JPH04130142A - 真空連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ＰＥＴフィルム等のプラスチック成形品、天
然もしくは合成繊維、または塗装鋼板等の非処理物に、
真空状態でプラズマ処理または蒸着処理等の処理を連続
的に施す真空連続処理装置に係り、特に装置全体を小型
化するために好適な真空連続処理装置に関する。

［従来の技術］ この種真空連続処理装置の従来技術には、特開昭６３−
３０５１４０号公報に記載されている技術がある。

この公報に記載の従来技術では、真空処理室の前方およ
び後方に、それぞれ少なくとも１個の予備真空室が設置
されている。前記真空処理室の前方側の予備真空室のさ
らに前方には、被処理物の巻出軸が配置され、同真空処
理室の後方側の予備真空室のさらに後方には、処理物の
巻取軸が配置されている。前記巻出軸と予備真空室の間
、予備真空室内、真空処理室内、予備真空室と巻取軸の
間には、それぞれガイドロールやテンションロールを含
む案内部材が設けられている。前記予備真空室と真空処
理室間には、下ケースと、「コ型の溝を有する上ケース
とが、Ｏリングをはさんで配置されている。前記上ケー
スのｒコ型の溝内にはシールブロックが収容されている
。このシールブロックと前記下ケース間には、被処理物
を一方向にのみ通過させるスリットを有するシール装置
が設けられている。前記シールブロックは、コラムに取
り付けられており、このコラムは上下方向に調節可能な
調節手段に連結されていて、前記スリットは調節手段を
操作することにより、コラムおよびシールブロックを通
じて、上下方向に調節されるようになっている。前記下
ケースとシールブロックには、互いに対向する位置にエ
ア噴出口が設けられており、このエア噴出口から噴出さ
れたエアにより、前記スリットをシールするようになっ
ている。

そして、被処理物を巻出軸から巻き戻して繰り出し、そ
の被処理物を案内部材を通じて予備真空室に導入し、予
備真空室内に設けられた案内部材を通じて、シール装置
に設けられたスリットを通過させ、真空処理室に導入し
、被処理物をこの真空処理室内で処理し、その処理物を
真空処理室内に設けられた案内部材により真空処理室か
ら導出し、シール装置に設けられたスリットを通過させ
、予備真空室内に設けられた案内部材により導出し。

ついで予備真空室と巻取軸の間に設けられた案内部材を
通じて巻取軸に導き、処理物を巻取軸に巻き取り、被処
理物を連続的に処理するようにしている。

なお、この種真空連続処理装置に関連する従来技術とし
ては、米国特許第３，０５７，７９２号明細書に開示さ
れている技術等がある。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、前記特開昭６３−３０５１４０号公報に記載の
従来技術では、真空処理室の前方側と後方側とに、それ
ぞれシール装置をはさんで予備真空室を設置している。

このため、装置全体が大型となり、広い設置スペースを
要するという問題があった。

本発明の第１の目的は、装置全体を著しく小型化し得る
真空連続処理装置を提供することにある。

さらに、本発明の第２の目的は、シール装置のスリット
の壁面に接触することによって起きる被処理物や処理物
の損傷を防止し得る真空連続処理装置を提供することに
ある。

［課題を解決するための手段］ 前記第１の目的は、真空処理室の一方にのみ、少なくと
も１個の予備真空室を設置し、前記真空処理室と予備真
空室間に、被処理物と処理物とを通過させ得るスリット
を有しかつ予備真空室側から真空処理室に通じる空間を
シールするシール装置を設けたことにより、達成される
。

また、同第１の目的は前記予備真空室と真空処理室に、
被処理物を予備真空室から真空処理室に案内し、移送す
る第１の移送案内手段と、処理物を真空処理室から予備
真空室に折り返し案内し。

移送する第２の移送案内手段とを配置したことによって
、より良く達成される。

さらに、前記第２の目的は前記シール装置を互いに対向
させて配置された第１．第２のシールブロックで形成し
、これら第１．第２のシールブロックのうちの少なくと
も一方のシールブロックを第１の調節手段に連結し、こ
の第１の調節手段に連結されたシールブロックを他方の
シールブロックに対して接近、離間させ、前記第１．第
２のシールブロック間に形成されるスリットを調節可能
に構成したことにより、達成される。

