JPS63304035A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPS63304035A JPS63304035A JP13975287A JP13975287A JPS63304035A JP S63304035 A JPS63304035 A JP S63304035A JP 13975287 A JP13975287 A JP 13975287A JP 13975287 A JP13975287 A JP 13975287A JP S63304035 A JPS63304035 A JP S63304035A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- vacuum
- chamber
- roll
- continuous processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品、天然あるいは合成繊維、
また塗装鋼板などの被処理物を連続的に真空状態で処理
する装置に関する。
また塗装鋼板などの被処理物を連続的に真空状態で処理
する装置に関する。
この種の真空連続処理装置は、特開昭５７−３０７３３
に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的にな
っており、被処理物を一対のロールで圧着してシールを
行なっている。
に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的にな
っており、被処理物を一対のロールで圧着してシールを
行なっている。
上記従来技術は、被処理物を一対のロールにて圧着しな
がらシールしているため、被処理物を結果的に圧着し、
処理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また、
回転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方
向にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に
悪影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、し
たがってリップル部材あるいはロールの摩耗粉が発生し
。
がらシールしているため、被処理物を結果的に圧着し、
処理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また、
回転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方
向にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に
悪影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、し
たがってリップル部材あるいはロールの摩耗粉が発生し
。
それが被処理物に付着するという問題があった。
それゆえ、透明導電膜等の高級被処理物には不適当であ
った。
った。
本発明の目的は、被処理物を圧着せずに、また摩耗粉等
のゴミが被処理物に付着しないで真空連続処理を行なう
と共に被処理物とスリット状シール部分の接触を防ぐこ
とが可能な真空連続処理装置を提供することにある。
のゴミが被処理物に付着しないで真空連続処理を行なう
と共に被処理物とスリット状シール部分の接触を防ぐこ
とが可能な真空連続処理装置を提供することにある。
上記目的は、スリット状のシール装置を設けると共に、
シール装置前側にエキスパンダロールを備えた被処理物
引張り機構を設けることにより達成される。
シール装置前側にエキスパンダロールを備えた被処理物
引張り機構を設けることにより達成される。
エキスパンダロールを備えた被処理物引張り機構は、被
処理物がシール装置内に搬送される前に被処理のしわを
取り除くように動作する。
処理物がシール装置内に搬送される前に被処理のしわを
取り除くように動作する。
それによって、被処理物は、しわによるスリット状シー
ル部分との接触することなく、接触による、被処理物の
損傷は防止することが可能となる。
ル部分との接触することなく、接触による、被処理物の
損傷は防止することが可能となる。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図及び第２図において、１はプラスチックフィルム
例えばＰ Ｅ Ｔフィルムのような可撓性の被処理物Ｆ
を真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２
は真空処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室
、３は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真
空室で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ
４により１０−３ト一ル程度の真空圧力に保持するよう
に排気導管５を介して真空排気される。
例えばＰ Ｅ Ｔフィルムのような可撓性の被処理物Ｆ
を真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２
は真空処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室
、３は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真
空室で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ
４により１０−３ト一ル程度の真空圧力に保持するよう
に排気導管５を介して真空排気される。
前記予備真空室２，３は、°これに接続する真空ポンプ
６により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く
、かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように
排気導管７を介して真空排気される。
６により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く
、かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように
排気導管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、前方
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９により導かれ、エキスパンダロール２７ａにより
被処理物Ｆのしわを取り除く、第３図は、第１図のＡ親
図で、エキスパンダロール部を示している。エキスパン
ダロール２７ａが第３図のようになることにより被処理
物Ｆのしわを取り除きこれにより、被処理物搬送時に生
じる。被処理物Ｆと予備真空室２との接触は防がれ。
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９により導かれ、エキスパンダロール２７ａにより
被処理物Ｆのしわを取り除く、第３図は、第１図のＡ親
図で、エキスパンダロール部を示している。エキスパン
ダロール２７ａが第３図のようになることにより被処理
物Ｆのしわを取り除きこれにより、被処理物搬送時に生
じる。被処理物Ｆと予備真空室２との接触は防がれ。
被処理物Ｆは損傷することはない、この後、被処理物Ｆ
は、予備真空室２を経て真空処理室１にてプラズマ処理
される０次にプラズマ処理された被処理物Ｆは、再度エ
キスパンダロール２７ｂにより、しわを取り除かれ、被
処理物Ｆと予備真空室３との接触は防がれる。ここで、
エキスパンダロール２７ｂも２７ａと同様に動作する。
は、予備真空室２を経て真空処理室１にてプラズマ処理
される０次にプラズマ処理された被処理物Ｆは、再度エ
キスパンダロール２７ｂにより、しわを取り除かれ、被
処理物Ｆと予備真空室３との接触は防がれる。ここで、
エキスパンダロール２７ｂも２７ａと同様に動作する。
これにより被処理物Ｆは損傷を受けることはない、この
後、後方側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内
の張力を制御するガイドロール１０を経て、巻取軸１１
にて巻き取られる。１２は被処理物を搬送する為の駆動
