酸塩などの
有機酸との塩、アスパラギン酸塩。
塩、エタンスルホン酸塩、トルエンスルボン酸塩などの
有機酸との塩、アスパラギン酸塩。
グルタミン酸塩などのアミノ酸との塩など製剤宇土許容
される塩が有用であり、常法により容易に得ることがで
きる。
される塩が有用であり、常法により容易に得ることがで
きる。
以下に本発明の代表的化合物のいくつかを例示し、その
化合物のAR活性阻害能を実験例によって示す。
化合物のAR活性阻害能を実験例によって示す。
実施例1の化合物:
1−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)ヒダ
ントイン 実施例3の化合物: 1−(5−フルオロベンゾ[b]チェンー2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例4の化合物: 1−(5−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例5の化合物: 1−(3−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例6の化合物: 1−(4−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例7の化合物: 1−(5−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例8の化合物: 1−(5−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例12の化合物: 1−(ベンゾ[blイソチアゾール−3−イルスルホニ
ル)ヒダントイン 実施例15の化合物: 1−(クマリン−6−イルスルホニル)ヒダントイン 実施例23の化合物: 1−(2,5−シクロロチエン−3−イルスルホニル)
ヒダントイン 実施例26の化合物: 1−(ビフェニル−4−イルスルホニル)ヒダントイン 実施例27の化合物: 1−(6−クロロベンゾ[b]チエン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例28の化合O1: 1−(7−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例29の化合物: 1−(3−イソプロピルベンゾ[b]チェンー2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例30の化合物: 1−(3−トリフルオロメチルベンゾ[b]チエン−2
−イルスルホニル)ヒダントイン実施例31の化合物: 1−(3−ブロモベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例33の化合物: 1−(4,5−ジブロモチエシー2−イルスルホニル)
ヒダントイン 実施例34の化合物: 1−(4,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例35の化合物: 1−(3−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例37の化合物: 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]チェンー
2−イルスルホニル)ヒダントイン実施例45の化合物
: 1−(2−クロロベンゾ[b]チエン−3−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例47の化合物: 1−(4−ヨードベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例49の化合物: 1−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例51の化合物: 1−(5−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントイン 実施例54の化合物: 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トイン 実施例56の化合物: 1−(3−メトキシベンゾ[b]チエン−2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例60の化合物: 1−(3−メチルスルホニルベンゾ[b]チェンー2−
イルスルホニル)ヒダントイン 実施例61の化合物: 1−(3−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例65の化合物: 1−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例67の化合物: 1−(7−フルオロベンゾ[bフラン−−2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例68の化合物: 1−(4,5−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例69の化合物: 1−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例70の化合物: 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)ヒダントイン実施例75の化合物
: 1−(3−ブロモ−4,6−ジクロロベンゾ[b〕フラ
ン−2−イルスルホニル)ヒダントイン比較化合物:ツ
ルビニル(サージスらの方法[RlSarges e
t al、、J、Med。
ントイン 実施例3の化合物: 1−(5−フルオロベンゾ[b]チェンー2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例4の化合物: 1−(5−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例5の化合物: 1−(3−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例6の化合物: 1−(4−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例7の化合物: 1−(5−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例8の化合物: 1−(5−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例12の化合物: 1−(ベンゾ[blイソチアゾール−3−イルスルホニ
ル)ヒダントイン 実施例15の化合物: 1−(クマリン−6−イルスルホニル)ヒダントイン 実施例23の化合物: 1−(2,5−シクロロチエン−3−イルスルホニル)
ヒダントイン 実施例26の化合物: 1−(ビフェニル−4−イルスルホニル)ヒダントイン 実施例27の化合物: 1−(6−クロロベンゾ[b]チエン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例28の化合O1: 1−(7−クロロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例29の化合物: 1−(3−イソプロピルベンゾ[b]チェンー2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例30の化合物: 1−(3−トリフルオロメチルベンゾ[b]チエン−2
−イルスルホニル)ヒダントイン実施例31の化合物: 1−(3−ブロモベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例33の化合物: 1−(4,5−ジブロモチエシー2−イルスルホニル)
ヒダントイン 実施例34の化合物: 1−(4,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例35の化合物: 1−(3−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例37の化合物: 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]チェンー
2−イルスルホニル)ヒダントイン実施例45の化合物
: 1−(2−クロロベンゾ[b]チエン−3−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例47の化合物: 1−(4−ヨードベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例49の化合物: 1−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例51の化合物: 1−(5−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントイン 実施例54の化合物: 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トイン 実施例56の化合物: 1−(3−メトキシベンゾ[b]チエン−2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例60の化合物: 1−(3−メチルスルホニルベンゾ[b]チェンー2−
イルスルホニル)ヒダントイン 実施例61の化合物: 1−(3−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例65の化合物: 1−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントイン 実施例67の化合物: 1−(7−フルオロベンゾ[bフラン−−2−イルスル
ホニル)ヒダントイン 実施例68の化合物: 1−(4,5−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例69の化合物: 1−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントイン 実施例70の化合物: 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)ヒダントイン実施例75の化合物
: 1−(3−ブロモ−4,6−ジクロロベンゾ[b〕フラ
ン−2−イルスルホニル)ヒダントイン比較化合物:ツ
ルビニル(サージスらの方法[RlSarges e
t al、、J、Med。
Chem、、28.1716(1985)]により合成
した) 実験例 1 イナガキらの方法[K、Inagakl etal、
、Arch、 Blochem、 Bioph
ys、、 又1旦 337(1982)]に従って、ウ
シ水晶体のARを用い、AR阻害活性を測定した。すな
わち、0.4M硫酸アンモニウム、10mMDL−グリ
セルアルデヒド、0゜16mM 還元型のニコチン酸
アミドアデニンジヌクレオチドリン酸、還元型および0
.010−0.016unlts ARを含む0.1
Mリン酸緩衝液(pH6,2)1.0mlに10μ1(
7)ヒダントイン誘導体溶液を添加し、340nmにお
ける吸光度の減少を日立モデル22OAスペクトロフオ
トメーターで測定した。
した) 実験例 1 イナガキらの方法[K、Inagakl etal、
、Arch、 Blochem、 Bioph
ys、、 又1旦 337(1982)]に従って、ウ
シ水晶体のARを用い、AR阻害活性を測定した。すな
わち、0.4M硫酸アンモニウム、10mMDL−グリ
セルアルデヒド、0゜16mM 還元型のニコチン酸
アミドアデニンジヌクレオチドリン酸、還元型および0
.010−0.016unlts ARを含む0.1
Mリン酸緩衝液(pH6,2)1.0mlに10μ1(
7)ヒダントイン誘導体溶液を添加し、340nmにお
ける吸光度の減少を日立モデル22OAスペクトロフオ
トメーターで測定した。
以下に本発明の代表的な実施例化合物および比較化合物
ツルビニルのARに対する50%阻害濃度(IC50)
を第1表に示した。
ツルビニルのARに対する50%阻害濃度(IC50)
を第1表に示した。
以下余白
本発明の化合物は、従来の強力なAR活性阻害能を有す
る比較化合物ツルビニルに比し、より強力なAR阻害作
用を示した。
る比較化合物ツルビニルに比し、より強力なAR阻害作
用を示した。
実験例 2
本発明のヒダントイン誘導体について急性毒性を調べた
。1群5匹のICR系雄性マウスあるいはddY系雄性
マウスに1本発明の実施例1,2゜5.6,7,8,2
3,35,65,67.68゜69.70の化合物をそ
れぞ−れIg/kgを経口投与し、7日後までを観察し
たところ死亡例は1例も認められなかった。
。1群5匹のICR系雄性マウスあるいはddY系雄性
マウスに1本発明の実施例1,2゜5.6,7,8,2
3,35,65,67.68゜69.70の化合物をそ
れぞ−れIg/kgを経口投与し、7日後までを観察し
たところ死亡例は1例も認められなかった。
以上の実験結果から明らかな様に本発明のヒダントイン
誘導体は強力なAR活性阻害能を有し。
誘導体は強力なAR活性阻害能を有し。
かつ毒性も低く、また動物実験モデル璧おいて。
既知化合物に比して強力な糖尿病性白内障抑制作用、糖
尿病性神経障害抑制作用、血糖低下作用を示すことから
9本発明のヒダントイン誘導体を有効成分とする薬剤は
前記糖尿病合併症の治療および予防に有用である。
尿病性神経障害抑制作用、血糖低下作用を示すことから
9本発明のヒダントイン誘導体を有効成分とする薬剤は
前記糖尿病合併症の治療および予防に有用である。
本発明のヒダントイン誘導体は一般的に用いられる適当
な担体または媒体の類9例えば必要に応じて滅菌水や植
物油、更には無害性有機溶媒あるいは無害性溶解補助剤
(たとえばグリセリン、プロピレングリコール)などを
用い、賦形剤、結合剤、滑沢剤9着色剤、香味剤、乳化
剤または懸濁化剤(たとえばツイーン80.アラビアゴ
ムなと)などを適宜選択組合せて以下の剤形な得る。錠
剤。
な担体または媒体の類9例えば必要に応じて滅菌水や植
物油、更には無害性有機溶媒あるいは無害性溶解補助剤
(たとえばグリセリン、プロピレングリコール)などを
用い、賦形剤、結合剤、滑沢剤9着色剤、香味剤、乳化
剤または懸濁化剤(たとえばツイーン80.アラビアゴ
ムなと)などを適宜選択組合せて以下の剤形な得る。錠
剤。
カプセル剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、坐剤、シロップ剤
、吸入剤、軟膏9点眼用液剤、水性もしくは非水性の注
射剤、乳濁性もしくは懸濁性の注射剤あるいは用時溶解
、乳濁または懸濁して用いる固形注射剤などの形で、経
口または非経口(たとえば静脈内投与、筋肉内投与、皮
下投与、直腸内投与、経皮吸収または経粘膜吸収など)
を問わず患者に投与される。その−日投与量は錠剤、カ
プセル剤、散剤、注射剤、坐剤、シロップ剤、吸入剤。
、吸入剤、軟膏9点眼用液剤、水性もしくは非水性の注
射剤、乳濁性もしくは懸濁性の注射剤あるいは用時溶解
、乳濁または懸濁して用いる固形注射剤などの形で、経
口または非経口(たとえば静脈内投与、筋肉内投与、皮
下投与、直腸内投与、経皮吸収または経粘膜吸収など)
を問わず患者に投与される。その−日投与量は錠剤、カ
プセル剤、散剤、注射剤、坐剤、シロップ剤、吸入剤。
軟膏剤の場合には前記ヒダントイン誘導体に換算して1
mg〜3000 m g +好ましくは10mg〜50
0mg+点眼剤の場合には1μg〜10 m g +好
ましくは10μg〜1 m g +軟膏剤の場合には1
〜10%軟膏として患部に適量塗布するのが望ましいが
、患者の容体に応じて適宜増減することができ、また全
量を1回ないし2〜6回に分割して投与することや点滴
静注なとも可能である。
mg〜3000 m g +好ましくは10mg〜50
0mg+点眼剤の場合には1μg〜10 m g +好
ましくは10μg〜1 m g +軟膏剤の場合には1
〜10%軟膏として患部に適量塗布するのが望ましいが
、患者の容体に応じて適宜増減することができ、また全
量を1回ないし2〜6回に分割して投与することや点滴
静注なとも可能である。
次に本発明の化合物の製造方法を実施例によって具体的
に示すが9本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
に示すが9本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
[実施例]
(実施例 1)
1−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルボニル)ヒダ
ントインの製造 工程 1 ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルクロリドの製
造 ベンゾ[b]チオフェン38.3gを無水エーテル18
0m1に溶解し、水冷、窒素雰囲気下で。
ントインの製造 工程 1 ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルクロリドの製
造 ベンゾ[b]チオフェン38.3gを無水エーテル18
0m1に溶解し、水冷、窒素雰囲気下で。
1.6Mn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液220m1
を滴下した。40分間加熱還流後、内温−30℃にて撹
拌しながら亜硫酸ガスを2.75時間吹き込んだ。室温
で1時間撹拌後、析出した沈殿を濾取してベンゾ[b]
チェンー2−イルスルフィン酸リチウムを得た。これを
濃塩酸400m1と水100m1の混合液に懸濁し、内
温を一5℃に保ち、撹拌しながら塩素ガスを1.5時間
吹き込んだ。反応液を氷水500m1に注ぎ塩化メチレ
ン1.51で2回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し。
を滴下した。40分間加熱還流後、内温−30℃にて撹
拌しながら亜硫酸ガスを2.75時間吹き込んだ。室温
で1時間撹拌後、析出した沈殿を濾取してベンゾ[b]
チェンー2−イルスルフィン酸リチウムを得た。これを
濃塩酸400m1と水100m1の混合液に懸濁し、内
温を一5℃に保ち、撹拌しながら塩素ガスを1.5時間
吹き込んだ。反応液を氷水500m1に注ぎ塩化メチレ
ン1.51で2回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し。
溶媒の塩化メチレンな減圧下に留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して上記標題
化合物40.4gを得た。
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して上記標題
化合物40.4gを得た。
IRスペクトル(KB r : cm−’)1495.
