JPH04130323A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、密着性が良く、かつ弾性率が小さく、極めて
高感度で、樹脂の粘度安定性の良い感光性樹脂組成物に
関するものである。

［従来の技術］ 従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などには、
耐熱性が優れ、また卓越した電気的特性、機械的特性な
どを有するポリイミド樹脂が用いられているが、近年半
導体素子の高集積化、大型化、封止樹脂パッケージの薄
型化、小型化、半田リフローによる表面実装方式への移
行などにより耐熱サイクル性、耐熱ショック性等の著し
い向上の要求があり、これまでのポリイミド樹脂では、
対応が困難となってきた。

この対策として、例えばポリイミド樹脂にシリコーン成
分を導入して、密着性を上げ弾性率を低くすることが知
られている。（特開昭６１−６４７３０号公報、特開昭
６２−２２３２２８号公報等）一方、ポリイミド樹脂自
身に感光性を付与する技術が最近注目を集めてきた。

これらの感光性を付与したポリイミド樹脂を使用すると
、付与していないポリイミド樹脂に比較してパターン作
成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性の強いエツ
チング液を使用しなくてすむので、安全、公害上も優れ
ており、ポリイミド樹脂の感光性化はポリイミド樹脂の
高密着、低弾性率化とともに今後−層重要な技術となる
ことが期待されている。

感光性ポリイミド樹脂としては、例えば下式で示される
ような構造のエステル基で感光性基を付与したポリイミ
ド前駆体組成物（特公昭５５−４１４２２号公報）ある
いは下式 により２量化、または重合可能な炭素−炭素二重結合お
よびアミノ基または、その四級化塩を含む化合物を橋加
した組成物（例えば特公昭５９−５２８２２号公報）な
どが知られている。

これらは、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、フェス状
態で塗布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照
射し、現像、リンス処理して所望のパターンを得、さら
に加熱処理することによりポリイミド被膜としている。

しかし、かかる従来の感光化技術をポリイミド樹脂成分
にシリコーン基を導入した高密着、低弾性率のポリイミ
ド樹脂に適用すると、紫外線を照射してもバターニング
することは難しいか、または著しく感度が低く、半導体
工業で通常用いられている露光装置で処理するには不充
分であった。

更には、これらの感光性ポリイミド樹脂の膜厚を厚くし
ていくと光感度が極端に低下してしまい、適正露光時間
が極端に長くなってしまうという欠点があった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的とするところは、ポリアミック酸中にシリ
コーン基を導入して密着性を向上させ、弾性率を低下さ
せたにもかかわらず極めて高感度の光硬化性を有し、ま
た樹脂の粘度安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供す
るにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、（１）（Ａ）下記式〔Ｉ〕で示されるシリコ
ーン系ジアミンを０６５〜５０重量％と、（式中、ｎ：
１〜５０） 下記式（ＩＪ　）で示される化学線官能基Ｐ′″を両末
端に有するポリアミック酸９９．５〜５０重量％との共
（式中、ｎ＝２〜５、ｍ＝１０〜１ｏｏｏｏの整数、Ｒ
工：　Ｈ，ＣＨ３Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４：有機残基）（Ｂ）
常温にて溶液状の化学線により重合可能な、炭素−炭素
二重結合を含むアミド化合物、（Ｃ）吸収極大波長（＾
ａ＋ａｘ　）が３３０〜５００ｎｌＩｌである増感剤を
必須成分とする感光性樹脂組成物、（２）ポリアミック
酸（Ａ）１００重量部に対して、アミド化合物（Ｂ）５
０〜１０００重量部、増感剤（Ｃ）０．１〜２０重量部
を配してなる感光性樹脂組成物である。

［作用］ 本発明において用いる一般式（Ｉ）で示されるシリコー
ン系ジアミンはポリイミド被膜の密着性を向上させ、弾
性率を低下させる効果を有する。

シリコーン系ジアミンの重合度ｎは１〜５０であること
が必要であり、ｎが１未満であると密着性を向上させ、
弾性率を低下させる効果が得られず、またｎが５０を越
える長鎖シリコーン系ジアミンを使用すると、テトラカ
ルボン酸二無水物との反応が定量的に進行しにくくなり
、未反応物として残存し、分子量が大きくならないばか
りか柔軟性を低下させ、クラックを発生し易くなるので
好ましくない。

またシリコーン系ジアミンの使用量は、ポリアミック酸
成分に対して１〜５０重量％が好ましい。１重量％未満
では密着性の向上、弾性率の低下の効果が得られず、ま
た５０重量％を越えると耐熱性が著しく低下し、ポリイ
ミド樹脂本来の特徴が得られなくなるので好ましくない
。