さらにまた、同第２の目的は前記第１．第２の移送案内
手段をそれぞれ第２の調節手段に連結し。

第１の移送案内手段により案内され、移送される被処理
物と、第２の移送案内手段により案内され。

移送される処理物とが前記スリットに接触しないように
、ｙＩＲ節可能に構成したことにより、達成される６ ［作用］ 本発明の請求項１記載の発明では、真空処理室の一方に
のみ、予備真空室を設置している。そして、前記予備真
空室と真空処理室との間に、シール装置を設けている。

前記シール装置は、被処理物と処理物とを通過させ得る
スリットを有し、かつ予備真空室側から真空処理室に通
じる空間をシールしている・ このように、請求項１記載の発明では、真空処理室の一
方にのみ予備真空室を設置し、シール装置に設けられた
スリット内を、被処理物と処理物の両方を通過させ得る
ようにしているので、装置全体を著しく小型化すること
ができ、したがって設置するためのスペースを少なくす
ることができる。

また、本発明の請求項２記載の発明では、前記予備真空
室と真空処理室に、被処理物用の第１の移送案内手段と
、処理物用の第２の移送案内手段とを配置している。

そして、第１の移送案内手段により、予備真空室から真
空処理室に被処理物を案内し、移送する。

ついで、第２の移送案内手段により、真空処理室から予
備真空室に処理物を折り返し案内し、移送するようにし
ている。

したがって、真空処理室の一方にのみ予備真空室を設置
したうえで、予備真空室から真空処理室へ被処理物をス
ムーズに導入し、かつ真空処理室から予備真空室へ処理
物をスムーズに導出することができる。

さらに、本発明の請求項３記載の発明では、前記シール
装置を第１．第２のシールブロックで形成し、これら第
１．第２のシールブロックの少なくとも一方のシールブ
ロックを第１の調節手段に連結している。

そして、前記第１の調節手段に連結された一方のシール
ブロックを、他方のシールブロックに対して接近、離間
させ、第１．第２のシールブロック間に形成されるスリ
ットを調節できるようにしている。

その結果、前記スリットを被処理物と処理物とを通過さ
せるために必要な適正な間隔に調節することによって、
シール作用を保持したうえで、第１、第２のシールブロ
ックに被処理物や処理物が接触することによって起きる
被処理物や処理物の損傷を防止することができる。

また１本発明の請求項４記載の発明では、前記第１．第
２の移送案内手段をそれぞれ第２の調節手段に連結して
いる。

これにより、第１の移送案内手段で案内され。

移送される被処理物と、第２の移送案内手段で案内され
、移送される処理物とをそれぞれスリットの壁面に接触
しないように調節することが可能となる。

したがって、この請求項４記載の発明においても、スリ
ットの壁面に接触することに起因する被処理物や処理物
の損傷を防止することができる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面により説明する。

第１図〜第５図は本発明の一実施例を示すもので、第１
図は装置全体の縦断側面図、第２図は開平面図、第３図
は隣接する二つの予備真空室と、その間に設けられたシ
ール装置と、スリット調節用の第１の調節手段とを示す
一部拡大縦断側面図、第４図は第１．第２の移送案内手
段調節用の第２の調節手段を示す一部拡大横断平面図、
第５図は第４図のＶ−Ｖ線断面図である。

この実施例では、被処理物Ｆ１として例えばＰＥＴフィ
ルムのような、可撓性をもったプラスチックフィルムを
、真空状態で連続的に例えばプラズマ処理するように構
成されている。

また、この実施例の真空連続処理装置では、第１図およ
び第２図に示すように、真空処理室１と、これの一方に
のみ連設された複数個（図では３個）の予備真空室２と
、大気側の予備真空室２の外部に配置された被処理物Ｆ
ｌの巻出軸３および処理物Ｆ２の巻取軸９と、スリット
２０を有するシール装置１９と、スリット調節用の第１
の調節手段と、各予備真空室２内に２段に配置された第
１．第２の移送案内手段と、第１．第２の移送案内手段
調節用の第２の調節手段とを備えて構成されている。

前記巻出軸３には、第１図に示すように、被処理物Ｆｌ
が巻装されている。この巻出軸３は、回転可能に支持さ
れていて、被処理物Ｆｌを巻き戻し、繰り出すようにな
っている。前記巻出軸３から繰り出された被処理物Ｆ、
は、第１図に示すように、ガイドロールや、張力検出ロ
ール１０およびインフィードロール４等を経て、大気側
の予備真空室２→次の予備真空室２→真空処理室１側の
予備真空室２→真空処理室１に順次、移送されるように
なっている。