用ＤＣモータであり、前記ガイドロール９および１０の
張力検出により、被処理物Ｆをしわなく搬送し、かつ搬
送速度を適宜調整する。
後、後方側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内
の張力を制御するガイドロール１０を経て、巻取軸１１
にて巻き取られる。１２は被処理物を搬送する為の駆動
用ＤＣモータであり、前記ガイドロール９および１０の
張力検出により、被処理物Ｆをしわなく搬送し、かつ搬
送速度を適宜調整する。
第４図、第５図及び第６図は前記予備真空室２及び３を
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第５図
は第４図のＢ−Ｂ断面図であり、第６図は第４図のＢ−
Ｂ断面図である。１３は上ケース、１４は下ケース、１
５は上ケース１３に案内支持されるシールブロックであ
り、被処理物Ｆは下ケース１４とシールブロック１５で
形成されるスリットの間を接触しないで搬送される。
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第５図
は第４図のＢ−Ｂ断面図であり、第６図は第４図のＢ−
Ｂ断面図である。１３は上ケース、１４は下ケース、１
５は上ケース１３に案内支持されるシールブロックであ
り、被処理物Ｆは下ケース１４とシールブロック１５で
形成されるスリットの間を接触しないで搬送される。
１６はハンドルであり、これを回転させることにより減
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロックと一体的に形成されるコラム２１
及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じて上
下方向に動かす。２２はＬＭガイドであり、シールブロ
ック１５の上下方向の動きを案内する。２３はＯリング
であり、上ケース１３とシールブロック１５の間のシー
ルをする。０リング２３はシールブロック１５が上下方
向に移動（最大２閣）にもかかわらず上ケース１３とシ
ールブロック１５間のシールを施すため、十分な弾性体
のものを使用している。上ケース１３とシールブロック
１５のサイドの間隙２４はシールブロック１５が滑らか
に上下し、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能
な範囲で小さく（例えば３０ミクロン）している。２５
は被処理物を案内するガイドロールであり、下ケース１
４のシール面と被処理物が接触しないよう、ガイドロー
ル２５の外周面の高さを下ケース１４より高くしている
６通常の使用では、被処理物Ｆとシールブロック１５の
間隔及び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいずれも０．１
ｃｍとなるようにガイドロール２５とシールブロック
１５の位置を決定している。張力付与用ロール２６は、
被処理物のガイドローラ２５に対する巻き付は角度を大
きくし、シール部分で被処理物が振動し、壁面に接触す
るのを防止している。予備真空室２あるいは３は互いに
相対するシール装置で構成されており、排気導管７を介
して真空ポンプ６で排気される。
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロックと一体的に形成されるコラム２１
及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じて上
下方向に動かす。２２はＬＭガイドであり、シールブロ
ック１５の上下方向の動きを案内する。２３はＯリング
であり、上ケース１３とシールブロック１５の間のシー
ルをする。０リング２３はシールブロック１５が上下方
向に移動（最大２閣）にもかかわらず上ケース１３とシ
ールブロック１５間のシールを施すため、十分な弾性体
のものを使用している。上ケース１３とシールブロック
１５のサイドの間隙２４はシールブロック１５が滑らか
に上下し、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能
な範囲で小さく（例えば３０ミクロン）している。２５
は被処理物を案内するガイドロールであり、下ケース１
４のシール面と被処理物が接触しないよう、ガイドロー
ル２５の外周面の高さを下ケース１４より高くしている
６通常の使用では、被処理物Ｆとシールブロック１５の
間隔及び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいずれも０．１
ｃｍとなるようにガイドロール２５とシールブロック
１５の位置を決定している。張力付与用ロール２６は、
被処理物のガイドローラ２５に対する巻き付は角度を大
きくし、シール部分で被処理物が振動し、壁面に接触す
るのを防止している。予備真空室２あるいは３は互いに
相対するシール装置で構成されており、排気導管７を介
して真空ポンプ６で排気される。
本発明によれば、被処理物のしわを取り除くことができ
るので、被処理物とシール装置の接触を防ぐことが可能
となり、被処理物のこの接触による損傷はない。
るので、被処理物とシール装置の接触を防ぐことが可能
となり、被処理物のこの接触による損傷はない。
第１図は本発明の真空連続処理装置の一実施例の概略縦
断面図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は第１図
のＡ親図、第４図はシール装置の縦断面図、第５図は第
４図のＢ−Ｂ断面図、第６図は第４図のＣ−Ｃ断面図で
ある。 Ｆ・・・被処理物、１３・・・上ケース、１４・・・下
ケース、１５・・・シールブロック、２５・・・ガイド
ロール。 ２６・・・張力付与用ロール、２７ａ、２７ｂ・・・エ
キスパンダロール。 電 ３ 図 １４ 丁ケース
断面図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は第１図
のＡ親図、第４図はシール装置の縦断面図、第５図は第
４図のＢ−Ｂ断面図、第６図は第４図のＣ−Ｃ断面図で
ある。 Ｆ・・・被処理物、１３・・・上ケース、１４・・・下
ケース、１５・・・シールブロック、２５・・・ガイド
ロール。 ２６・・・張力付与用ロール、２７ａ、２７ｂ・・・エ
キスパンダロール。 電 ３ 図 １４ 丁ケース
Claims (1)
- １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設け、前記シール装置前にエキスパン
ダロールを設けて被処理物のしわをとることを特徴とす
る真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13975287A JPS63304035A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13975287A JPS63304035A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63304035A true JPS63304035A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15252564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13975287A Pending JPS63304035A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63304035A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020139232A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 表面処理金属帯の製造方法及び設備 |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP13975287A patent/JPS63304035A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020139232A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 表面処理金属帯の製造方法及び設備 |
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