1384.1189,1168゜NMRスペクトル(C
D Cl 3: I) pm )7.49〜7.68
(2H,m) 7.86〜8.03(2H,m) 8.14(IH,s) 工程 2 N−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)グリ
シンの製造 グリシン15.7gと無水炭酸カリウム28゜9gを水
450m1に溶解し、これに室温でペン”、r[b]チ
ェンー2−イルスルホニルクロリド40.4gを加え、
30分間加熱還流した。反応液を冷却後、2M塩酸を加
えてpH1〜2とし、生じた沈殿を濾取して上記標題化
合物36.3gを得た。
1384.1189,1168゜NMRスペクトル(C
D Cl 3: I) pm )7.49〜7.68
(2H,m) 7.86〜8.03(2H,m) 8.14(IH,s) 工程 2 N−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)グリ
シンの製造 グリシン15.7gと無水炭酸カリウム28゜9gを水
450m1に溶解し、これに室温でペン”、r[b]チ
ェンー2−イルスルホニルクロリド40.4gを加え、
30分間加熱還流した。反応液を冷却後、2M塩酸を加
えてpH1〜2とし、生じた沈殿を濾取して上記標題化
合物36.3gを得た。
融点 171.3〜172.4℃
IRスペクトル(KBr : cm−1)3267.1
735,1352,1258゜NMRスペクトル(D
M S Od a ; ppm )3.73(2H,d
、J=6.0Hz )7.39〜7.61 (2H,m
) 7.77〜8.13 (3H,m ) 8.51 (IH,d、J=6.0Hz )12.68
(IH,bs) 工程 3 1−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)−2
−チオヒダントインの製造 N−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)グリ
シン16.3gにチオシアン酸アンモニウム10.1g
s無水とリジン12.6mlおよび無水酢酸40m1を
加えた後、80℃で15分間加熱した0反応液を冷却後
、、氷水300m1に注ぎ、生じた沈殿を濾取し、水で
十分洗浄し、上記標題化合物8.6gを得た。
735,1352,1258゜NMRスペクトル(D
M S Od a ; ppm )3.73(2H,d
、J=6.0Hz )7.39〜7.61 (2H,m
) 7.77〜8.13 (3H,m ) 8.51 (IH,d、J=6.0Hz )12.68
(IH,bs) 工程 3 1−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)−2
−チオヒダントインの製造 N−(ベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニル)グリ
シン16.3gにチオシアン酸アンモニウム10.1g
s無水とリジン12.6mlおよび無水酢酸40m1を
加えた後、80℃で15分間加熱した0反応液を冷却後
、、氷水300m1に注ぎ、生じた沈殿を濾取し、水で
十分洗浄し、上記標題化合物8.6gを得た。
融点 218.6℃(分解)
IRスペクトル(KBr;am”)
1759.1374,1255,1171゜NMRスペ
クトル(D M S Od e ; pI) m )4
.74(2H,s) 7.35〜7.69 (2H,m) 8.04〜8.21 (2H,m) 8.45(IH,5) 12.72(IH,bs) 工程 4 1−(ベンゾ[b]チエン−2−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 一塩化ヨウ素7.12m1をIM塩酸200m1に混合
した溶液に、1−(ベンゾ[b]チエン−2−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントイン8゜5gとジクロロメ
タン200m1を加え、室温で20分間撹拌した後炭酸
水素ナトリウム6.85gを加え、さらに15分間撹拌
し、酢酸エチル11及び300m1で抽出した。抽出液
を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸
エチルを減圧下に留去し、残渣を塩化メチレンで十分洗
浄して上記標題化合物4.83gを得た。
クトル(D M S Od e ; pI) m )4
.74(2H,s) 7.35〜7.69 (2H,m) 8.04〜8.21 (2H,m) 8.45(IH,5) 12.72(IH,bs) 工程 4 1−(ベンゾ[b]チエン−2−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 一塩化ヨウ素7.12m1をIM塩酸200m1に混合
した溶液に、1−(ベンゾ[b]チエン−2−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントイン8゜5gとジクロロメ
タン200m1を加え、室温で20分間撹拌した後炭酸
水素ナトリウム6.85gを加え、さらに15分間撹拌
し、酢酸エチル11及び300m1で抽出した。抽出液
を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸
エチルを減圧下に留去し、残渣を塩化メチレンで十分洗
浄して上記標題化合物4.83gを得た。
融点 251.8〜254.2℃
厘Rスペクトル(KBr;cm−1)
3245.1803.1740’、1376゜1352
.1167 NMRスベク゛トル(D M S Od a ; pp
m )4.48(2H,s) 7.51”?、63 (2H,m ) 8.05〜8.20(2H,m) 8.33(IH,5) 11.71(IH,bs) (実施例 2) 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 工程 1 ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニルクロリドの製
造 ベンゾ[b]フラン−用いて実施例1 工程1と同様の
方法により上記標題化合物を得た。
.1167 NMRスベク゛トル(D M S Od a ; pp
m )4.48(2H,s) 7.51”?、63 (2H,m ) 8.05〜8.20(2H,m) 8.33(IH,5) 11.71(IH,bs) (実施例 2) 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 工程 1 ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニルクロリドの製
造 ベンゾ[b]フラン−用いて実施例1 工程1と同様の
方法により上記標題化合物を得た。
IRスペクトル(KBr ; am−”)1533.1
389,1244,1193゜NMRスペクトル(CD
CIs;l)I)m)7.32〜7.82 (5H,m
) 工程 2 N−(ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニル)クリ
シンの製造 ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニルクロリドを用
いて実施例1 工程2と同様の方法により上記標題化合
物を得た。
389,1244,1193゜NMRスペクトル(CD
CIs;l)I)m)7.32〜7.82 (5H,m
) 工程 2 N−(ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニル)クリ
シンの製造 ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニルクロリドを用
いて実施例1 工程2と同様の方法により上記標題化合
物を得た。
融点 17?、O〜178.2℃
IRスペクトル(KBr;am”)
3289・、1724.1347,1162NMRスペ
クトル(DMSO−do;T)I)m)3.77(2H
,d、J=6.3Hz )?、35−7.81 (5H
,m) 8.72(IH,、t、 J=e、3Hz )12.6
9(IH,bs) 工程 3 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)−2
−チオヒダントインの製造 工程2で得られた化合物37gに、チオシアン酸アンモ
ニウム24.3g*無水酢酸100m1を加え、無水ピ
リジン30.5mlを滴加した後。
クトル(DMSO−do;T)I)m)3.77(2H
,d、J=6.3Hz )?、35−7.81 (5H
,m) 8.72(IH,、t、 J=e、3Hz )12.6
9(IH,bs) 工程 3 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)−2
−チオヒダントインの製造 工程2で得られた化合物37gに、チオシアン酸アンモ
ニウム24.3g*無水酢酸100m1を加え、無水ピ
リジン30.5mlを滴加した後。
70〜80℃で1.5時間加熱した0反応液を冷却後、
氷800gに注ぎ、沈殿を得た。水で十分洗浄後乾燥し
、上記標題化合物18.5gを得た。
氷800gに注ぎ、沈殿を得た。水で十分洗浄後乾燥し
、上記標題化合物18.5gを得た。
融点 213.0℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm”)
3080.1759.1386,1255゜1167.
1010 86Nスペクトル(D M S Od e ; 1)p
m )4.76(28,s) 7.34〜8.04 (5H,m ) 12.81(IH,bs) 工程 4 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)ヒタ
ントインの製造 工程8で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
1010 86Nスペクトル(D M S Od e ; 1)p
m )4.76(28,s) 7.34〜8.04 (5H,m ) 12.81(IH,bs) 工程 4 1−(ベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル)ヒタ
ントインの製造 工程8で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
融点 255.9〜256.4℃
IRスペクトル(KBr;am”)
1803.1735,1398,1360゜NMRスペ
クトル(D M S Od a ; pI) m )4
.49(2H,s) 7.33〜8.08 C5H,m) 11.79(IH,bs) 以下実施例3ないし41を実施例1と同様に実施し、得
られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融点
を第2表に示した。
クトル(D M S Od a ; pI) m )4
.49(2H,s) 7.33〜8.08 C5H,m) 11.79(IH,bs) 以下実施例3ないし41を実施例1と同様に実施し、得
られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融点
を第2表に示した。
2旦塁
(実施例 42)
1−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)ヒダントインの製造 工程 1 4.5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニルクロリ
ドの製造 2.3−ジフェニルチオフェンを用いて実施例1 工程
1と同様の方法により上記標題化合物を得た。
)ヒダントインの製造 工程 1 4.5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニルクロリ
ドの製造 2.3−ジフェニルチオフェンを用いて実施例1 工程
1と同様の方法により上記標題化合物を得た。
IRスペクトル(K B r ; c m−1)138
2.1172,1038,698゜NMRスペクトル(
C’DCla; I) pm )7.27〜7.33
(IOH,m) 7.89(IH,s) 工程 2 N−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)グリシンエチルエステルの製造4.5−ジフェニルチ
エシー2−イルスルホニルクロリド36.5g+グリシ
ンエチルエステル塩酸塩30.4gt塩化メチレン32
0m1の懸濁液に、水冷下トリエチルアミン30.3m
lをゆっくりと加え、その後室温で160分間撹拌した
6反応液に水200m1を加え、塩化メチレンで抽出し
た。抽出液を1M塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の塩化メチ
レンを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキサンで
再沈殿させて上記標題化合物41.1gを得た。
2.1172,1038,698゜NMRスペクトル(
C’DCla; I) pm )7.27〜7.33
(IOH,m) 7.89(IH,s) 工程 2 N−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)グリシンエチルエステルの製造4.5−ジフェニルチ
エシー2−イルスルホニルクロリド36.5g+グリシ
ンエチルエステル塩酸塩30.4gt塩化メチレン32
0m1の懸濁液に、水冷下トリエチルアミン30.3m
lをゆっくりと加え、その後室温で160分間撹拌した
6反応液に水200m1を加え、塩化メチレンで抽出し
た。抽出液を1M塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の塩化メチ
レンを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキサンで
再沈殿させて上記標題化合物41.1gを得た。
融点 151.2〜152.7℃
IRスペクトル(KBr;cm−1)
3266.1734,1354,1231゜1215.
1164.1127 NMRスペクトル(D M S O−d a ; pl
) m )1−12 (3H= t* J=7.1H
z )3.88(2H,d、J=6.3Hz)4.04
(2H= q、J=7.1Hz )6.84〜7.44
(IOH,m) 7.67(IH,s) 8.57(IH,t、J=6.3Hz)工程 3 N−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)グリシンの製造 水酸化ナトリウム12.4gを水73m1に溶解し、こ
れに工程2で得られた化合物41.4gをテトラヒドロ
フラン730m1に溶解したものを加え、60℃で25
分間加熱した。溶媒を減圧留去し、残渣に水300m1
を加えた後水冷下に濃塩酸を加えてpH1とし、酢酸エ
チル800m1で抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘ
キサンで再沈殿させて上記標題化合物37゜6gを得た
。
1164.1127 NMRスペクトル(D M S O−d a ; pl
) m )1−12 (3H= t* J=7.1H
z )3.88(2H,d、J=6.3Hz)4.04
(2H= q、J=7.1Hz )6.84〜7.44
(IOH,m) 7.67(IH,s) 8.57(IH,t、J=6.3Hz)工程 3 N−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)グリシンの製造 水酸化ナトリウム12.4gを水73m1に溶解し、こ
れに工程2で得られた化合物41.4gをテトラヒドロ
フラン730m1に溶解したものを加え、60℃で25
分間加熱した。溶媒を減圧留去し、残渣に水300m1
を加えた後水冷下に濃塩酸を加えてpH1とし、酢酸エ
チル800m1で抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘ
キサンで再沈殿させて上記標題化合物37゜6gを得た
。
融点 172.2〜174.4℃
IRスペクトル(KBr;cm−1)
3268.1736,1353,1159NMRスペク
トル(D M S Od a ; 1) pm )3.
78(2H,d、J=5.9Hz )7.12〜7.4
2 (IOH,m) 7.67(IH,s) 8.39(IH,t、J=5.9Hz)12.78(I
H,bs) 工程 4 l−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)−2−チオヒダントインの製造工程3で得られた化合
物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上記標
題化合物を得た。
トル(D M S Od a ; 1) pm )3.
78(2H,d、J=5.9Hz )7.12〜7.4
2 (IOH,m) 7.67(IH,s) 8.39(IH,t、J=5.9Hz)12.78(I
H,bs) 工程 4 l−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)−2−チオヒダントインの製造工程3で得られた化合
物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上記標
題化合物を得た。
融点 213.2〜215.4℃
IRスペクトル(KBr:cm−”)
1752.1446,1376.1168゜NMRスペ
クトル(D M S Od a ; 1)I) m )
4.77(2H,s) 7.32〜7.46(IOH,m) 8.12(IH,5) 12.73(IH,bs ) 工程 5 l−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
クトル(D M S Od a ; 1)I) m )
4.77(2H,s) 7.32〜7.46(IOH,m) 8.12(IH,5) 12.73(IH,bs ) 工程 5 l−(4,5−ジフェニルチエシー2−イルスルホニル
)ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
融点 242.5〜243.9℃
IRスペクトル(KBr ; cm−”)173’l、
1386. 1165 NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.53
(2H,s) 7.32〜7.45 (IOH,m) 8.00(IH,5) 11.72(IH,bs) 以下実施例43から48を実施例42と同様に実施し、
得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融
点を第3表に示した。
1386. 1165 NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.53
(2H,s) 7.32〜7.45 (IOH,m) 8.00(IH,5) 11.72(IH,bs) 以下実施例43から48を実施例42と同様に実施し、
得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融
点を第3表に示した。
以下余白
(実施例 49)
1−(5−ニトロベンゾ[b]チエン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程 1 5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドの製造 5−ニトロベンゾ[b]チオフェン60gを無水テトラ
ヒドロフラン21に溶解し内温−70℃に冷却して*1
.6Mn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液240m1と
ジイソプロピルアミン57゜8mlおよび無水エーテル
170m1より調製したリチウムジイソプロピルアミド
溶液を窒素雰囲気下、撹拌しながら滴下した。30分撹
拌後、同温で撹拌しながら亜硫酸ガスを90分間吹き込
んだ、室温で1時間撹拌後、析出した沈殿を濾取して5
−ニトロベンゾ[b]チエン−2−イルスルフィン酸リ
チウムを得た。これを、濃塩酸500m1と水125m
1の混合液に懸濁し、内温を0℃以下に保ち、充分に撹
拌しながら塩素ガスを8時間吹き込んだ、室温で1時間
撹拌後、塩化メチレン400m1で2回抽出した。抽出
液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒の塩化メチレンを減圧下に留去した
。
ニル)ヒダントインの製造 工程 1 5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドの製造 5−ニトロベンゾ[b]チオフェン60gを無水テトラ
ヒドロフラン21に溶解し内温−70℃に冷却して*1
.6Mn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液240m1と
ジイソプロピルアミン57゜8mlおよび無水エーテル
170m1より調製したリチウムジイソプロピルアミド
溶液を窒素雰囲気下、撹拌しながら滴下した。30分撹
拌後、同温で撹拌しながら亜硫酸ガスを90分間吹き込
んだ、室温で1時間撹拌後、析出した沈殿を濾取して5
−ニトロベンゾ[b]チエン−2−イルスルフィン酸リ
チウムを得た。これを、濃塩酸500m1と水125m
1の混合液に懸濁し、内温を0℃以下に保ち、充分に撹
拌しながら塩素ガスを8時間吹き込んだ、室温で1時間
撹拌後、塩化メチレン400m1で2回抽出した。抽出
液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒の塩化メチレンを減圧下に留去した
。
残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィーにより精製
して上記標題化合物21gを得た。
して上記標題化合物21gを得た。
IRスペクトル(KBr;cm”)
1602.1519.137B、1340゜NMRスペ
クトル(CDCI3;ppm)8.10(IH,d、J
=8.9Hz)8.31(IH,s) 8.46(IH,dd。
クトル(CDCI3;ppm)8.10(IH,d、J
=8.9Hz)8.31(IH,s) 8.46(IH,dd。
J=8.9,2.0Hz )
8.90(IH,d、J=2.0Hz)工程 2
N−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)クリシンの製造 5−ニトロベンゾ[b]チエン−2−イルスルホニルク
ロリドを用いて実施例1 工程2と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
ニル)クリシンの製造 5−ニトロベンゾ[b]チエン−2−イルスルホニルク
ロリドを用いて実施例1 工程2と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
融点 187.2〜194.8℃
IRスペクトル(KBricm−’)
3325、 1734. 1530. 1377135
1、 1159 NMRスペクトル(DMSO−dsippm)3.76
(2H,d、J=5.9Hz )8.22(IH,
s) 8.32〜8.91 (4H,m) 12.72(IH,bs) 工程 3 l−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られた
化合物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
1、 1159 NMRスペクトル(DMSO−dsippm)3.76
(2H,d、J=5.9Hz )8.22(IH,
s) 8.32〜8.91 (4H,m) 12.72(IH,bs) 工程 3 l−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られた
化合物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
融点 217.4℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm−1)
1762.1521,1470,1389゜1347.
1248,1173.101087Nスペクトル(D
M S Od a ; ppm )4.73(2H,s
) 8− 25〜9− 09 (4H* m )12.7
8(IH,bs) 工程 4 l−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物1.66gに50%(w/v)
硝酸35m1を加えt60”cで6時間加熱した0反応
液を氷水150m1に注ぎ、生じた沈殿を濾取し、アセ
トンで洗浄して上記標題化合物0.47gを得た。
1248,1173.101087Nスペクトル(D
M S Od a ; ppm )4.73(2H,s
) 8− 25〜9− 09 (4H* m )12.7
8(IH,bs) 工程 4 l−(5−ニトロベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物1.66gに50%(w/v)
硝酸35m1を加えt60”cで6時間加熱した0反応
液を氷水150m1に注ぎ、生じた沈殿を濾取し、アセ
トンで洗浄して上記標題化合物0.47gを得た。
融点 282.4℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm”)
3100.173?、1522.1385゜1349.