前記各予備真空室２には、第２図に示すように、真空配
管１２と、これに接続された真空ポンプ１３とが配備さ
れている。そして、３個の予備真空室２は真空処理室１
の真空圧力よりも若干高く、かつ大気側の予備真空室２
、次の予備真空室２、真空処理室１側の予備真空室２の
順に、大気圧よりも段階的に低い真空圧力を保持するよ
うに、真空排気されるようになっている。また、各予備
真空室２内には、第１図および第３図に示すように、被
処理物用の第１の移送案内手段が下段に、処理物用の第
２の移送案内手段が上段側に配置されている。前記第１
の移送案内手段はガイドロール２９と張力付与ロール３
０とガイドロール３１とにより構成され、前記第２の移
送案内手段はガイドロール３２と張力付与ロール３３と
ガイドロール３４とにより構成されている。

前記真空処理室１には、第２図に示すように、真空配管
１４と、これに直列に接続された真空ポンプ１５．１６
とが配備されている。前記真空処理室１は、これら真空
配管１４および真空ポンプ１５．１６により、例えば１
０−’Ｔｏｒｒ程度の真空圧力に保持されるようになっ
ている。さらに、真空処理室１内には被処理物用の処理
ドラム６やガイドロールが配置されている。

前記大気側とこれに隣接する予備真空室２の間と、相隣
接する予備真空室２，２間と、予備真空室２と真空処理
室１の間−１番、第１図に示すように、シール装置１９
が設けられている。

前記シール装置１９は、第３図に拡大示するように、第
１のシールブロック２１と、第２のシールブロック２２
とで形成されている。前記第１のシールブロック２１は
下ケース１７の上面に０リング２３をはさんで配置され
、前記第２のシールブロック２２は上ケース１８の下面
にＯリング２４をはさんで配置されている。前記第１の
シールブロック２１と第２のシールブロック２２間には
、スリット２０が形成されている。前記スリット２０は
、被処理物Ｆ１を下側に、処理物Ｆ２を上側に配して非
接触状態で通過させ、かつシール装置１９の前後間をシ
ールし得るようになっている。

前記スリット調節用の第１の調節手段は、第３図に示す
ように、第１．第２のシールブロック２１゜２２に各別
に取り付けられたロッド２５．２６と、前記ロッド２５
．２６を各別に上下方向に微動させる微動機構（図示せ
ず）とを有している。なお、下ケース１７とロッド２５
間には０リング２７が介装され、上ケース１８とロッド
２６間にはＯリング２８が介装されている。そして、こ
の第１の調節手段は微動機構およびロッド２５．２６を
介して、第１．第２のシールブロック２１．２２の少な
くとも一方のシールブロックを、他方のシールブロック
に対して接近、離間させることにより、前記スリット２
０の上下方向の間隔を調節し得るようになっている。

前記第１．第２の移送案内手段調節用の第２の調節手段
は、第４図および第５図に示すように、各予備真空室２
内に配置された各ガイドロール（第４図および第５図で
は代表してガイドロール２９を示している）に付設され
ている。また、この第２の調節手段はシャフト３５と、
カラー３７ａ、　３７ｂを有しかつ２個一対の偏心ハウ
ジング３６ａ、　３６ｂと、前記シャフト３５の軸方向
に間隔をおいて取り付けられたギヤ３８ａ、　３８ｂと
、前記カラー３７ａ、　３７ｂを介して偏心ハウジング
３６ａ、　３６ｂに固定されかつギャ３８ａ、　３８ｂ
に噛み合わされた偏心ギヤ３９ａ、　３９ｂとを備えて
いる。前記シャフト３５は、下ケース１７と上ケース１
８（第４図および第５図中では代表して下ケース１７を
示している）にガイドロールと平行に、かつ回転可能に
支持されている。前記偏心ハウジング３６ａ、　３６ｂ
は、第１．第２の移送案内手段のガイドロールの軸方向
に間隔をおいて配置され、ガイドロールの軸心に対して
偏心回転可能に下ケース１７および上ケース１８に取り
付けられている。各ガイドロールは、偏心ギヤ３９ａ、
　３９ｂと一緒に移動可能に、かつ偏心ギヤ３９ａ、　
３９ｂに対して独立に回転可能に取り付けられている。