本発明において用いるジアミン成分としては上記のシリ
コーン系ジアミンの他に各種特性を付与するために下記
に挙げるような芳香族ジアミンも勿論使用することがで
きる。

例えばｍ−フ二二しンージアミン、１−イソプロピル−
２，４−フェニレン−ジアミン、ｐ−フェニレン−ジア
ミン、４，４′−ジアミノ−ジフェニルプロパン、３゜
３′−ジアミノ−ジフェニルプロパン、４，４′−ジア
ミノ−ジフェニルエタン、３，３′−ジアミノ−ジフェ
ニルエタン、４，４′−ジアミノ−ジフェニルメタン、
３゜３′−ジアミノ−ジフェニルメタン、４，４′−ジ
アミノ−ジフェニルスルフィド、３．３′−ジアミノ−
ジフェニルスルフィド、４，４′−ジアミノ−ジフェニ
ルスルホン、３，３′−ジアミノ−ジフェニルスルホン
、４．４’−ジアミノ−ジフェニルエーテル、３．３′
−ジアミノ−ジフェニルエーテル、ベンジジン、３，３
′−ジアミノ−ビフェニル、３，３′−ジメチル−４，
４′−ジアミノ−ビフェニル、３，３′−ジメトキシ−
ベンジジン、４，４′−ジアミノ−ｐ−テルフェニル、
３．３”−ジアミノ−ｒテルフェニル、ビス（ｐ−アミ
ノ−シクロヘキシル）メタン、ビス（ｐ−β−アミノ−
ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル
−δ−アミノペンチル）ベンゼン、ｐ−ビス（２−メチ
ル−４−アミノ−ペンチル）ベンゼン、ｐ−ビス（１，
１−ジメチル−５−アミノ−ペンチル）ベンゼン、１，
５−ジアミノ−ナフタレン、２，６−ジアミツーナフタ
レン、２，４−ビス（β−アミノ−ｔ−ブチル）トルエ
ン、２，４−ジアミノ−トルエン、トキシレンー２，５
−ジアミン、ｐ−キシレン−２，５−ジアミン、ｍ−キ
シリレン−ジアミン、ｐ−キシリレン−ジアミン、２．
６−ジアミツーピリジン、２，５−ジアミノ−ピリジン
、２．５−ジアミノ−１，３，４−オキサジアゾール、
１，４−ジアミノ−シクロヘキサン、ピペラジン、メチ
レン−ジアミン、エチレン−ジアミン、プロピレン−ジ
アミン、２，２−ジメチル−プロピレン−ジアミン、テ
トラメチレン−ジアミン、ペンタメチレン−ジアミン、
ヘキサメチレン−ジアミン、２，５−ジメチル−へキサ
メチレン−ジアミン、３−メトキシ−へキサメチレン−
ジアミン、ヘプタメチレン−ジアミン、２，５−ジメチ
ル−へブタメチレン−ジアミン、３−メチル−へブタメ
チレン−ジアミン、４，４−ジメチル−へブタメチレン
−ジアミン、オクタメチレン−ジアミン、ノナメチレン
−ジアミン、５−メチル−ノナメチレン−ジアミン、２
．５−ジメチル−ノナメチレン−ジアミン、デカメチレ
ン−ジアミン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチ
ル−デカン、２，１１−ジアミノ−ドデカン、１．１２
−ジアミノ−オクタデカン、２，１２−ジアミノ−オク
タデカン、２，１７−ジアミツーアイコサンなどがあげ
られるが、これらに限定されるものではない。

ジアミン成分と反応させるテトラカルボン酸二無水物成
分は１種類でも、２種類以上の混合物でもかまわないが
、用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、ピロ
メリット酸二無水物、ベンゼン−１，２，３，４−テト
ラカルボン酸二無水物、３．３’。

４．４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
２．２’　、３．３’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物、２，３．３’　、４’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−２，３，６，７
−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，２，５
，６−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，２
，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１
，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン
−１，２，６，７−テトラカルボン酸二無水物、４．８
−ジメチル−１，２，３，５，６゜７−へキサヒドロナ
フタレン−１，２，５，６−テトラカルボン酸二無水物
、４．８−ジメチル−１，２，３，５，６，７−ヘキサ
ヒトロナフタレンー２．３，６．７−テトラカルボン酸
二無水物、２，６−シクロロナフタレンー１．４，５．
８−テトラカルボン酸二無水物、２，７−シクロロナフ
タレンー１．４，５．８−テトラカルボン酸二無水物、
２，３，６゜７−テトラクロロナフタレンー１．４，５
．８−テトラカルボン酸二無水物、１，４，５．８−テ
トラクロロナフタレン−２，３，６，７−テトラカルボ
ン酸二無水物、３．３’、４゜４′−ジフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、２．２’。