1176 NMRスペクトル(D M S Od e ; pI)
m )4.47(2H,s) 8.22〜9.05(4H,m) 11.70(IH,bs) (実施例 50) 1−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イ、ルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程 1 5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドの製造 ベンゾ[b]チェンー5−イルカルボニトリルを用いて
実施例49 工程1と同様の方法により上記標題化合物
を得た。
1176 NMRスペクトル(D M S Od e ; pI)
m )4.47(2H,s) 8.22〜9.05(4H,m) 11.70(IH,bs) (実施例 50) 1−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イ、ルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程 1 5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドの製造 ベンゾ[b]チェンー5−イルカルボニトリルを用いて
実施例49 工程1と同様の方法により上記標題化合物
を得た。
IRスペクトル(KB r : cm−’)2236.
1500,1376.1171゜NMRスペクトル(D
MSO−d6;ppm)7.56(IH,s) 7.70(IH,dd。
1500,1376.1171゜NMRスペクトル(D
MSO−d6;ppm)7.56(IH,s) 7.70(IH,dd。
J=8.9,2.0Hz )
8.15(IH,d、J−8,9Hz)8.37 (I
H,d、J=2.0Hz )工程 2 N−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドを用いて実施例1 工程2と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
H,d、J=2.0Hz )工程 2 N−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホニルク
ロリドを用いて実施例1 工程2と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
IRスペクトル(KBr ; cm−1)3289.2
235.1?14,1350゜NMRスペクトル(D
M S Od e ; pI) m )3.75(2H
,d、J=5.6Hz )7.87(IH,dd。
235.1?14,1350゜NMRスペクトル(D
M S Od e ; pI) m )3.75(2H
,d、J=5.6Hz )7.87(IH,dd。
J=8.6,1.3Hz)
8.06(IH,s)
8.34(IH,d、J=8.6Hz)8.56(IH
,d、J=1.3Hz )8.70(IH,t、、y=
5.6Hz)12.69(IH,bs ) 工程 3 l−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られた
化合物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
,d、J=1.3Hz )8.70(IH,t、、y=
5.6Hz)12.69(IH,bs ) 工程 3 l−(5−シアノベンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られた
化合物を用いて実施例1 工程3と同様の方法により上
記標題化合物を得た。
IRスペクトル(KB r ; cm−1)2231.
1762,1451,1243゜1173、 10’l
’I NMRスペクトル(D M S Od e ; 1)l
) m )4.73(2H,s) 7.95(IH,dd。
1762,1451,1243゜1173、 10’l
’I NMRスペクトル(D M S Od e ; 1)l
) m )4.73(2H,s) 7.95(IH,dd。
J=8.a、1.7Hz)
8.41(IH,d、J=8.6Hz)8.53(IH
,s) 8.63(IH,d、J=1.7Hz)12.72(I
H,bs) 工程 4 l−(5−シアノベンゾ[b]チエン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物0.39gに50%(w/v)
硝酸8.2mlを加え、80℃で5分間加熱した後室温
で30分間撹拌した0反応液を氷水35m1に注ぎ、生
じた沈殿を濾取し、アセトン100m1で洗浄して上記
標題化合物0.11gを得た。
,s) 8.63(IH,d、J=1.7Hz)12.72(I
H,bs) 工程 4 l−(5−シアノベンゾ[b]チエン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物0.39gに50%(w/v)
硝酸8.2mlを加え、80℃で5分間加熱した後室温
で30分間撹拌した0反応液を氷水35m1に注ぎ、生
じた沈殿を濾取し、アセトン100m1で洗浄して上記
標題化合物0.11gを得た。
融点 276.3℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm−”)
3100.2231,1740,1386゜NMRスペ
クトル(DMSOda; I) pm)4.47(2H
,s) 7.95(IH,dd。
クトル(DMSOda; I) pm)4.47(2H
,s) 7.95(IH,dd。
J=8.6,1.7Hz)
8.41(IH,s)
8.42(IH,d、J=8.6Hz )8.85(I
H,d、J=1.7Hz )11.75(IH,bs) (実施例 51) 1−(5−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例50 工程4で得られた化合物0.1gに水1.
5mlを加え、水冷下漬硫酸1.5mlと酢酸1.5m
lをゆっくりと加えた後反応液を2時間加熱還流した0
反応液を冷却後、生じた沈殿を濾取し、アセトン20m
1で洗浄した。洗液を減圧下濃縮し、残渣をエーテル2
ml中で粉砕し、上記標題化合物0.02gを得た。
H,d、J=1.7Hz )11.75(IH,bs) (実施例 51) 1−(5−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例50 工程4で得られた化合物0.1gに水1.
5mlを加え、水冷下漬硫酸1.5mlと酢酸1.5m
lをゆっくりと加えた後反応液を2時間加熱還流した0
反応液を冷却後、生じた沈殿を濾取し、アセトン20m
1で洗浄した。洗液を減圧下濃縮し、残渣をエーテル2
ml中で粉砕し、上記標題化合物0.02gを得た。
融点 300℃以上
IRスペクトル(KB r ; c m−’ )174
3.1690,138.0,1163NMRスペクトル
(D M S Od a ; 1)l) m )4.4
6(2H,s) 8.07(IH,dd。
3.1690,138.0,1163NMRスペクトル
(D M S Od a ; 1)l) m )4.4
6(2H,s) 8.07(IH,dd。
J=8.611.78Z )
8.28(IH,d、J=8.6Hz)8.48(IH
,s) 8.69(IH,d、J=1.7Hz )(実施例 5
2) 1−(インドール−2−イルスルホニル)ヒダントイン
の製造 工程 1 1−ベンゼンスルホニルインドール−2−イルスルホニ
ルクロリドの製造 1.6Mn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液422m1
とジイソプロピルアミン101m1および無水エーテル
260m1より調製したリチウムジイソプロピルアミド
溶液に内温0℃で、1−ベンゼンスルホニルインドール
150gを無水エーテル2060m1に溶解したものを
滴下した。同温で15分間撹拌した後、この反応液を、
−50℃に冷却した塩化スルフリル125m1に加え、
室温で2時間撹拌した8反応液を氷水2.51に注ぎ、
充分に撹拌した後2分液した。水層を酢酸エチル21で
抽出し、エーテル層と合わせて、水。
,s) 8.69(IH,d、J=1.7Hz )(実施例 5
2) 1−(インドール−2−イルスルホニル)ヒダントイン
の製造 工程 1 1−ベンゼンスルホニルインドール−2−イルスルホニ
ルクロリドの製造 1.6Mn−ブチルリチウム−ヘキサン溶液422m1
とジイソプロピルアミン101m1および無水エーテル
260m1より調製したリチウムジイソプロピルアミド
溶液に内温0℃で、1−ベンゼンスルホニルインドール
150gを無水エーテル2060m1に溶解したものを
滴下した。同温で15分間撹拌した後、この反応液を、
−50℃に冷却した塩化スルフリル125m1に加え、
室温で2時間撹拌した8反応液を氷水2.51に注ぎ、
充分に撹拌した後2分液した。水層を酢酸エチル21で
抽出し、エーテル層と合わせて、水。
飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒のエーテルと酢酸エチルを減圧下に留去した
。残渣をエーテル中で粉砕して上記標題化合物146g
を得た。
燥し、溶媒のエーテルと酢酸エチルを減圧下に留去した
。残渣をエーテル中で粉砕して上記標題化合物146g
を得た。
IRスペクトル(KB r 、’ am−’)1513
.1387,1378,1245゜NMRスペクトル(
CD Cl 3s ppm )7.29〜8.36 (
IOH,m) 工程 2 N−(1−ベンゼンスルホニルインドール−2−イルス
ルホニル)グリシンエチルエステルの製造1−ベンゼン
スルホニルインドール−2−イルスルホニルクロリドを
用いて実施例42 工程2と同様の方法により上記標題
化合物を得た。
.1387,1378,1245゜NMRスペクトル(
CD Cl 3s ppm )7.29〜8.36 (
IOH,m) 工程 2 N−(1−ベンゼンスルホニルインドール−2−イルス
ルホニル)グリシンエチルエステルの製造1−ベンゼン
スルホニルインドール−2−イルスルホニルクロリドを
用いて実施例42 工程2と同様の方法により上記標題
化合物を得た。
IRスペクトル(KBr;am−1)
3335.1746,1346.1338゜NMRスペ
クトル(D M S Od a ; I) pm )1
.11(3H,t、J=7.3Hz)3.94(2H,
d、J=5.6Hz )4.06(2H,q、J=’1
.3Hz)6.38(IH,t、J=5.6Hz)7.
14−=8.32(IOH,m) 工程 3 N−(インドール−2−イルスルホニル)グリシンの製
造 水酸化ナトリウム1.6gを水7mlに溶解し。
クトル(D M S Od a ; I) pm )1
.11(3H,t、J=7.3Hz)3.94(2H,
d、J=5.6Hz )4.06(2H,q、J=’1
.3Hz)6.38(IH,t、J=5.6Hz)7.
14−=8.32(IOH,m) 工程 3 N−(インドール−2−イルスルホニル)グリシンの製
造 水酸化ナトリウム1.6gを水7mlに溶解し。
これに室温で工程2で得られた化合物4.22gをテト
ラヒドロフラン70m1に溶解したものを加え、65〜
75℃で5分間加熱した。減圧下にテトラヒドロフラン
を留去した後、残渣に水酸化ナトリウム0.4gを水2
3m1に溶解したものを加え、65〜75℃で5時間加
熱した0反応液を冷却後エーテルで洗浄し、水冷下に6
M塩酸を加えてpH1とし、酢酸エチル15m1で3回
抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減
圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキサン中で粉砕し
て上記標題化合物1.66gを得た。
ラヒドロフラン70m1に溶解したものを加え、65〜
75℃で5分間加熱した。減圧下にテトラヒドロフラン
を留去した後、残渣に水酸化ナトリウム0.4gを水2
3m1に溶解したものを加え、65〜75℃で5時間加
熱した0反応液を冷却後エーテルで洗浄し、水冷下に6
M塩酸を加えてpH1とし、酢酸エチル15m1で3回
抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減
圧下に留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキサン中で粉砕し
て上記標題化合物1.66gを得た。
融点 170.2〜171.9℃
IRスペクトル(KBr;cm−’)
332B、1707,1340,1155゜NMRス’
(クト)Lt (D M S Od e ; I)I)
m )3.73(2H,d、J=6.3Hz )6.
94〜7.70(5H,m) 8.05(IH,t、、r=a、3Hz)11.90(
IH,bs ) 12.67(IH,bs) 工程 4 1−(インドール−2−イルスルホニル)−2−チオヒ
ダントインの製造 工程3で得られた化合物を用いて実施例1 工程3と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
(クト)Lt (D M S Od e ; I)I)
m )3.73(2H,d、J=6.3Hz )6.
94〜7.70(5H,m) 8.05(IH,t、、r=a、3Hz)11.90(
IH,bs ) 12.67(IH,bs) 工程 4 1−(インドール−2−イルスルホニル)−2−チオヒ
ダントインの製造 工程3で得られた化合物を用いて実施例1 工程3と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
融点 209.2〜210.4℃
!Rスペクトル(KB r ; cm−1)3131.
3103,1755,1473゜1367.1249,
1197,1165゜1147.1010 79Nスペクトル(DMSOdo;ppm)4.81(
2H,s) 7.08〜7.78 (5H,m ) 12.33(IH,bs) 12.66(11(、bs ) 工程 5 1−(インドール−2−イルスルホニル)ヒダントイン
の製造 工程4で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
3103,1755,1473゜1367.1249,
1197,1165゜1147.1010 79Nスペクトル(DMSOdo;ppm)4.81(
2H,s) 7.08〜7.78 (5H,m ) 12.33(IH,bs) 12.66(11(、bs ) 工程 5 1−(インドール−2−イルスルホニル)ヒダントイン
の製造 工程4で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
融点 287.1℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm−’)
3290.1’18’l、1725,1389゜136
5.1156 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.67 (2H,s ) 7.29〜7.58 (5H,m) 11.67(IH,bs) 12.63(IH,bs) (実施例 53) 1−(2−カルボキシクロモン−6−イルスルホニル)
ヒダントインの製造 工程 1 2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスルホニル
クロリドの製造 6−アミノクロモン−2−カルボン斂メチル20gに水
132m1を加え、水冷下濃硫酸26゜4mlを加えた
。これに0℃で亜硝酸ナトリウム9.0gを加え、30
分間撹拌した後、二酸化イオウ19.7mlと酢酸11
2m1.i塩酸26m1の混合物、さらに塩化第二銅二
水和物11゜2gを加えて15分間撹拌した。析出した
沈殿を濾取し、塩化メチレン60’Omlに溶解して飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒の塩化メチレンを減圧下に留去して上記標題化合
物22gを得た。
5.1156 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.67 (2H,s ) 7.29〜7.58 (5H,m) 11.67(IH,bs) 12.63(IH,bs) (実施例 53) 1−(2−カルボキシクロモン−6−イルスルホニル)
ヒダントインの製造 工程 1 2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスルホニル
クロリドの製造 6−アミノクロモン−2−カルボン斂メチル20gに水
132m1を加え、水冷下濃硫酸26゜4mlを加えた
。これに0℃で亜硝酸ナトリウム9.0gを加え、30
分間撹拌した後、二酸化イオウ19.7mlと酢酸11
2m1.i塩酸26m1の混合物、さらに塩化第二銅二
水和物11゜2gを加えて15分間撹拌した。析出した
沈殿を濾取し、塩化メチレン60’Omlに溶解して飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒の塩化メチレンを減圧下に留去して上記標題化合
物22gを得た。
IRスペクトル(KB r ; am−’)1744.
1661,1381,1287゜11?4,60O NMRスペクトル(D M S Od a ; pI)
m )6.96(IH,s) 7.70(IH,d、J=8.6Hz)8.04(IH
,dd。
1661,1381,1287゜11?4,60O NMRスペクトル(D M S Od a ; pI)
m )6.96(IH,s) 7.70(IH,d、J=8.6Hz)8.04(IH
,dd。
J=8.6,2.0Hz )
8−25 (I H= d * J = 2− OHz
)工程 2 N−(2−メトキシカルボニルクロモン−〇−イルスル
ホニル)グリシンの製造 2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスルホニル
クロリド20g、アセトン600m1にクリシン6.1
5g*水酸化ナトリウム3.28g、炭酸水素ナトリウ
ム6.11gを水300m1に溶解したものをゆっくり
と加え、室温で85分間撹拌した0反応液に6M塩酸を
加え、pHを約6とした後、減圧下にアセトンを留去し
、不溶物を濾去した。濾液に水冷下2M塩酸を加え、p
H1とし、酢酸エチル350m1で3回抽出した。
)工程 2 N−(2−メトキシカルボニルクロモン−〇−イルスル
ホニル)グリシンの製造 2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスルホニル
クロリド20g、アセトン600m1にクリシン6.1
5g*水酸化ナトリウム3.28g、炭酸水素ナトリウ
ム6.11gを水300m1に溶解したものをゆっくり
と加え、室温で85分間撹拌した0反応液に6M塩酸を
加え、pHを約6とした後、減圧下にアセトンを留去し
、不溶物を濾去した。濾液に水冷下2M塩酸を加え、p
H1とし、酢酸エチル350m1で3回抽出した。
抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィーにより
精製して上記標題化合物5゜45gを得た。
トリウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィーにより
精製して上記標題化合物5゜45gを得た。
融点 210.6〜212.8℃
IRスペクトル(KB r ; c m−1)3327
.1746,1716,1659゜1288.1266
.1165 NMRスペクト)Lt (D M S Od a ;
l) pm )3.67(2H,d、J=5.982)
3.96 (38,s ) 7.04(IH,s) 7.89〜8.42 (4H,m ) 工程 3 l−(2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られ
た化合物を用いて実施例1 工程8と同様の方法により
上記標題化合物を得た。
.1746,1716,1659゜1288.1266
.1165 NMRスペクト)Lt (D M S Od a ;
l) pm )3.67(2H,d、J=5.982)
3.96 (38,s ) 7.04(IH,s) 7.89〜8.42 (4H,m ) 工程 3 l−(2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントインの製造工程2で得られ
た化合物を用いて実施例1 工程8と同様の方法により
上記標題化合物を得た。
融点 217.4℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm”)
1748.1660,1443.1374゜1282.