そして、この第２の調節手段はシャフト３５を手動また
は回転駆動源（図示せず）により回転させると、ギヤ３
８ａ、　３８ｂが回転し、これにより偏心ギヤ３９ａ、
　３９ｂと偏心ハウジング３６ａ、　３６ｂとが一緒に
偏心回転し、これに伴いガイドロールが上下方向に移動
し、被処理物Ｆ１や処理物Ｆ２がスリット２０の壁面で
ある第１のシールブロック２１の上面または第２のシー
ルブロック２２の下面に接触しないように、調節可能に
構成されている。

前記処理物Ｆ２の巻取軸９は、第１図に示すように、大
気側に配置され、回転可能に支持されている。この巻取
軸９には、大気側の予備真空室２から取り出された処理
物Ｆ２がガイドロールやアウトフィードロール８および
張力検出ロール１１等を経て送り込まれ、巻き取られる
ようになっている。

前記実施例の真空連続処理装置は、次のように運転され
、作用する。

まず、真空処理室１および各予備真空室２を所定の真空
圧力に真空排気し、かつ所定の真空圧力に保持する。

ついで、第１図に示すように、巻出軸３に巻かれている
例えばＰＥＴフィルム等の被処理物Ｆは、巻出軸３より
繰り出され、ガイドロールや張力検出ロール１０および
インフィードロール４等を経て予備真空室２の列の出入
口に導かれ、大気側とこれに隣接する予備真空室２間に
設けられたシール装置１９のスリット２０に挿入され、
このスリット２０を通過し、大気側に隣接する予備真空
室２に送り込まれる。前記大気側に隣接する予備真空室
２に送り込まれた被処理物Ｆ１は、第１の移送案内手段
を構成している下側のガイドロール２９、張力付与ロー
ル３０およびガイドロール３１を経て次のシール装置１
９のスリット２０に挿入される。以下同様に、被処理物
Ｆ−よ前記シール装置ｉ１９のスリット２０→予備真空
室２→シール装！１９のスリット２０→予備真空室２→
シール装置１９のスリット２０を通り、ガイドロールや
フィードロール５等により真空処理室１に導入される。

前記真空処理室１に導入された被処理物Ｆ１は、第１図
に示すように、処理ドラム６、にほぼＵ字形に導かれ、
この被処理物Ｆ！に例えば１０−”　Ｔ　ｏｒｒ等の真
空圧力下でプラズマ処理が施される。

所定の処理が施された処理物Ｆ２は、第１図に示すよう
に、ガイドロールやフィードロール７等により真空処理
室１の出入口に折り返し導かれ、真空処理室１と予備処
理室２間のシール装置１９のスリット２０に挿入され、
このスリット２０を通過し、真空処理室１に隣接する予
備真空室２に導入される。この予備真空室２に導入され
た処理物Ｆ２は、第２の移送案内手段を構成している上
側のガイドロール３２、張力付与ロール３３およびガイ
ドロール３４を経て次のシール装置１９のスリット２０
に挿入される。以下同様に、処理物Ｆ２は前記シール装
置１９のスリット２０→予備真空室２→シール装置１９
のスリット２０→予備真空室２→シール装置】９のスリ
ット２０を経て大気側に導かれ、ガイドロールやアウト
フィードロール８および張力検出ロール１１を通って巻
取軸９に送り込まれ、巻き取られる。

以上の説明からも分かるように、この実施例では真空処
理室１の一方にのみ、予備真空室２を連ねているので、
装置全体の長さを著しく短縮でき、小型化することが可
能であり、しかも被処理物Ｆ、に連続的に処理を施すこ
とができる。