３．３′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，
３゜３’　、４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、３゜３”、４．４”−ｐ−テルフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、２．２”、３．３”−ρ−テルフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、２，３．３”　、４”−
Ｐ−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、２．２−
ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−プロパンニ無
水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
−プロパンニ無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェ
ニル）エーテルニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシ
フェニル）エーテルニ無水物、ビス（２，３−ジカルボ
キシフェニル）メタンニ無水物、ビス（３，４−ジカル
ボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）スルホンニ無水物、ビス（３，４−
ジカルボキシフェニル）スルホンニ無水物、１，１−ビ
ス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタンニ無水物、
１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン
ニ無水物、ペリレン−２，３，８゜９−テトラカルボン
酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカル
ボン酸二無水物、ペリレン−４，５，１０゜１１−テト
ラカルボン酸二無水物、ペリレン−５、６、１１゜１２
−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−１，２
，７，８−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン
−１，２，６，７−テトラカルボン酸二無水物、フェナ
ンスレン−１，２，９，１０−テトラカルボン酸二無水
物、シクロペンタン−１，２，３，４−テトラカルボン
酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボ
ン酸二無水物、ピロリジン−２，３，４，５−テトラカ
ルボン酸二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テト
ラカルボン酸二無水物などがあげられるが、これらに限
定されるものではない。

本発明において用いる化学線感応基Ｐ”を導入するため
に使用する化合物としては、例えば、ベンタエリスワト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールアクリレートジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートメタ
クリレート、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、グ
リセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレ
ート、グリセロールアクリレートメタクリレート１．１
，３−ジアクリロイルエチル−５−ヒドロキシエチルイ
ソシアヌレート、１，３−ジメタクリレート−５−ヒド
ロキシエチルイソシアヌレート、エチレングリコール変
性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレン
グリコール変性ペンタエリスリトールトリアクリレート
、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロ
ールプロパンジメタクリレートなどがあげられるが、こ
れらに限定されない。これらの使用にあたっては、１種
類でも、２種類以上の混合物でもかまわない。

本発明で用いる化学線により重合可能な炭素−炭素二重
結合を含むアミド化合物（Ｂ）としては、例えばＮ−メ
チルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチル
アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ
−アクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルモルホリ
ン、Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエ
チルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピルメ
タクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげられ
るが、これらに限定されるものではない。また使用にあ
たっては１種類でも、２種類以上の混合物でもかまわな
い。

本発明になるポリアミック酸（Ａ）は、好ましくは化学
線により重合可能な炭素−炭素二重結合を含むアミド化
合物を反応溶媒として合成されるが、その合成方法の一
例を示すと、重合度ｍが１０００のポリアミック酸を合
成したい時、酸無水物１００１モルと、シリコーン系ジ
アミンｎモル（通常１＜ｎ＜５００、シリコーン系ジア
ミンの分子量により適正量は異なる）、化学線感応基Ｐ
１を持つ化合物２モルを先ず反応させ、次に、更にジア
ミン（９９９−ｎ　）モルをアミド化合物（Ｂ）中で反
応させることにより得られる。

該ポリアミック酸（Ａ）は、両末端に多官能の化学線感
応基Ｐ４を有するため、露光部の架橋密度は高まり、ま
た未露光部は溶解性の良い架橋していない感応基Ｐ”を
有するため、露光部と未露光部の溶解度の差を大きくす
ることができ、感度を高めることが可能になった。また
ポリアミック酸末端を化学線感応基Ｐ＊で保護している
ために、ポリアミック酸の解重合が起こらず、従って粘
度安定性の良い樹脂が得られた。

また、シリコーン系ジアミンを０．５〜５０重量％含む
ため、硬化したポリイミド皮膜は、基板との密着性に優
れ、かつ弾性率が低く、低応力な皮膜を得ることができ
た。

さらに、従来から反応系溶媒として該アミド化合物を用
いるということは全く行われていなかった。従来の反応
系溶媒は、その官能基が酸無水物類及びジアミン類と反
応しないダイポールモーメントを有する有機極性溶媒で
あった。

系に対し不活性であり、かつ生成物に対して溶媒である
こと以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少なくとも
一方、好ましくは両者に対して溶媒でなければならなか
った。