1260,1174 NMRスペクトル(D M S Od e ; 1)
pm )3.96(3H,s) 4.84(2H,s) 7.07(IH,S) 7.97〜8.71 (38,m) 12.68(IH,bs) 工程 4 1−(2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
1260,1174 NMRスペクトル(D M S Od e ; 1)
pm )3.96(3H,s) 4.84(2H,s) 7.07(IH,S) 7.97〜8.71 (38,m) 12.68(IH,bs) 工程 4 1−(2−メトキシカルボニルクロモン−6−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程3で得られた化合物を用いて実施例1 工程4と同
様の方法により上記標題化合物を得た。
融点 300℃以上
IRスペクトル(KBr”、cm−”)1751.17
41,1664,1617゜1375.11’17 NMRスペクトル(D M S Od a ; pI)
m )3.96(3H,s) 4.52(2H,s) 7.07(IH,s) 7.98〜8.64(3H,m) 工程 5 l−(2−カルボキシクロモン−6−イルスルホニル)
ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物2.27gを飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液22.7mlに溶解し、40℃で2時間加
熱した0反応液を酢酸エチルで洗浄した後、水冷下に2
M塩酸を加えてpH1とし。
41,1664,1617゜1375.11’17 NMRスペクトル(D M S Od a ; pI)
m )3.96(3H,s) 4.52(2H,s) 7.07(IH,s) 7.98〜8.64(3H,m) 工程 5 l−(2−カルボキシクロモン−6−イルスルホニル)
ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物2.27gを飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液22.7mlに溶解し、40℃で2時間加
熱した0反応液を酢酸エチルで洗浄した後、水冷下に2
M塩酸を加えてpH1とし。
生じた沈殿を濾取して上記標題化合物0゜2g
を得た。
融点 279.3℃(分解)
IRスペクトル(K B r ; c m−’ )32
20.1751,1663,1376゜NMRスペクト
ル(D M S Od s ; ppm )4.54(
2H,s) 7.02(IH,s) 7.95〜8.61 (3H,m) 11.63(IH,bs) (実施例 54) 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トインの製造 工程 1 2−ベンジルチオベンゾチアゾールの製造2−ベンゾチ
アゾールチオール250gをN。
20.1751,1663,1376゜NMRスペクト
ル(D M S Od s ; ppm )4.54(
2H,s) 7.02(IH,s) 7.95〜8.61 (3H,m) 11.63(IH,bs) (実施例 54) 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トインの製造 工程 1 2−ベンジルチオベンゾチアゾールの製造2−ベンゾチ
アゾールチオール250gをN。
N−ジメチルホルムアミド11に溶解し、水冷下トリエ
チルアミン208m1を加えた。反応液に臭化ベンジル
178m1をN、N−ジメチルホルムアミド300m1
に溶解したものを滴下し、40分間撹拌した。反応液を
水101に注ぎ、沈殿を濾取し、塩化メチレン31に溶
解して無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒の塩化
メチレンを減圧下に留去して上記標題化合物378gを
得た。
チルアミン208m1を加えた。反応液に臭化ベンジル
178m1をN、N−ジメチルホルムアミド300m1
に溶解したものを滴下し、40分間撹拌した。反応液を
水101に注ぎ、沈殿を濾取し、塩化メチレン31に溶
解して無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒の塩化
メチレンを減圧下に留去して上記標題化合物378gを
得た。
工程 2
ベンゾチアゾール−2−イルスルホニルクロリドの製造
2−ベンジルチオベンゾチアゾール100gに酢酸50
0m1と水500m1の混合液を加え。
0m1と水500m1の混合液を加え。
内温−15℃で撹拌しながら塩素ガスを1.5時間吹き
込んだ0反応液を氷水1.51に注ぎ、析出した沈殿を
濾取して上記標題化合物90.9gを得た。
込んだ0反応液を氷水1.51に注ぎ、析出した沈殿を
濾取して上記標題化合物90.9gを得た。
工程 3
N2−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)クリ
シンアミドの製造 クリシンアミド塩酸塩43g、ジオキサン11に水冷下
ベンゾチアゾールー2−イルスルホニルクロリド90.
9gを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
てpHを8とし、1.5時間撹拌した。反応液を減圧下
に濃縮し、残渣に水1.51を加えた後濃塩酸でpHを
2とした。生じた沈殿を濾取し、上記標題化合物59.
8gを得た。
シンアミドの製造 クリシンアミド塩酸塩43g、ジオキサン11に水冷下
ベンゾチアゾールー2−イルスルホニルクロリド90.
9gを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
てpHを8とし、1.5時間撹拌した。反応液を減圧下
に濃縮し、残渣に水1.51を加えた後濃塩酸でpHを
2とした。生じた沈殿を濾取し、上記標題化合物59.
8gを得た。
融点 179.7〜181.8℃
IRスペクトル(KBr;Cm”)
3426.1682,1346,1165NMRスペク
トル(D M S Od a ;I) pm )3.7
3(2H,s) 7.08(IH,bs) 7.36(IH,bs) 7.52〜8.29 (4H,m) 8.80(IH,bs) 工程 4 N2−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)−N
2−メトキシカルボニルグリシンアミドの製造 工程3で得られた化合物102.3gをN、N−ジメチ
ルホルムアミド1.21に溶解し、水冷下60%水素化
ナトリウム16.7gをゆっくりと加えた後室温で1時
間撹拌した。クロロ蟻酸メチル35.8gを加え、室温
でさらに1時間撹拌した。溶媒を留去した後残渣に水3
.51を加え。
トル(D M S Od a ;I) pm )3.7
3(2H,s) 7.08(IH,bs) 7.36(IH,bs) 7.52〜8.29 (4H,m) 8.80(IH,bs) 工程 4 N2−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)−N
2−メトキシカルボニルグリシンアミドの製造 工程3で得られた化合物102.3gをN、N−ジメチ
ルホルムアミド1.21に溶解し、水冷下60%水素化
ナトリウム16.7gをゆっくりと加えた後室温で1時
間撹拌した。クロロ蟻酸メチル35.8gを加え、室温
でさらに1時間撹拌した。溶媒を留去した後残渣に水3
.51を加え。
生じた沈殿を濾取し、上記標題化合物60.5gを得た
。
。
融点 153.1℃(分解)
!Rスペクトル(KBr”、Cm−1)3459.33
46.1’137.1689゜13B6,1343,1
250,1171NMRスペクトル(D M S O−
d a ; ppm )3.70(3H,s) 4.51 (2H,s ) 7.30(IH,bs) 7.60〜7.76 (3H,m) 8.20〜8.39 (2H,m) 工程5 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トインの製造 工程4で得られた化合物20gtN、N−ジメチルホル
ムアミド200m1に溶解し、60%水素化ナトリウム
2.67gをゆっくりと加えた後。
46.1’137.1689゜13B6,1343,1
250,1171NMRスペクトル(D M S O−
d a ; ppm )3.70(3H,s) 4.51 (2H,s ) 7.30(IH,bs) 7.60〜7.76 (3H,m) 8.20〜8.39 (2H,m) 工程5 1−(ベンゾチアゾール−2−イルスルホニル)ヒダン
トインの製造 工程4で得られた化合物20gtN、N−ジメチルホル
ムアミド200m1に溶解し、60%水素化ナトリウム
2.67gをゆっくりと加えた後。
70℃で13.5時間加熱した。溶媒を留去した後残渣
に水11を加え、酢酸エチル1,51で抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去して残渣をア
セトン−クロロホルム(100m1+200m1 )で
洗浄して上記標題化合物2.12gを得た。
に水11を加え、酢酸エチル1,51で抽出した。抽出
液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去して残渣をア
セトン−クロロホルム(100m1+200m1 )で
洗浄して上記標題化合物2.12gを得た。
融点 260.4〜261.9℃
■Rスペクトル(KB r ; cm−1)3200.
3105,1739.1393゜1355.1173 NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.55
(2H,s) 7.61=7.81 (2H,m) 8.18〜8.40(2H,m) 11.88(IH,bs) 以下実施例55及び56を実施例54と同様に実施し、
得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融
点を第4表に示した。
3105,1739.1393゜1355.1173 NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.55
(2H,s) 7.61=7.81 (2H,m) 8.18〜8.40(2H,m) 11.88(IH,bs) 以下実施例55及び56を実施例54と同様に実施し、
得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び融
点を第4表に示した。
以下余白
(実施例 57)
1−(ベンゾ[C]チェンー1−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 工程 l N2−(ベンゾ[C]チェンー1−イルスルホニル)ク
リシンアミドの製造 ベンゾ[c]チオフェン5.5gを無水エーテル50m
1に溶解し、内温−20℃、窒素雰囲気下で1.6Mn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液52.2m11/!:
滴下した。1時間撹拌後、同温で撹拌しながら亜硫酸ガ
スを1時間吹き込んだ。溶媒を減圧下に留去し、残液を
内温O℃に冷却したイソプロピルアルコール200m1
と水200m1の混合液に懸濁し、N−クロロスクシン
イミド6.5gを加え、0℃のまま30分間撹拌した。
ントインの製造 工程 l N2−(ベンゾ[C]チェンー1−イルスルホニル)ク
リシンアミドの製造 ベンゾ[c]チオフェン5.5gを無水エーテル50m
1に溶解し、内温−20℃、窒素雰囲気下で1.6Mn
−ブチルリチウム−ヘキサン溶液52.2m11/!:
滴下した。1時間撹拌後、同温で撹拌しながら亜硫酸ガ
スを1時間吹き込んだ。溶媒を減圧下に留去し、残液を
内温O℃に冷却したイソプロピルアルコール200m1
と水200m1の混合液に懸濁し、N−クロロスクシン
イミド6.5gを加え、0℃のまま30分間撹拌した。
反応液にN−クロロスクシンイミド1.63gを追加し
、さらに1時間撹拌した。塩化メチレン11で2回抽出
し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒の塩化メチレンを冷却減圧
下に留去した。得られた残渣とクリシンアミド塩酸塩を
用いて、実施例54 工程3と同様の方法により、上記
標題化合物を得た。
、さらに1時間撹拌した。塩化メチレン11で2回抽出
し、抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒の塩化メチレンを冷却減圧
下に留去した。得られた残渣とクリシンアミド塩酸塩を
用いて、実施例54 工程3と同様の方法により、上記
標題化合物を得た。
NMRスペクトル(D M S Od a ;I) p
m )3.40(2H,d、J=6.9Hz )7.0
6〜8.22(5H,m) 8.49(IH,s) 工程 2 N2−(ベンゾ[c]チェンー1−イルスルホニル’)
−N1−メトキシカルボニルグリシンアミドの製造 工程1で得られた化合物0.45gをN、N−ジメチル
ホルムアミド5mlに溶解し、60%水素化ナトリウム
75mgをゆっくりと加え、室温で30分間撹拌した。
m )3.40(2H,d、J=6.9Hz )7.0
6〜8.22(5H,m) 8.49(IH,s) 工程 2 N2−(ベンゾ[c]チェンー1−イルスルホニル’)
−N1−メトキシカルボニルグリシンアミドの製造 工程1で得られた化合物0.45gをN、N−ジメチル
ホルムアミド5mlに溶解し、60%水素化ナトリウム
75mgをゆっくりと加え、室温で30分間撹拌した。
反応液にクロロ蟻酸メチル0.14m1を加え、室温で
20分間撹拌し、60%水素化ナトリウム75mgを加
え、室温で1゜5時間撹拌後70℃で15分間加熱した
。反応液を冷却後残渣に水20m1を加え、酢酸エチル
20m1で3回抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去して残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製して上記標題化合物0.1
8gを得た。
20分間撹拌し、60%水素化ナトリウム75mgを加
え、室温で1゜5時間撹拌後70℃で15分間加熱した
。反応液を冷却後残渣に水20m1を加え、酢酸エチル
20m1で3回抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去して残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製して上記標題化合物0.1
8gを得た。
NM、Rスペクトル(CD Cl a ;pl) m
)3.74(3H,s) 4.24(2H,d、J=5.3Hz )5.92(I
H,tt J=5.3Hz)7.17〜8.31 (6
H,m) 工程 3 1−(ベンゾ[c]チェンー1−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 工程2で得られた化合物0.18gをN、N−ジメチル
ホルムアミド3mlに溶解し、60%水素化ナトリウム
48mgをゆっくりと加え、70℃で2.5時間加熱し
た。溶媒を留去した後残渣に氷水20m1を加え、1M
塩酸で反応液のpHを4とした。酢酸エチル20m l
で3回抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧
下に留去し、残渣を塩化メチレン中で粉砕して上記標題
化合物0.03gを得た。
)3.74(3H,s) 4.24(2H,d、J=5.3Hz )5.92(I
H,tt J=5.3Hz)7.17〜8.31 (6
H,m) 工程 3 1−(ベンゾ[c]チェンー1−イルスルホニル)ヒダ
ントインの製造 工程2で得られた化合物0.18gをN、N−ジメチル
ホルムアミド3mlに溶解し、60%水素化ナトリウム
48mgをゆっくりと加え、70℃で2.5時間加熱し
た。溶媒を留去した後残渣に氷水20m1を加え、1M
塩酸で反応液のpHを4とした。酢酸エチル20m l
で3回抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧
下に留去し、残渣を塩化メチレン中で粉砕して上記標題
化合物0.03gを得た。
融点 223.6〜226.9℃
IRスペクトル(KB r ; cm−’)1736.
1378.11B5,1162゜NMRスペクトル(D
M S Od a ;p p m )4.51 (2
H,s ) 7.20〜8.16 (4H,m) 8.82(IH,5) 11.54(IH,bs) (実施例 58) 1−(3−カルボキシメチルベンゾ[b]チエン−2−
イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例32 工程
4で得られた化合物0.85gに60%(w/v)硝酸
9mlを加え、70℃で140分間加熱した後冷却し、
生じた沈殿を濾取し、エーテルで洗浄して上記標題化合
物0.21gを得た。
1378.11B5,1162゜NMRスペクトル(D
M S Od a ;p p m )4.51 (2
H,s ) 7.20〜8.16 (4H,m) 8.82(IH,5) 11.54(IH,bs) (実施例 58) 1−(3−カルボキシメチルベンゾ[b]チエン−2−
イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例32 工程
4で得られた化合物0.85gに60%(w/v)硝酸
9mlを加え、70℃で140分間加熱した後冷却し、
生じた沈殿を濾取し、エーテルで洗浄して上記標題化合
物0.21gを得た。
融点 224.4℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm−1)
3220.1800,1736.1718゜1374.