ところで、この実施例では前記各シール装置１９は第１
．第３図に示すように、下側に配置された第１のシール
ブロック２１と、上側に配置された第２のシールブロッ
ク２２とにより構成され、第１゜第２のシールブロック
２１．２２にはスリット調節用の第１の調節手段が設け
られている。この第１の調節手段は、第１．第２のシー
ルブロック２１．２２に各別に連結されたロッド２５．
２６と、これらのロッド２５．２６を各別に上下方向に
微動させる微動機構とを有して構成されている。したが
って、前記微動機構を通じてロッド２５．２６を各別に
上下方向に微動させ、第１．第２のシールブロック２１
．２２の少なくとも一方を他方に対して接近、離間させ
ることにより、シール作用を損わない範囲でスリット２
０の上下方向の間隔を例えば±１ｍの範囲で変えること
ができる。これにより、スリット２０をその壁面である
第１のシールブロック２１の上面と第２のシールブロッ
ク２２の下面に被処理物Ｆ１と処理物Ｆ２とが接触しな
いように調節することができ、したがってスリット２０
の壁面に接触することによって起きる被処理物Ｆ１や処
理物Ｆ２の損傷を防止することができる。

さらに、この実施例では各予備真空室２内には前述のご
とく、被処理物用の第１の移送案内手段が下側に、処理
物用の第２の移送案内手段が上側に配置されている。前
記第１の移送案内手段は、ガイドロール２９と張力付与
ロール３０とガイドロール３１とを配列して構成され、
前記ガイドロール２９゜３１に第２の調節手段が付設さ
れている。前記第２の移送案内手段は、ガイドロール３
２と張力付与ロール３３とガイドロール３４とを配列し
て構成されており、前記ガイドロール３２．３４にも第
２の調節手段が設けられている。前記第２のｘｉ手段は
、前述のごとく、また第４図および第５図から分かるよ
うに、シャフト３５を手動または回転駆動源により回転
させると、ギヤ３８ａ、　３８ｂが回転し、これに噛み
合わされた偏心ギヤ３９ａ、　３９ｂが回転し、この偏
心ギヤ３９ａ、　３９ｂと一緒に偏心ハウジング３６ａ
。

３６ｂがガイドローラに対して偏心回転し、これに伴い
ガイドローラが例えば±１閣の範囲で上下方向に変位す
る。したがって、第１．第２の移送案内手段とも、ガイ
ドローラを上下方向に変位させることにより、被処理物
Ｆ、や処理物Ｆ２がスリット２０の壁面に接触しないよ
うに調節することができ、この場合もスリット２０の壁
面に接触することによって起きる被処理物Ｆ１や処理物
Ｆ２の損傷を防止することができる。

なお、本発明では第１．第２の調節手段は、図面に示す
実施例に限らず、要はスリット２０の壁面に被処理物Ｆ
１や処理物Ｆ２が接触しないように調節可能な構造であ
れば良い。

また、予備真空室２は被処理物Ｆ１の性状によっては、
１つ設けても良い。

さらに、被処理物Ｆ、はプラスチックフィルムに限らず
、天然もしくは合成繊維、または塗装鋼板等であっても
よく、また処理はプラズマ処理に限らず、真空圧力下で
の蒸着処理等であっても良し）。

［発明の効果］ 以上説明した請求項１記載の発明よれば、真空処理室の
一方にのみ予備真空室を設置し、シール装置に設けられ
たスリット内を、被処理物と処理物の両方を通過させ得
るようにしているので、装置全体を著しく小型化するこ
とができ、したがって設置するためのスペースが少なく
て済む効果がある。

また、本発明の請求項２記載の発明によれば、前記予備
真空室と真空処理室に、被処理物を予備真空室から真空
処理室に案内し、移送する第１の移送案内手段と、処理
物を真空処理室から予備真空室に折り返し案内し、移送
する第２の移送案内手段とを配置しているので、真空処
理室の一方にのみ予備真空室を設置したうえで、予備真
空室がら真空処理室へ被処理物をスムーズに導入し、か
つ真空処理室から予備真空室へ処理物をスムーズに導出
し得る効果がある。

さらに、本発明の請求項３記載の発明によれば、前記シ
ール装置を互いに対向させて配置された第１、第２のシ
ールブロックで形成し、これら第１゜第２のシールブロ
ックのうちの少なくとも一方のシールブロックを第１の
調節手段に連結し、この第１の調節手段に連結されたシ
ールブロックを他方のシールブロックに対して接近、離
間させ、前記第１．第２のシールブロック間に形成され
るスリットを調節可能に構成しており、前記スリットを
被処理物と処理物とを通過させるために必要な適正な間
隔に調節することによって、シール作用を保持したうえ
で、第１．第２のシールブロックに被処理物や処理物が
接触することによって起きる被処理物や処理物の損傷を
防止し得る効果がある。