117O NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.32
(2H,s) 4.47(2H,s) 7.55〜7.65(2H,m) 7.99〜8.19 (2H,m) 11.71(IH,bs) (実施例 59) 1−(3−メチルスルフィニルベンゾ[b]チエン−2
−イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例55で得
られた化合物0.65gをジクロロメタン26m1に懸
濁し、メタクロロ過安息香酸0.41gを加えて室温で
1.5時間撹拌した0反応液を室温で減圧下に濃縮し、
残渣をエーテル30m lで洗浄した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製して上記標題化合物0
゜48gtl−得た。
117O NMRスペクトル(DMSO−da;ppm)4.32
(2H,s) 4.47(2H,s) 7.55〜7.65(2H,m) 7.99〜8.19 (2H,m) 11.71(IH,bs) (実施例 59) 1−(3−メチルスルフィニルベンゾ[b]チエン−2
−イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例55で得
られた化合物0.65gをジクロロメタン26m1に懸
濁し、メタクロロ過安息香酸0.41gを加えて室温で
1.5時間撹拌した0反応液を室温で減圧下に濃縮し、
残渣をエーテル30m lで洗浄した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製して上記標題化合物0
゜48gtl−得た。
融点 215.0〜221.0℃
IRスペクトル(KB r ; cm−’)1792.
1743.1379.118ONMRスペクトル(D
M S Od e ; ppm )3.10(3H,s
) 4.57(2H,s) 7.51=8.89(4H,m) 11.81(IH,bs) (実施例 60) 1−(3−メチルスルホニルベンゾ[b]チエン−2−
イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例55で得ら
れた化合物0.65gを酢酸エチル26m1に懸濁し、
メタクロロ過安息香酸0.82gを加えて1.5時間加
熱還流後メタクロロ過安息香酸0.16gを追加しさら
に1.5時間加熱還流した0反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をメタノール、エーテルを用いて洗浄して上記標題
化合物0.40gを得た。
1743.1379.118ONMRスペクトル(D
M S Od e ; ppm )3.10(3H,s
) 4.57(2H,s) 7.51=8.89(4H,m) 11.81(IH,bs) (実施例 60) 1−(3−メチルスルホニルベンゾ[b]チエン−2−
イルスルホニル)ヒダントインの製造実施例55で得ら
れた化合物0.65gを酢酸エチル26m1に懸濁し、
メタクロロ過安息香酸0.82gを加えて1.5時間加
熱還流後メタクロロ過安息香酸0.16gを追加しさら
に1.5時間加熱還流した0反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をメタノール、エーテルを用いて洗浄して上記標題
化合物0.40gを得た。
融点 224.0〜245.0℃
JRスペクトル(KBr;cm−’)
1771.1372,1324.1179NMRスペク
トル(D M S Od e ; l) pm )3.
47(3H,s) 4.63(2H,s) 7.66〜8.59 (4H,m) 11.90(IH,bs) (実施例 61) 1−(3−シアノヘンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 実施例31で得られた化合物11.3gとシアン化第−
銅4.1gにピリジン42m1を加え70℃で17時間
撹拌後、塩化第二鉄大水塩15゜7 g +濃塩酸3.
9ml及び水23.6mlの混合液を滴下し、50℃で
5分間加熱した。沈殿を濾別し濾液を酢酸エチル300
m lで抽出した。
トル(D M S Od e ; l) pm )3.
47(3H,s) 4.63(2H,s) 7.66〜8.59 (4H,m) 11.90(IH,bs) (実施例 61) 1−(3−シアノヘンゾ[b]チェンー2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 実施例31で得られた化合物11.3gとシアン化第−
銅4.1gにピリジン42m1を加え70℃で17時間
撹拌後、塩化第二鉄大水塩15゜7 g +濃塩酸3.
9ml及び水23.6mlの混合液を滴下し、50℃で
5分間加熱した。沈殿を濾別し濾液を酢酸エチル300
m lで抽出した。
抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫醸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣を、上述の沈殿よりエタノールで抽出・濃縮し
た残渣と合わせシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製して上記標題、化合物1.21gを得た。
トリウムで乾燥し、溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣を、上述の沈殿よりエタノールで抽出・濃縮し
た残渣と合わせシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製して上記標題、化合物1.21gを得た。
融点 238.9〜242.5℃
IRスペクトル(KB r ; am−1)2233.
180?、1746,17361388.1167 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.51 (2H,s ) 7.70〜8.47 (4H,m) 11.83(IH,bs) (実施例 62) 1−(8−ヒドロキシベンゾ[blチエシー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例56で得られた化合物2.5gに酢酸7ml、4
7%臭化水素酸8.9mlを加え、室温で1時間、40
℃で1時間、50℃で1時間加熱後、酢酸7ml、47
%臭化水素酸8.9mlを追加し60℃で1時間、80
℃で2時間加熱した。
180?、1746,17361388.1167 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.51 (2H,s ) 7.70〜8.47 (4H,m) 11.83(IH,bs) (実施例 62) 1−(8−ヒドロキシベンゾ[blチエシー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例56で得られた化合物2.5gに酢酸7ml、4
7%臭化水素酸8.9mlを加え、室温で1時間、40
℃で1時間、50℃で1時間加熱後、酢酸7ml、47
%臭化水素酸8.9mlを追加し60℃で1時間、80
℃で2時間加熱した。
反応液を水300m1に注ぎ、酢酸エチル1.21で抽
出し、抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をアセトン800
m1に溶解し、活性炭を用いて脱色後アセトンを留去し
、残渣を酢酸エチル。
出し、抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
の酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をアセトン800
m1に溶解し、活性炭を用いて脱色後アセトンを留去し
、残渣を酢酸エチル。
エーテルで順次洗浄して上記標題化合物1.13gを得
た。
た。
融点 171.8℃(分解)
IRスペクトル(KBr;am”)
3260.1800.1735,135B。
1185.1164
NMRスペクトル(D M S Od e s p p
m )4.60(2H,s) 7.46〜8.19 (48,m) 11.70(IH,bs) (実施例 63) 1−(3−カルバモイルベンゾ[b]チエン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造実施例61で得られた
化合物0.84gを80%(v/v)硫酸16.3ml
に加え、70℃で8時間撹拌した1反応液を氷水200
m1に注ぎ。
m )4.60(2H,s) 7.46〜8.19 (48,m) 11.70(IH,bs) (実施例 63) 1−(3−カルバモイルベンゾ[b]チエン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造実施例61で得られた
化合物0.84gを80%(v/v)硫酸16.3ml
に加え、70℃で8時間撹拌した1反応液を氷水200
m1に注ぎ。
沈殿を濾取した。水、エタノール、アセトンで順次洗浄
して上記標題化合物0.16gを得た。
して上記標題化合物0.16gを得た。
融点 241.9〜244.6℃
IRスペクトル(KBr;cm−’)
3412.3197,1795.1?41゜1376.
1162 NMRスペクトル(D M S Od a i ppm
)4.51(2H,s) 7.56〜8.44 (6H,m) 11.73(IH,bs) (実施例 64) 1−(3−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例63で得られた化合物0.60gを濃硫酸18m
1に懸濁し、−15℃に冷却下亜硝酸ナトリウム2.4
gを加えた。−15℃で15分。
1162 NMRスペクトル(D M S Od a i ppm
)4.51(2H,s) 7.56〜8.44 (6H,m) 11.73(IH,bs) (実施例 64) 1−(3−カルボキシベンゾ[b]チェンー2−イルス
ルホニル)ヒダントインの製造 実施例63で得られた化合物0.60gを濃硫酸18m
1に懸濁し、−15℃に冷却下亜硝酸ナトリウム2.4
gを加えた。−15℃で15分。
0℃で30分り室温で50分間撹拌後亜硝酸ナトリウム
1.2gを追加し室温で30分間撹拌′した。
1.2gを追加し室温で30分間撹拌′した。
0.1M炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpHを約9
として酢酸エチルで洗浄後、濃塩酸を加えてpHを約2
として酢酸エチル200m1で抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水で順次洗浄した後。
として酢酸エチルで洗浄後、濃塩酸を加えてpHを約2
として酢酸エチル200m1で抽出した。抽出液を水、
飽和食塩水で順次洗浄した後。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒の酢酸エチルを減圧
下に留去した。残液をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製して上記標題化合物0.18gを得た。
下に留去した。残液をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製して上記標題化合物0.18gを得た。
融点 228.8〜235.1℃
IRスペクトル(KBr;cm−1)
3450.1739,1735,1380゜NMRXベ
クトル(D M S Od a * ppm )4.7
3(2H,s) 7.45〜8.17 (4H,m) 11.76(IH,bs) (実施例 65) 1−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程 1 3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニルク
ロリドの製造 3−クロロベンゾ[b]フラン11.4gを無水エーテ
ル62m1に溶解し、−70℃に冷却し。
クトル(D M S Od a * ppm )4.7
3(2H,s) 7.45〜8.17 (4H,m) 11.76(IH,bs) (実施例 65) 1−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程 1 3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニルク
ロリドの製造 3−クロロベンゾ[b]フラン11.4gを無水エーテ
ル62m1に溶解し、−70℃に冷却し。
窒if囲気下で1.5Mリチウムジイソプロピルアミド
モノテトラヒドロフランのヘキサン溶液62m1を滴下
した。30分撹拌後、内温−60℃にて撹拌しながら亜
硫酸ガスを1時間吹き込んだ。
モノテトラヒドロフランのヘキサン溶液62m1を滴下
した。30分撹拌後、内温−60℃にて撹拌しながら亜
硫酸ガスを1時間吹き込んだ。
室温で1時間撹拌後、析出した沈殿を濾取して3−クロ
ロベンゾ[bフラン−−2−スルフィン酸リチウムを得
た。これを塩化メチレン250m1に懸濁し、内温−5
0”CにてN−クロロスクシンイミド11.0gを加え
て同温で3時間、水冷下に2時間撹拌した。不溶物を濾
別し、濾液を減圧下に留去し、残液をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製して上記標題化合物8.
8gを得た。
ロベンゾ[bフラン−−2−スルフィン酸リチウムを得
た。これを塩化メチレン250m1に懸濁し、内温−5
0”CにてN−クロロスクシンイミド11.0gを加え
て同温で3時間、水冷下に2時間撹拌した。不溶物を濾
別し、濾液を減圧下に留去し、残液をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製して上記標題化合物8.
8gを得た。
融点 60.6〜68.2℃
IRスペクトル(KBr;cm−’)
1538.1402,1232,1183゜1151.
1010 39Nスペクトル(CDC13+i)l)m)7.40
〜7.98 (4H,m) 工程 2 N−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)グリシンエチルエステルの製造3−クロロベンゾ
[bフラン−−2−イルスルホニルクロリド8.6gt
グリシンエチルエステル・塩酸塩9.6gt塩化メチレ
ン83m1の懸濁液に、水冷下トリエチルアミン10.
4mlをゆっくりと加え、その後、室温で30分間撹拌
した。
1010 39Nスペクトル(CDC13+i)l)m)7.40
〜7.98 (4H,m) 工程 2 N−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)グリシンエチルエステルの製造3−クロロベンゾ
[bフラン−−2−イルスルホニルクロリド8.6gt
グリシンエチルエステル・塩酸塩9.6gt塩化メチレ
ン83m1の懸濁液に、水冷下トリエチルアミン10.
4mlをゆっくりと加え、その後、室温で30分間撹拌
した。
反応液に水150m1を加え、1M塩酸でpH2とし、
酢酸エチル300m1で抽出し、抽出液を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去
し、上記標題化合物10.2gを得た。
酢酸エチル300m1で抽出し、抽出液を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去
し、上記標題化合物10.2gを得た。
融点 104.5〜110.8℃
IRスペクトル(KBr;am−1)
3203.1736,1365,1230゜NMRスペ
クトル(D M S Od e ; ppm )1.0
1 (3H,t、J=7.1Hz )3.89(2H,
q、J=’1.IHz)3.94(2H,s) 7.50〜7.73 (4H,m ) 9.12 (I H* b s ) 工程 3 N−(8−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 N−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)グリシンエチルエステル10.2gをテトラヒド
ロフラン160m1に溶解し、これに水酸化ナトリウム
449gを水16m1に溶解した水溶液を、水冷下で滴
下した。水冷下に1時間、室温で30分間撹拌した。溶
媒を減圧留去し、残渣に水200m1を加えた後、水冷
下に機塩酸を加えてpH1とし、酢酸エチル500m
lで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後。
クトル(D M S Od e ; ppm )1.0
1 (3H,t、J=7.1Hz )3.89(2H,
q、J=’1.IHz)3.94(2H,s) 7.50〜7.73 (4H,m ) 9.12 (I H* b s ) 工程 3 N−(8−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 N−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)グリシンエチルエステル10.2gをテトラヒド
ロフラン160m1に溶解し、これに水酸化ナトリウム
449gを水16m1に溶解した水溶液を、水冷下で滴
下した。水冷下に1時間、室温で30分間撹拌した。溶
媒を減圧留去し、残渣に水200m1を加えた後、水冷
下に機塩酸を加えてpH1とし、酢酸エチル500m
lで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後。
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒の酢酸エチルを
減圧下に留去し、上記標題化合物9.2gを得た。
減圧下に留去し、上記標題化合物9.2gを得た。
融点 163.8〜167.9℃
IRスペクトル(KBr;cm−’)
3236.1709,1369,1232゜NMRスペ
クト7L/(DMSO−d6; ppm)3.84 (
2H,d、J=5.9Hz )7.38〜7.81 (
4H,m ) 9.03(IH,t、J=5.9Hz)12.67(I
H,bs) 工程 4 l−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造N−(8−クロロ
ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニル)グリシン9
.2gに、チオシアン酸アンモニウム5.32g*無水
酢酸18m1を加え、水冷下にピリジン6.68m1を
滴下した後、室温で30分間、40℃で30分間撹拌し
。
クト7L/(DMSO−d6; ppm)3.84 (
2H,d、J=5.9Hz )7.38〜7.81 (
4H,m ) 9.03(IH,t、J=5.9Hz)12.67(I
H,bs) 工程 4 l−(3−クロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造N−(8−クロロ
ベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニル)グリシン9
.2gに、チオシアン酸アンモニウム5.32g*無水
酢酸18m1を加え、水冷下にピリジン6.68m1を
滴下した後、室温で30分間、40℃で30分間撹拌し
。
70〜80℃で2時間加熱した0反応液を冷却後。
氷水300m1に注ぎ、沈殿を得た。これをエタノール
と水の混合液で十分洗浄し、上記標題化合物6.73g
を得た。
と水の混合液で十分洗浄し、上記標題化合物6.73g
を得た。
融点 195.4〜204.7℃
IRスペクトル(KBr;am−1)
3158.1758,1393,1234゜NMRスペ
クトル(D M S Od a * l) pm )4
.83(2H,s) 7.56〜7.90 (4H,m) 工程 5 l−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 −塩化ヨウ″ig5.3mlをIM塩酸160m1に混
合した溶液を氷冷し、1−(3−クロロベンゾ[bフラ
ン−−2−イルスルホニル)−2−チオヒダントイン6
.7gを加え、塩化メチレン200m1を徐々に滴下し
た。水冷下に1.5時間。
クトル(D M S Od a * l) pm )4
.83(2H,s) 7.56〜7.90 (4H,m) 工程 5 l−(3−クロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 −塩化ヨウ″ig5.3mlをIM塩酸160m1に混
合した溶液を氷冷し、1−(3−クロロベンゾ[bフラ
ン−−2−イルスルホニル)−2−チオヒダントイン6
.7gを加え、塩化メチレン200m1を徐々に滴下し
た。水冷下に1.5時間。
室温で1.5時間撹拌後9反応液に飽和亜硫酸づトリウ
ム水溶液を加え酢酸エチル600m1でh出した。抽出
液を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液。
ム水溶液を加え酢酸エチル600m1でh出した。抽出
液を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液。
飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシラノを乾燥
した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去し。
した。溶媒の酢酸エチルを減圧下に留去し。
残渣をエーテルおよびエーテルと酢酸エチルの汁合溶液
で十分洗浄して上記標題化合物3.15gを得た。
で十分洗浄して上記標題化合物3.15gを得た。
融点 246.6〜256.8℃
IRスペクトル(KBr;am”)
3226.1744,1397,1363゜1174.