さらにまた、本発明の請求項４記載の発明によれば、前
記第１．第２の移送案内手段をそれぞれ第２の調節手段
に連結し、第１の移送案内手段により案内され、移送さ
れる被処理物と、第２の移送案内手段により案内され、
移送される処理物とが前記スリットに接触しないように
、調節可能に構成しているので、この発明によっても、
スリットの壁面に接触することに起因する被処理物や処
理物の損傷を防止し得る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は本発明の一実施例を示すもので、第１
図は装置全体の縦断側面図、第２図は同平面図、第３図
は隣接する二つの予備真空室と、その間に設けられたシ
ール装置と、スリット調節用の第１の調節手段とを示す
一部拡大縦断側面図、第４図は第１．第２の移送案内手
段調節用の第２の調節手段を示す一部拡大横断平面図、
第５図は第４図の■−Ｖ線断面図である。 １・・・真空処理室、２・・予備真空室、Ｆｌ・・・被
処理物、Ｆ２・・・処理物、３・・・被処理物の巻出軸
、６・・処理ドラム、９・・・処理物の巻取軸、１２・
・真空配管、１３・・・真空ポンプ、１４・・・真空配
管、１．５．１６・・真空ポンプ、１７・・・下ケース
、１８・・・上ケース、１９・・・シール装置、２０・
・・スリット、２１．２２・・・第１．第２のシールブ
ロック、２５．２６・・・第１．第２の調節手段を構成
しているロッド、　２９．３１・・・第１の移送案内手
段を構成しているガイドロール、３０・・・同張力付与
ロール、３２．３４・・・第２の移送案内手段を構成し
ているガイドロール、３３・・・同張力付与ロール、３
５・・・第２の調節手段を構成しているシャフト、３６
ａ。 ３６ｂ・・・同偏心ハウジング、３８ａ、　３８ｂ・・
・同ギヤ、３９ａ。 ３９ｂ・・・同偏心ギヤ。 代理人　弁理士　　秋　本　正　実 第 閏 ＋−−−＠隻丸理！ ２−−一子惰真望！ ３−・１唱、釉 ４−−−イン７４−トロール ５．７−−−フイードローシ ６−Ａ！ドクＡ ８−一一アウドフィードロ利し ９−　　瞥取軸 １ｏ、１ドー張１検出ローＪし Ｆｌ−−−）δヒＭ理物 Ｆｚ−−・処理物 第 図 １２　、１４−−一真！配管 ＋３．１５．１６−−−１！πしデ 第 ４　図 ２９−−−　ｓイドローレ ３５−−−シＹ７ト ３６０・３６ｂ−−−４麹・ピハウジシク′３７ａ　、
　３７ｂ　−−−’ｌｌツ ー３８ａ、　３８ｂ　−−−ｆｆ”ｙ ３９ａ、　３９ｂ　−−−帰Ａａ　Ｑ 第 図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. １．真空処理室の一方にのみ、少なくとも１個の予備真
   空室を設置し、前記真空処理室と予備真空室間に、被処
   理物と処理物とを通過させ得るスリットを有しかつ予備
   真空室側から真空処理室に通じる空間をシールするシー
   ル装置を設けたことを特徴とする真空連続処理装置。
2. ２．前記予備真空室と真空処理室に、被処理物を予備真
   空室から真空処理室に案内し、移送する第１の移送案内
   手段と、処理物を真空処理室から予備真空室に折り返し
   案内し、移送する第２の移送案内手段とを配置したこと
   を特徴とする請求項１記載の真空連続処理装置。
3. ３．前記シール装置を互いに対向させて配置された第１
   、第２のシールブロックで形成し、これら第１、第２の
   シールブロックのうちの少なくとも一方のシールブロッ
   クを第１の調節手段に連結し、この第１の調節手段に連
   結されたシールブロックを他方のシールブロックに対し
   て接近、離間させ、前記第１、第２のシールブロック間
   に形成されるスリットを調節可能に構成したことを特徴
   とする請求項１記載の真空連続処理装置。
4. ４．前記第１、第２の移送案内手段をそれぞれ第２の調
   節手段に連結し、第１の移送案内手段により案内され、
   移送される被処理物と、第２の移送案内手段により案内
   され、移送される処理物とが前記スリットに接触しない
   ように、調節可能に構成したことを特徴とする請求項２
   または３記載の真空連続処理装置。