1156 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.51(2H,s) 7.54〜7.89 (4H,m) 11.81(IH,bs) (実施例 66) 1−(4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 1稈 1 (3−ブロモフェニルオキシ)アセトアルデヒドジメチ
ルアセタールの製造 N、N−ジメチルホルムアミド1.41に60%水素化
ナトリウム60gを懸濁し、水冷下に3−ブロモフェノ
ール260gを滴下した。滴下終了後10分間撹拌し、
ブロモアセトアルデヒドジメチルアセタール318gを
滴下し、90”cで3時間加熱した。冷却し9反応液に
水を加え、1M塩酸で弱酸性にし、エーテル31で抽出
した。抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。減圧下にエーテルを留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、上記標題化合物363
.3gを得た。
1156 NMRスペクトル(D M S Od a ; ppm
)4.51(2H,s) 7.54〜7.89 (4H,m) 11.81(IH,bs) (実施例 66) 1−(4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 1稈 1 (3−ブロモフェニルオキシ)アセトアルデヒドジメチ
ルアセタールの製造 N、N−ジメチルホルムアミド1.41に60%水素化
ナトリウム60gを懸濁し、水冷下に3−ブロモフェノ
ール260gを滴下した。滴下終了後10分間撹拌し、
ブロモアセトアルデヒドジメチルアセタール318gを
滴下し、90”cで3時間加熱した。冷却し9反応液に
水を加え、1M塩酸で弱酸性にし、エーテル31で抽出
した。抽出液を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。減圧下にエーテルを留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、上記標題化合物363
.3gを得た。
IRスペクトル(薄膜; Cm−1)
2941.2835,1615,1506゜NMRスペ
クトル(CDCI3; ppm)3.44(6H,s) 3.96(2H,d、J=5.0Hz )4.69(I
H,t、J=5.0Hz)6.17〜7.26.(4H
,m) 工程 2 4−ブロモベンゾ[bフラン−及び6−ブロモベンゾ[
bフラン−混合物の製造 りん酸413.5mlを氷冷し、五−酸化りん344.
2gを加え、さらにクロロベンゼン870m1を加え、
油浴を用いて125℃に加熱した。
クトル(CDCI3; ppm)3.44(6H,s) 3.96(2H,d、J=5.0Hz )4.69(I
H,t、J=5.0Hz)6.17〜7.26.(4H
,m) 工程 2 4−ブロモベンゾ[bフラン−及び6−ブロモベンゾ[
bフラン−混合物の製造 りん酸413.5mlを氷冷し、五−酸化りん344.
2gを加え、さらにクロロベンゼン870m1を加え、
油浴を用いて125℃に加熱した。
これに、工程1で得られた化合物181.7gをクロロ
ベンゼン150m1に溶がした溶液を滴下し9滴下終了
後、同温で1時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、氷水
21に注ぎ、エーテル21で抽出した。抽出液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にエーテル、
クロロベンゼンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトクラフィーにて精製し、上記標題の混合物116g
を得た。
ベンゼン150m1に溶がした溶液を滴下し9滴下終了
後、同温で1時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、氷水
21に注ぎ、エーテル21で抽出した。抽出液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にエーテル、
クロロベンゼンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトクラフィーにて精製し、上記標題の混合物116g
を得た。
工程 3
4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホニルク
ロリドの製造 工程2で得られた混合物100gを無水エーテル430
m1に溶解し、−70℃に冷却し、窒素雰囲気下で1.
5Mリチウムジイソプロピルアミドモノテトラヒドロフ
ランのシクロヘキサン溶液430m1を滴下した。30
分間撹拌後、内温−60℃にて撹拌しながら亜硫酸ガス
を1時間吹き込んだ、室温で3時間撹拌後、析出した沈
殿を濾取して4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−スル
フィン酸リチウムと6−ブロモベンゾ[b〕フラン−2
−スルフィン酸リチウムの混合物を得た。
ロリドの製造 工程2で得られた混合物100gを無水エーテル430
m1に溶解し、−70℃に冷却し、窒素雰囲気下で1.
5Mリチウムジイソプロピルアミドモノテトラヒドロフ
ランのシクロヘキサン溶液430m1を滴下した。30
分間撹拌後、内温−60℃にて撹拌しながら亜硫酸ガス
を1時間吹き込んだ、室温で3時間撹拌後、析出した沈
殿を濾取して4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−スル
フィン酸リチウムと6−ブロモベンゾ[b〕フラン−2
−スルフィン酸リチウムの混合物を得た。
これを塩化メチレン21に懸濁し、内温−50’Cにて
N−クロロスクシンイミド96gを加えて。
N−クロロスクシンイミド96gを加えて。
水冷下に3時間撹拌した。不溶物を濾別し、:a液を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフ
ィーにより精製して上記標題化合物14.1gを得た。
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフ
ィーにより精製して上記標題化合物14.1gを得た。
融点 87.2℃
IRスペクトル(KBr;am−”)
1603.1578.13B9,1175゜NMRスペ
クトル(CD Cl 3; )) pm )7.43〜
7.67 (4H,m) 工程 4 N−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−1ルスルホ
ニル)グリシンエチルエステルの製造工程3で得られた
化合物14.1gを用いて〕施例65 工程2と同様の
方法により上記標題41合物16.8gを得た。
クトル(CD Cl 3; )) pm )7.43〜
7.67 (4H,m) 工程 4 N−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−1ルスルホ
ニル)グリシンエチルエステルの製造工程3で得られた
化合物14.1gを用いて〕施例65 工程2と同様の
方法により上記標題41合物16.8gを得た。
融点 115.6〜117.3℃
IRスペクトル(KBr;am”)
3199.1361,1221,1158NMRスペク
トル(CDCl2;I)I)m)1.18 (3H,t
、J=7.1Hz )3.97 (2H,d、J=5.
3Hz )4.09(2H,Qt J=7.1Hz )
5.45(IH,t、J=5.3Hz)7.26〜7.
58 (4H,m) 工程 5 N−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 工程4で得られた化合物16.8gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物14.4g
を得た。
トル(CDCl2;I)I)m)1.18 (3H,t
、J=7.1Hz )3.97 (2H,d、J=5.
3Hz )4.09(2H,Qt J=7.1Hz )
5.45(IH,t、J=5.3Hz)7.26〜7.
58 (4H,m) 工程 5 N−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)グリシンの製造 工程4で得られた化合物16.8gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物14.4g
を得た。
融点 180.0〜182.1℃
IRスペクトル(KB r ; cm”)3253.1
738,1361,1262゜NMRスペクトル(DM
SO−da;ppm)3.81(2H,s) 7.38〜7.81 (4H,m) 8.85(IH,bs) 工程 6 l−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程5で得られた
化合物14.4gを、チオシアン酸アンモニウム7.2
gと共に無水酢酸28m1に懸濁し、水冷下にピリジン
9.1mlを滴下した後、60〜70℃で2時間加熱し
た。冷却後9反応液を氷水500m1に注ぎ沈殿を得た
。
738,1361,1262゜NMRスペクトル(DM
SO−da;ppm)3.81(2H,s) 7.38〜7.81 (4H,m) 8.85(IH,bs) 工程 6 l−(4−ブロモベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニル)−2−チオヒダントインの製造工程5で得られた
化合物14.4gを、チオシアン酸アンモニウム7.2
gと共に無水酢酸28m1に懸濁し、水冷下にピリジン
9.1mlを滴下した後、60〜70℃で2時間加熱し
た。冷却後9反応液を氷水500m1に注ぎ沈殿を得た
。
これを少量のエタノールで洗浄し、上記標題化合物10
.7gt−得た。
.7gt−得た。
融点 253.3℃
■Rスペクトル(KBr;am−1)
3140.1756,1391,1248゜NMRXベ
ク)ル(DMSOda;ppm)4.77(2H,s) 7.45=7.88 (3H,m) 7.95(IH,5) 12.86(IH,bs ) 工程 7 l−(4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程6で得られた化合物10.7gを用いて実施例65
工程5と同様の方法により上記標題化合物4.8gを
得た。
ク)ル(DMSOda;ppm)4.77(2H,s) 7.45=7.88 (3H,m) 7.95(IH,5) 12.86(IH,bs ) 工程 7 l−(4−ブロモベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニル)ヒダントインの製造 工程6で得られた化合物10.7gを用いて実施例65
工程5と同様の方法により上記標題化合物4.8gを
得た。
融点 291.7〜293.5℃
IRスペクトル(KBr;am−’)
3240.1741,1390,1355゜NMRX”
7ト)Li (D M S Od e ; ’Q pm
)4.48(2H,s) 7.45〜7.90 (4H,m ) 11.78(IH,bs) (実施例 67) 1−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程 1 7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル
クロリドの製造 7−フルオロベンゾ[bフラン−10.4gを用いて実
施例65 工程1と同様の方法によ、り上記標題化合物
5.7gを得た。
7ト)Li (D M S Od e ; ’Q pm
)4.48(2H,s) 7.45〜7.90 (4H,m ) 11.78(IH,bs) (実施例 67) 1−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程 1 7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホニル
クロリドの製造 7−フルオロベンゾ[bフラン−10.4gを用いて実
施例65 工程1と同様の方法によ、り上記標題化合物
5.7gを得た。
融点 114℃
IRスペクトル(KBr;cm−1)
1596.1546,1372,1267゜NMRスペ
クトル(CD CI 3 : pI) m )7.24
〜7.69 (4H,m ) 工程 2 N−(7−フルオロベンゾ[bコツラン−2−イルスル
ホニル)グリシンエチルエステルの製造工程1で得られ
た化合物5.7gを用いて実施例65 工程2と同様の
方法により上記標題化合物6.45gを得た。
クトル(CD CI 3 : pI) m )7.24
〜7.69 (4H,m ) 工程 2 N−(7−フルオロベンゾ[bコツラン−2−イルスル
ホニル)グリシンエチルエステルの製造工程1で得られ
た化合物5.7gを用いて実施例65 工程2と同様の
方法により上記標題化合物6.45gを得た。
融点 84.5℃
IRスペクトル(KBr;cm−1)
3238.1734,1376.1232゜NMRスペ
クトル(DMSO−da;ppm)1.03 (3H,
t、J=T、IHz )3.89(2H,d、J=6.
3Hz )3.92(2H,q、J=T、IHz)7.
32〜7.66 (4H,m) 9.05(IH,t、J=6.8Hz )工程 3 N−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)グリシンの製造 工程2で得られた化合物6.4gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物5.42gを
得た。
クトル(DMSO−da;ppm)1.03 (3H,
t、J=T、IHz )3.89(2H,d、J=6.
3Hz )3.92(2H,q、J=T、IHz)7.
32〜7.66 (4H,m) 9.05(IH,t、J=6.8Hz )工程 3 N−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)グリシンの製造 工程2で得られた化合物6.4gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物5.42gを
得た。
融点 140.1℃(分解)
IRスペクトル(KBr;cm”)
3303.1734,1349.1262゜16O
NMRスペクトル(D M S Od a ; pl)
m )3.80 (2H,d、J=5.0Hz )7
.28〜7.66 (4H,m) 8.90(IH,t、J=5.0Hz)工程 4 N−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントインの製造工程3で得られ
た化合物5.4gとチオシアン酸アンモニウム3.32
gを無水酢酸12.7mlに懸濁し、窒素雰囲気、水冷
下にピリジン4゜16m1をゆっくりと滴下した。70
℃に昇温し。
m )3.80 (2H,d、J=5.0Hz )7
.28〜7.66 (4H,m) 8.90(IH,t、J=5.0Hz)工程 4 N−(7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イルスル
ホニル)−2−チオヒダントインの製造工程3で得られ
た化合物5.4gとチオシアン酸アンモニウム3.32
gを無水酢酸12.7mlに懸濁し、窒素雰囲気、水冷
下にピリジン4゜16m1をゆっくりと滴下した。70
℃に昇温し。
2時間加熱した。反応液を冷却し、氷水200m1に注
ぎ、少量のエタノールを加えて生成した沈殿を得た。こ
れを酢酸エチル200m1に溶解し。
ぎ、少量のエタノールを加えて生成した沈殿を得た。こ
れを酢酸エチル200m1に溶解し。
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下に酢酸エチルを留去し、残渣をエタノー
ルで洗浄し、上記標題化合物2.83gを得た。
燥した。減圧下に酢酸エチルを留去し、残渣をエタノー
ルで洗浄し、上記標題化合物2.83gを得た。
融点 229.9〜232.0℃
IRスペクトル(KBr;cm−’)
325B、1765,1744,1448゜NMRスペ
クトル(D M S Od e ; pprn )4.
73(2H,s) 7.39〜7.7”I (3H,m) 8.13(IH,d、J=2.6Hz)12.83(I
H,bs) 工程 5 l−(7−フルオロベンゾ[bフラン−−2−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物2.8gを用いて実施例65
工程5と同様の方法により上記標題化合物1.1gを得
た。
クトル(D M S Od e ; pprn )4.
73(2H,s) 7.39〜7.7”I (3H,m) 8.13(IH,d、J=2.6Hz)12.83(I
H,bs) 工程 5 l−(7−フルオロベンゾ[bフラン−−2−イルスル
ホニル)ヒダントインの製造 工程4で得られた化合物2.8gを用いて実施例65
工程5と同様の方法により上記標題化合物1.1gを得
た。
融点 300℃以上
IRスペクトル(KBr:Cm−’)
3381.1735.1610,1383゜NMRスペ
クトル(D M S Od a i p p m )3
.98(2H,s) 7.34〜7.71 (3H,m) 7.78(IH,d、Jヨ3.0Hz)(実施例 68
) 1−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程 1 (3,4−ジクロロフェニルオキシ)アセトアルデヒド
ジメチルアセタールの製造 3.4−ジクロロフェノール200gを用いて実施例6
6 工程1と同様の方法により上記標題化合物218.
8gを得た。
クトル(D M S Od a i p p m )3
.98(2H,s) 7.34〜7.71 (3H,m) 7.78(IH,d、Jヨ3.0Hz)(実施例 68
) 1−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程 1 (3,4−ジクロロフェニルオキシ)アセトアルデヒド
ジメチルアセタールの製造 3.4−ジクロロフェノール200gを用いて実施例6
6 工程1と同様の方法により上記標題化合物218.
8gを得た。
IRスペクトル(薄膜;cm−1)
2940.2830,1595,1475゜1297.
1235 NMRスペクトル(CD Cl 3+ pI) m )
3.45(6H,s) 3.96(2H,d、J=5.3Hz )4.89(I
H,t、J=5.3Hz)6.78(IH,dd。
1235 NMRスペクトル(CD Cl 3+ pI) m )
3.45(6H,s) 3.96(2H,d、J=5.3Hz )4.89(I
H,t、J=5.3Hz)6.78(IH,dd。
J=8.9,3.0Hz )
7.02(IH,d、J=3.0Hz )7.31(I
H,d、J =8.9Hz)工程 2 4.5−ジクロロベンゾ[bフラン−および5゜6−ジ
クロロベンゾ[b]フラン−混合物製造工程1で得られ
た化合物218.8gを用いて実施例66 工程2と同
様の方法により上記標題の混合物102.Igt−得た
。
H,d、J =8.9Hz)工程 2 4.5−ジクロロベンゾ[bフラン−および5゜6−ジ
クロロベンゾ[b]フラン−混合物製造工程1で得られ
た化合物218.8gを用いて実施例66 工程2と同
様の方法により上記標題の混合物102.Igt−得た
。
工程 3
4.5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニルクロリド及び5.6−ジクロロベンゾ[bフラン−
−2−イルスルホニルクロリドの製造 工程2で得られた混合物100gを無水エーテ/lz4
40mlに溶解し、−70℃に冷却し窒素雰囲気下で1
.5Mリチウムジイソプロピルアミドモノテトラヒドロ
フランのシクロヘキサン溶液440m1を1時間で滴下
した0滴下終了後、同温で亜硫酸ガスを1.5時間吹き
込んだ、室温で1時間撹拌後9反応液よりエーテルを留
去し、残液にエーテルを加え析出した沈殿を濾取し、4
.5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−スルフィン酸
リチウムと5,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−
スルフィン酸リチウムの混合物を得た。これを塩化メチ
レン1.81に懸濁し、内温−50℃にてN−クロロス
クシンイミド92.1gを加え同温で1.5時間撹拌し
た。室温にて不溶物を濾別し、濾液を減圧下に留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
して、4゜5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニルクロリド17.4g及び5.6−ジクロロベ
ンゾ[b]フラン−2−イルスルホニルクロリド7.4
gをそれぞれ得た。
ニルクロリド及び5.6−ジクロロベンゾ[bフラン−
−2−イルスルホニルクロリドの製造 工程2で得られた混合物100gを無水エーテ/lz4
40mlに溶解し、−70℃に冷却し窒素雰囲気下で1
.5Mリチウムジイソプロピルアミドモノテトラヒドロ
フランのシクロヘキサン溶液440m1を1時間で滴下
した0滴下終了後、同温で亜硫酸ガスを1.5時間吹き
込んだ、室温で1時間撹拌後9反応液よりエーテルを留
去し、残液にエーテルを加え析出した沈殿を濾取し、4
.5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−スルフィン酸
リチウムと5,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−
スルフィン酸リチウムの混合物を得た。これを塩化メチ
レン1.81に懸濁し、内温−50℃にてN−クロロス
クシンイミド92.1gを加え同温で1.5時間撹拌し
た。室温にて不溶物を濾別し、濾液を減圧下に留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
して、4゜5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニルクロリド17.4g及び5.6−ジクロロベ
ンゾ[b]フラン−2−イルスルホニルクロリド7.4
gをそれぞれ得た。
4.5−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イルスルホ
ニルクロリド 融点 114.6℃ IRスペクトル(KB r ; cm−1)1529.
1444,1401,1191NMRスペクトル(DM
SO−do;ppm)6.87 (IH,d、J=1.
0Hz )7.55(IH,d、J=8.9Hz)7.
69(IH,dd。
ニルクロリド 融点 114.6℃ IRスペクトル(KB r ; cm−1)1529.
1444,1401,1191NMRスペクトル(DM
SO−do;ppm)6.87 (IH,d、J=1.
0Hz )7.55(IH,d、J=8.9Hz)7.
69(IH,dd。
J=8.9,1.0Hz)
5.6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イルスルホ
ニルクロリド 融点 159.8℃ IRスペクトル(KBr;cm″′1)1537.13
90,1163,101081NスペクトルCD M
S Od a ; 1)l) m )6.87(IH,
d、J=1.0)lz)7.92(IH,s) 8.02(IH,d、J=1.0Hz)工程 4 N−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンエチルエステルの製造 工程3で得られた4、5−ジクロロベンゾ[b]フラン
−2−イルスルホニルクロリド17gを用いて実施例6
5 工程2と同様の方法により上記標題化合物18.2
gを得た。
ニルクロリド 融点 159.8℃ IRスペクトル(KBr;cm″′1)1537.13
90,1163,101081NスペクトルCD M
S Od a ; 1)l) m )6.87(IH,
d、J=1.0)lz)7.92(IH,s) 8.02(IH,d、J=1.0Hz)工程 4 N−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンエチルエステルの製造 工程3で得られた4、5−ジクロロベンゾ[b]フラン
−2−イルスルホニルクロリド17gを用いて実施例6
5 工程2と同様の方法により上記標題化合物18.2
gを得た。
融点 155.2〜155.5℃
IRスペクトル(KBr;cm”)
3199.1?37,1225.116ONMRスペク
トル(DMSOda;pI)”m)1.05(3H,t
、J=’1.IHz)3.92(2H,s) 3.95(2H,q、J=7.1Hz)7.56(IH
,s) 7.78(2H,s) 9.09(IH,bs) 工程 5 N−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンの製造 工程4で得られた化合物18gを用いて実施例65 工
程3と同様の方法により上記標題化合物16.2gを得
た。
トル(DMSOda;pI)”m)1.05(3H,t
、J=’1.IHz)3.92(2H,s) 3.95(2H,q、J=7.1Hz)7.56(IH
,s) 7.78(2H,s) 9.09(IH,bs) 工程 5 N−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンの製造 工程4で得られた化合物18gを用いて実施例65 工
程3と同様の方法により上記標題化合物16.2gを得
た。
融点 189.8〜194.7℃
IRスペクトル(KBr;cm”)
3320.1719,1366.1256゜NMRスペ
クトル(D M S Od a ; ppm )3.8
3(2H,d、J=6.3Hz )7.56(IH,s
) 7.76(2H,s) 8.97 (IH,t、 J=e、3Hz )工程 6 l−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程5で得られた化合物16gを用いて実施例65 工
程4と同様の方法により上記標題化合物7.4gを得た
。
クトル(D M S Od a ; ppm )3.8
3(2H,d、J=6.3Hz )7.56(IH,s
) 7.76(2H,s) 8.97 (IH,t、 J=e、3Hz )工程 6 l−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程5で得られた化合物16gを用いて実施例65 工
程4と同様の方法により上記標題化合物7.4gを得た
。
融点 214.6〜217.5℃
!Rスペクトル(KBr;cm−’)
1793、 1762. 1445. 1167NMR
スペクトル(D M S Od a ;ppm )4.
77(2H,s) 7.85(2H,s) 8.11(IH,5) 12.95(IH,bs) 工程 7 l−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造−塩化ヨウ素6.3m
lを1M塩酸150m lに混合した溶液を氷冷し、工
程6で得られた化合物7.3gを加え塩化メチレン15
0m1を10分で滴下した。室温で2.5時間撹拌後9
反応液を氷冷し、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて
しばらく撹拌後、析出している沈殿を濾取した。
スペクトル(D M S Od a ;ppm )4.
77(2H,s) 7.85(2H,s) 8.11(IH,5) 12.95(IH,bs) 工程 7 l−(4,5−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造−塩化ヨウ素6.3m
lを1M塩酸150m lに混合した溶液を氷冷し、工
程6で得られた化合物7.3gを加え塩化メチレン15
0m1を10分で滴下した。室温で2.5時間撹拌後9
反応液を氷冷し、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて
しばらく撹拌後、析出している沈殿を濾取した。
さらに水で洗浄後、エタノール、エーテルで順次洗浄し
、上記標題化合物4.8gを得た。
、上記標題化合物4.8gを得た。
融点 290.7〜292.0℃(分解)IRスペク
トル(KB r ;cm−1)3256.1742,1
391,1356゜NMRスペクトル(D M S O
d a i pI) m )4.47(2H,s) 7.85(2H,s) 7.98(IH,5) 11.80(IH,bs) (実施例 69) 1−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程 I N−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンエチルエステルの製造 実施例68 工程3で得られた5、6−ジクロロベンゾ
[b]フラン−2−イルスルホニルクロリド7.4gを
塩化メチレン60m1に溶解し。
トル(KB r ;cm−1)3256.1742,1
391,1356゜NMRスペクトル(D M S O
d a i pI) m )4.47(2H,s) 7.85(2H,s) 7.98(IH,5) 11.80(IH,bs) (実施例 69) 1−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程 I N−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンエチルエステルの製造 実施例68 工程3で得られた5、6−ジクロロベンゾ
[b]フラン−2−イルスルホニルクロリド7.4gを
塩化メチレン60m1に溶解し。
グリシンエチルエステル塩酸塩7.95gを懸濁させ、
窒素雰囲気下、水冷下にトリエチルアミン7.89m1
を少量ずつ加えた。20分間撹拌した後反応液を水10
0m1に注ぎ、1M塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧下に酢酸エチルを留去し、残渣をヘキサ
ンで洗い。
窒素雰囲気下、水冷下にトリエチルアミン7.89m1
を少量ずつ加えた。20分間撹拌した後反応液を水10
0m1に注ぎ、1M塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出
し、抽出液を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧下に酢酸エチルを留去し、残渣をヘキサ
ンで洗い。
上記標題化合物8.7gを得た。
融点 132.7〜133.5℃
IRスペクトル(K B r ; c m−1)322
7.1735,1360,1225゜NMRスペクトル
(D M S Od a ;ppm )1.06 (3
H,t、J=6.9Hz )3.90(2H,s) 3.95 (2H,q、J=6.9Hz )7.52(
IH,s) 8.08(IH,s) 8.20(IH,s) 9.05(IH,bs) 工程 2 N−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンの製造 工程1で得られた化合物8.6gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物7.8gを得
た。
7.1735,1360,1225゜NMRスペクトル
(D M S Od a ;ppm )1.06 (3
H,t、J=6.9Hz )3.90(2H,s) 3.95 (2H,q、J=6.9Hz )7.52(
IH,s) 8.08(IH,s) 8.20(IH,s) 9.05(IH,bs) 工程 2 N−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)グリシンの製造 工程1で得られた化合物8.6gを用いて実施例65
工程3と同様の方法により上記標題化合物7.8gを得
た。
融点 192.6〜201.8℃
IRスペクトル(KBr;am−’)
3367.1719,1359,1248゜NMRスペ
クトル(D M S Od e ; pI) m )3
.80 (2H,d、J=5.9Hz )7.51 (
IH,d、J=1.0Hz )8、’08(IH,s) 8.19(IH,d、J=1.0Hz)8.92(IH
,t、J=5.9Hz)工程 3 l−(5,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程2で得られた化合物7.7gを用いて実施例65
工程4と同様の方法により上記標題化合物3.7gfe
:得た。
クトル(D M S Od e ; pI) m )3
.80 (2H,d、J=5.9Hz )7.51 (
IH,d、J=1.0Hz )8、’08(IH,s) 8.19(IH,d、J=1.0Hz)8.92(IH
,t、J=5.9Hz)工程 3 l−(5,6−ジクロロベンゾ[bフラン−−2−イル
スルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程2で得られた化合物7.7gを用いて実施例65
工程4と同様の方法により上記標題化合物3.7gfe
:得た。
融点 246℃(分解)
!Rスペクトル(KBr;cm”)
3100.1743,1449,1246゜NMRスペ
クトル(D M S Od a ; 1)I) m )
4.73(2H,s) 8.02(IH,d、J=1.0Hz)8.20(IH
,s) 8.26(IH,d、J=1.0Hz)12.82(I
H,bs) 工程 4 l−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程3で得られた化合
物3.7gを用いて実施例65 工程5と同様の方法に
より上記標題化合物2.7gを得た。
クトル(D M S Od a ; 1)I) m )
4.73(2H,s) 8.02(IH,d、J=1.0Hz)8.20(IH
,s) 8.26(IH,d、J=1.0Hz)12.82(I
H,bs) 工程 4 l−(5,6−ジクロロベンゾ[b]フラン−2−イル
スルホニル)ヒダントインの製造工程3で得られた化合
物3.7gを用いて実施例65 工程5と同様の方法に
より上記標題化合物2.7gを得た。
融点 300℃以上(分解)
IRスペクトル(KBr;am−1)
1732.1389,1188,1167NMRスペク
トル(D M S Od a ; ppm )4.31
(2H,s ) 7.82(IH,d、J=0.7Hz)8.16(IH
,s) 8.27(IH,d、J=0.7Hz )(実施例 7
0) 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)ヒダントインの製造 工程 1 2.3−ジブロモ−2,3−ジヒドロ−7−フルオロベ
ンゾ[bフラン−の製造 7−フルオロベンゾ[bフラン−16gを四塩化炭素4
0m1に溶解し、これに内温−30℃で臭素22gの二
硫化炭素40m1溶液を滴下した。
トル(D M S Od a ; ppm )4.31
(2H,s ) 7.82(IH,d、J=0.7Hz)8.16(IH
,s) 8.27(IH,d、J=0.7Hz )(実施例 7
0) 1−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)ヒダントインの製造 工程 1 2.3−ジブロモ−2,3−ジヒドロ−7−フルオロベ
ンゾ[bフラン−の製造 7−フルオロベンゾ[bフラン−16gを四塩化炭素4
0m1に溶解し、これに内温−30℃で臭素22gの二
硫化炭素40m1溶液を滴下した。
同温で1時間撹拌後1反応液を室温にして、析出してい
る沈殿を濾取し、上記標題化合物34.4gを得た。
る沈殿を濾取し、上記標題化合物34.4gを得た。
IRスペクトル(KBr;cm−”)
1834.1801.1489.1459゜1279、
1179 NMRスペクトル(CD Cl 3 s pI) m
)5.74(IH,d、J=1.3Hz)8.93(I
H,s) 7.11〜7.35 (3H,m) 工程 2 3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−製造 エタノール180m1に水酸化カリウム12゜7gを溶
解し、水冷下、工程1で得られた化合物34gを徐々に
加えた。3時間撹拌後1反応液を酢酸で中和し、水を加
え、エーテルで抽出した。
1179 NMRスペクトル(CD Cl 3 s pI) m
)5.74(IH,d、J=1.3Hz)8.93(I
H,s) 7.11〜7.35 (3H,m) 工程 2 3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−製造 エタノール180m1に水酸化カリウム12゜7gを溶
解し、水冷下、工程1で得られた化合物34gを徐々に
加えた。3時間撹拌後1反応液を酢酸で中和し、水を加
え、エーテルで抽出した。
抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。減圧下にエーテルを留去し、上記標題
化合物24.1gを得た。
ウムで乾燥した。減圧下にエーテルを留去し、上記標題
化合物24.1gを得た。
IRスペクトル(neat;cm−”)3150.16
36,1595,1494゜1434.1322 NMRスペクトル(CD Cl 3 : p l) m
)6.98〜7.36 (3H,m) 7.68(IH,s) 工程 3 3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イ
ルスルホニルクロリドの製造 工程2で得られた化合物24.1gを用いて実施例65
工程1と同様の方法により上記標題化合物12.2g
を得た。
36,1595,1494゜1434.1322 NMRスペクトル(CD Cl 3 : p l) m
)6.98〜7.36 (3H,m) 7.68(IH,s) 工程 3 3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−2−イ
ルスルホニルクロリドの製造 工程2で得られた化合物24.1gを用いて実施例65
工程1と同様の方法により上記標題化合物12.2g
を得た。
IRスペクトル(KBr;cm−1)
1602.1533,1385,1168NMRスペク
トル(D M S Od a ; p’p m )7.
33〜7.39 (3H,m) 工程 4 N−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)グリシンエチルエステルの製造 工程3で得られた化合物12.2gを用いて。
トル(D M S Od a ; p’p m )7.
33〜7.39 (3H,m) 工程 4 N−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)グリシンエチルエステルの製造 工程3で得られた化合物12.2gを用いて。
実施例65 工程2と同様の方法により上記標題化合物
10.2gを得た。
10.2gを得た。
融点 126.2〜126.4℃
IRスペクトル(KB r : Cm−1)3200.
1731,1366.1237゜NMRスペクトル(D
M S Od s : ppm )1.01 (3H
,t、J=7.1Hz )3.89 (2H,q、J=
7. 1Hz )3.96(2H,d、J=5.6Hz
)7.47〜7.66(3H,m) 9.32(IH,t、 J=5.6Hz)工程 5 N−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−
2−イルスルホニル)グリシンの製造工程4で得られた
化合物10.2gを用いて実施例65 工程3と同様の
方法により上記標題化合物7.25gを得た。
1731,1366.1237゜NMRスペクトル(D
M S Od s : ppm )1.01 (3H
,t、J=7.1Hz )3.89 (2H,q、J=
7. 1Hz )3.96(2H,d、J=5.6Hz
)7.47〜7.66(3H,m) 9.32(IH,t、 J=5.6Hz)工程 5 N−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−
2−イルスルホニル)グリシンの製造工程4で得られた
化合物10.2gを用いて実施例65 工程3と同様の
方法により上記標題化合物7.25gを得た。
融点 148.5〜159.6℃
IRスペクトル(KBr;cm”)
3223.1716,1373.1246゜NMRスペ
クトル(D M S Od 6;pI) m )3.8
6(2H,s) 7.46〜7.58 (3H,m) 9.18(IH,bs) 工程 6 l−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程5で得られた化合物7.2gを用いて実施例65
工程4と同様の方法により上記標題化合物5.07gを
得た。
クトル(D M S Od 6;pI) m )3.8
6(2H,s) 7.46〜7.58 (3H,m) 9.18(IH,bs) 工程 6 l−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[bフラン−−
2−イルスルホニル)−2−チオヒダントインの製造 工程5で得られた化合物7.2gを用いて実施例65
工程4と同様の方法により上記標題化合物5.07gを
得た。
融点 224.3〜224.7℃(分解)IRスペク
トル(KB r ; c m−1)3290.1793
,1765,1235゜NMRスペクトル(D M S
Od a : ppm )4.83(2H,s) 7.57〜7.72 (3H,m) 12.93(IH,bs) 工程 7 l−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−
2−イルスルホニル)ヒダントインの製造 一塩化ヨウ素3.3mlをIM塩酸110m1に混合し
た溶液を氷冷し、工程6で得られた化合物5gを加え、
塩化メチレン140m1を滴下した。室温で6時間撹拌
後、−塩化ヨウ素1.7m1を追加し、さらに1時間撹
拌した。反応液に飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、
析出した沈殿を濾取した。濾液を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。沈殿は、IM塩酸1
00m1に懸濁し、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
トル(KB r ; c m−1)3290.1793
,1765,1235゜NMRスペクトル(D M S
Od a : ppm )4.83(2H,s) 7.57〜7.72 (3H,m) 12.93(IH,bs) 工程 7 l−(3−ブロモ−7−フルオロベンゾ[b]フラン−
2−イルスルホニル)ヒダントインの製造 一塩化ヨウ素3.3mlをIM塩酸110m1に混合し
た溶液を氷冷し、工程6で得られた化合物5gを加え、
塩化メチレン140m1を滴下した。室温で6時間撹拌
後、−塩化ヨウ素1.7m1を追加し、さらに1時間撹
拌した。反応液に飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、
析出した沈殿を濾取した。濾液を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。沈殿は、IM塩酸1
00m1に懸濁し、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
両袖出液から減圧下に溶媒を留去し、残渣をエタノール
、エーテルで順次洗浄し、上記標題化合物1.66gを
得た。
、エーテルで順次洗浄し、上記標題化合物1.66gを
得た。
融点 266.6〜270.6℃
IRスペクトル(KBr;cm−”)
3160.1725,1393.1184゜NMRスペ
クトル(DMSOdapppm)4.50 (2H,s
) 7.53〜7.7’l (3H9m )11.85(
IH,bs) 以下実施例71ないし76を実施例65と同様に実施し
、得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び
融点を第5表に示した。
クトル(DMSOdapppm)4.50 (2H,s
) 7.53〜7.7’l (3H9m )11.85(
IH,bs) 以下実施例71ないし76を実施例65と同様に実施し
、得られた化合物のIR,NMRスペクトルデータ及び
融点を第5表に示した。
以下余白
実施例3から41.43から48.55から56および
71から76の中間体化合物のIR,NMRスペクトル
データ及び融点を第6表から第10表に示した。
71から76の中間体化合物のIR,NMRスペクトル
データ及び融点を第6表から第10表に示した。
以下余白
玉旦表
Q−3
−C
*印を付したNMRスペクトルデータはCDCl3中で
測定しtこ。
測定しtこ。
*印を付したNMRスペクトルデータLtCDC13中
で81I定しすこ。
で81I定しすこ。
*印を付したNMRスペクトルデータはCDCl3中で
測定した。
測定した。
*印を付したNMRスペクトルデータはCDC11中で
測定した。
測定した。
*印を付したNMRスペクトルデータはCDCl3中で
測定した。
測定した。
*印を付したNMRスペクトルデータはCDCl3中で
測定した。
測定した。
*印を付したNMRスペクトルデータはCDCl3中で
測定した。
測定した。
*申を付したNMRスペクトルデータはCDCh中で測
定した。
定した。
第1表
Q−3O,NHCH2C00Et
第旦入
Q−5O2NHCH2CO2H
第旦表
Q−SO2N’HCH2CON’H。
次に本発明の化合物を含有する製剤の実施例を示すが9
本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例A カプセル剤
実施例1の化合物 300g
乳糖 685g
ステアリン酸マグネシウム 15g
上記成分をそれぞれ秤量したのち均一に混合する。混合
粉体をNo、1のハードカプセルに200mgずつ充填
し、カプセル剤とする。
粉体をNo、1のハードカプセルに200mgずつ充填
し、カプセル剤とする。
実施例B カプセル剤
実施例35の化合物 250g
乳糖 730g
ステアリン酸マグネシウム 20g
上記成分をそれぞれ秤量したのち均一に混合する。混合
粉体なNo、1のハードカプセルに200mgずつ充填
し、カプセル剤とする。
粉体なNo、1のハードカプセルに200mgずつ充填
し、カプセル剤とする。
実施例C錠剤
実施例37の化合物 300g
乳糖 550g
ポテト澱粉 120g
ポリビニルアルコール 15g
ステアリン酸マグネシウム 15g
上記成分を秤量したのち、実施例37の化合物。
乳糖、ポテト澱粉を均一に混合する。この混合物にポリ
ビニルアルコールの水溶液を加え、湿式顆粒造粒法によ
り顆粒を調製する。この顆粒を乾燥し、ステアリン酸マ
グネシウムを混合したのち圧縮打錠して重量200mg
の錠剤とする。
ビニルアルコールの水溶液を加え、湿式顆粒造粒法によ
り顆粒を調製する。この顆粒を乾燥し、ステアリン酸マ
グネシウムを混合したのち圧縮打錠して重量200mg
の錠剤とする。
実施例D 散剤
実施例75の化合物 200g
乳糖 790g
ステアリン酸マグネシウム 10g
上記成分をそれぞれ秤量したのち、均一に混合して20
%散剤とする。
%散剤とする。
実施例E 坐剤
実施例68の化合物 100gポリエチレン
グリコール1500 180 gポリエチレングリコ
ール4000 720 g実施例68の化合物を乳鉢
でよく研磨して微細な粉末とした後、熔融法によって1
gの直腸坐剤とする。
グリコール1500 180 gポリエチレングリコ
ール4000 720 g実施例68の化合物を乳鉢
でよく研磨して微細な粉末とした後、熔融法によって1
gの直腸坐剤とする。
[発明の効果]
本発明物質は9強力なAR活性阻害能を有すると同時に
、実験動物モデルにおいて白内障阻止作用、神経障害阻
止作用、血糖低下作用を示すので。
、実験動物モデルにおいて白内障阻止作用、神経障害阻
止作用、血糖低下作用を示すので。
糖尿病の各種合併症に対する治療及び予防効果が期待さ
れる。
れる。
また9本発明物質は従来報告されたことのない新規な物
質であり、過去に報告されているスルホニルヒダントイ
ン誘導体に比べてAR活性阻害能が強力で、より少量t
ウシ水晶体のAR活性阻害能を示す、従って糖尿病の各
種合併症に対する治療薬として医薬品に応用した際に、
従来の物質よりもより強力な治療効果が期待でき、また
現在では治療が困難である疾患の治療が可能になるなど
。
質であり、過去に報告されているスルホニルヒダントイ
ン誘導体に比べてAR活性阻害能が強力で、より少量t
ウシ水晶体のAR活性阻害能を示す、従って糖尿病の各
種合併症に対する治療薬として医薬品に応用した際に、
従来の物質よりもより強力な治療効果が期待でき、また
現在では治療が困難である疾患の治療が可能になるなど
。
全く新しい効果も期待される。
また1本発明物質はAR活性阻害能が従来のスルホニル
ヒダントイン誘導体に比べて強力なため。
ヒダントイン誘導体に比べて強力なため。
同程度の効果を期待するために要する物質の量がより少
なくて済み、副作用発現の危険性がより少なく、またよ
り経済的に使用することができる。
なくて済み、副作用発現の危険性がより少なく、またよ
り経済的に使用することができる。
特許出願人 持田製薬株式会社
Claims (14)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝
鎖のアルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキ
ル基、ビフェニリル基、あるいはハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいカルボキシメチ
ル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基
、低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、
保護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいア
ミノ基、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群
から選ばれる同一または異なる基1個以上で置換されて
いてもよい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わす
)で表わされるヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物
および塩の溶媒和物。 - (2)縮合複素環基が置換されていてもよいベンゾ[b
]チエン−2−イル基である請求項1記載の化合物、そ
の塩、溶媒和物および塩の溶媒和物。 - (3)縮合複素環基が置換基で置換されていてもよいベ
ンゾ[b]フラン−2−イル基である請求項1記載の化
合物、その塩、溶媒和物および塩の溶媒和物。 - (4)置換基が1ないし3個のハロゲン原子である請求
項3記載の化合物、その塩、溶媒和物および塩の溶媒和
物。 - (5)一般式(II) Q−SO_2NHCH_2CONH_2(II)(式中、
Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝鎖のアル
キル基、炭素原子数3から6までの環状アルキル基、ビ
フェニリル基、あるいはハロゲン原子、低級アルキル基
、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよいカルボキ
シル基、保護されていてもよいカルボキシメチル基、ハ
ロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級アルキル
スルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護され
ていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ基、
カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群から選ば
れる同一または異なる基1個以上で置換されていてもよ
い単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わす)で表わ
されるスルホニルグリシン誘導体をハロゲン化蟻酸エス
テルの存在下で環化させる工程からなる一般式( I )
▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Qは前記と同一の意味を有する)で表わされる
ヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物および塩の溶媒
和物の製造方法。 - (6)一般式(III) Q−SO_1NHCH_2CO−R^1(III)(式中
、Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝鎖のア
ルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキル基、
ビフェニリル基、あるいはハロゲン原子、低級アルキル
基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよいカルボ
キシル基、保護されていてもよいカルボキシメチル基、
ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基、低級
アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級アルキ
ルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護さ
れていてもよい水酸基、保護されていてもよいアミノ基
、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群から選
ばれる同一または異なる基1個以上で置換されていても
よい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わし、R^
1は水酸基またはアルコキシ基を表わす)で表わされる
スルホニルグリシン誘導体とチオシアン酸塩を反応させ
て、一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Qは前記と同一の意味を有する)で表わされる
チオヒダントイン誘導体とする工程、および該誘導体を
酸化または加水分解する工程とからなる一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Qは前記と同一の意味を有する)で表わされる
ヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物および塩の溶媒
和物の製造方法。 - (7)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝
鎖のアルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキ
ル基、ビフェニリル基、あるいはハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいカルボキシメチ
ル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基
、低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、
保護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいア
ミノ基、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群
から選ばれる同一または異なる基1個以上で置換されて
いてもよい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わす
)で表わされるヒダントイン誘導体、その塩、溶媒和物
または塩の溶媒和物のうち少なくとも一つを有効成分と
して含有する医薬組成物。 - (8)縮合複素環基が置換されていてもよいベンゾ[b
]チエン−2−イル基である請求項7記載の医薬組成物
。 - (9)縮合複素環基が置換基で置換されていてもよいベ
ンゾ[b]フラン−2−イル基である請求項7記載の医
薬組成物。 - (10)置換基が1ないし3個のハロゲン原子にである
請求項9記載の医薬組成物。 - (11)一般式(V) Ω−SO_1NHCH_2CO−R(V) (式中、Qは炭素原子数1から8までの直鎖または分枝
鎖のアルキル基、炭素原子数3から6までの環状アルキ
ル基、ビフェニリル基、あるいはハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ニトロ基、シアノ基、保護されていてもよい
カルボキシル基、保護されていてもよいカルボキシメチ
ル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルキルチオ基
、低級アルキルカルボニル基、低級アルコキシ基、低級
アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、
保護されていてもよい水酸基、保護されていてもよいア
ミノ基、カルバモイル基もしくはフェニル基からなる群
から選ばれる同一または異なる基1個以上で置換されて
いてもよい単環複素環基あるいは縮合複素環基を表わし
、Rは水酸基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニ
ル基で置換されていてもよいアミノ基を表わす)で表わ
されるヒダントイン誘導体合成における中間体化合物で
あるスルホニルグリシン誘導体。 - (12)縮合複素環基が置換されていてもよいベンゾ[
b]チエン−2−イル基である請求項11記載のスルホ
ニルグリシン誘導体。 - (13)縮合複素環基が置換されていてもよいベンゾ[
b]フラン−2−イル基である請求項11記載のスルホ
ニルグリシン誘導体。 - (14)置換基が1ないし3個のハロゲン原子である請
求項13記載のスルホニルグリシン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1217697A JPH0615539B2 (ja) | 1988-08-24 | 1989-08-24 | ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 |
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/235,557 US4914099A (en) | 1987-08-28 | 1988-08-24 | Hydantoin derivatives as aldose reductase inhibitors |
| US235557 | 1988-08-24 | ||
| JP1-43422 | 1989-02-25 | ||
| JP4342289 | 1989-02-25 | ||
| JP235557 | 1989-02-25 | ||
| JP1217697A JPH0615539B2 (ja) | 1988-08-24 | 1989-08-24 | ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04128266A true JPH04128266A (ja) | 1992-04-28 |
| JPH0615539B2 JPH0615539B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=27291529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1217697A Expired - Fee Related JPH0615539B2 (ja) | 1988-08-24 | 1989-08-24 | ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615539B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03294270A (ja) * | 1990-02-23 | 1991-12-25 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | ヒダントイン誘導体を有効成分として含有する血糖低下剤 |
| WO1997002033A1 (en) * | 1995-06-30 | 1997-01-23 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Uricosuric agent |
| JP2000327674A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-11-28 | Tosoh Corp | 4−ハロベンゾフラン誘導体及びその製造方法 |
| WO2011058915A1 (ja) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | 住友精化株式会社 | 芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61236773A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-22 | Kaken Pharmaceut Co Ltd | ビス―ベンゾフラン誘導体 |
-
1989
- 1989-08-24 JP JP1217697A patent/JPH0615539B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61236773A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-22 | Kaken Pharmaceut Co Ltd | ビス―ベンゾフラン誘導体 |
Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2000327674A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-11-28 | Tosoh Corp | 4−ハロベンゾフラン誘導体及びその製造方法 |
| WO2011058915A1 (ja) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | 住友精化株式会社 | 芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0615539B2 (ja) | 1994-03-02 |
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