この種の溶媒として代表的なものは、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ
−ジエチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフオスホアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テ
トラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン、メチルホルムアミド、Ｎ−アセチル−２−ピロリド
ン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等があり、これらの溶
媒は単独又は組合せて使用される。この他にも溶媒とし
て組合せて用いられるものとして、ベンゼン、ベンゾニ
トリル、ジオキサン、ブチロラクトン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、キシレン、
トルエン、シクロヘキサン等の非溶媒が、原料の分散媒
、反応調節剤、皮膜平滑剤などとして併用されていた従
来の反応系溶媒は、光に対して感応性を有していなかっ
た。そのため、従来の感光性樹脂の製造にあたっては、
高感度化を図るために光に対する感光性成分を特に添加
していた。しかし、多量の反応系溶媒に希釈されてしま
うため、感光基濃度の向上には限界があった。

本発明による該アミド化合物を溶媒とする方法によれば
、溶媒自身が１００％感光性であるため、感光基濃度は
著しく高く、よって光感度も著しく高くすることができ
るようになった。また、本発明による感光性樹脂の製造
方法はそれぞれの成分を添加混合するだけであるため、
著しく簡単で、品質のバラツキも著しく少ないものとな
った。

本発明で用いる増感剤は、３３０〜５００ｎｍに吸収極
大波長（λｍａｘ）を持つ化合物である。λＩＩＩａｘ
が３３０ｎｍ以下であると、ポリアミック酸そのものに
光が吸収されてしまい光反応ができないので好ましくな
い。また、５００ｎｍ以上であると可視光で光反応して
しまい作業場所をシールドルームにするなどのことが必
要となり、その取扱い性が低下するので好ましくない。

本発明の増感剤は例えばなどが挙げられるが、これに限
定されるものではない。また、使用にあたっては１種類
でも２種類以上の混合物でも構わない。

本発明による感光性樹脂組成物には、接着助剤やレベリ
ング剤その他各種充填剤を添加してもよい。

本発明による感光性樹脂組成物の使用方法は、まず、該
組成物を適当な支持体、例えばシリコンウェハーやセラ
ミック、アルミ基板などに塗布する。塗布方法は、スピ
ンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴
霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティングなどで行なう
。次に、６０〜８０°Ｃの低温でプリベークして塗膜を
乾燥後、所望のパターン形状に化学線を照射する。化学
線としては、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光線などが使
用できるが、２００〜５００ｎｍの波長のものが好まし
い。

次に、未照射部を現像液で溶解除去することによりレリ
ーフパターンを得る。現像液としては、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミドなどや、メタノール、イソプロ
ピルアルコール、水、アルカリ水溶液などを単独または
混合して使用する。

現像方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波な
どの方式が可能である。

次に、現像によって形成したレリーフパターンをリンス
する。リンス液としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、酢酸ブチル、水などを使用する
。次に加熱処理を行い、イミド環を形成し、耐熱性に富
む最終パターンを得る。

本発明による感光性樹脂組成物は、半導体用途のみなら
ず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル銅張板のカバ
ーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜などとして
も有用である。

以下実施例により本発明を具体的に説明する。

（実施例１） ３．３’　、４．４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物３２２ｇ　（１，０ｍｏｌ）と、グリセロー
ルジメタクリレート　１１．４ｇ　（０，０５ｍｏｌ）
と、シリコーンジアミンとして、シロキサン結合が５（
ｎ＝５）の下記式で示されるもの５６．８ｇを、 （ポリアミック酸中１０重量部％） Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド２８９０　ｇに投入し
、５０°Ｃで１６時間反応させた。その後、４，４′−
ジアミノジフェニルエーテル１７９．４　ｇ　（０，８
９６ｗｏｌ　）を投入し、２０°Ｃで６時間反応させた
。

得られたポリアミック酸溶液６０７重量部（固形分で１
００重量部）に、ミヒラーケトン（＾ｌ１ａｘ　３６５
ｎｍ）５重量部を添加し室温で溶解した。得られた組成
物をシリコンウェハー上にスピンナーで塗布し、乾燥機
により８０°Ｃで１時間乾燥し、約１０μｍのフィルム
を得た。

このフィルムにコダック社製フォトグラフィックステッ
プタブレットＮｏ２．２１ステツプ（本グレースケール
では、段数が一段増加するごとに透過光量が前段の１／
／２に減少するので現像後の残存段階が大きいものほど
感度が良い）を重ね、１０１００Ｏ／ｃｍ２の紫外線を
照射し、次いでＮ−メチル−２−ピロリドン６０重量部
と、メタノール４０重量部からなる現像液を用いて現像
、さらにイソプロピルアルコールでリンスをしたところ
１１段までパターンが残存し、高感度であることが判っ
た。

次に、別途アルミ板上に塗布し全面露光し、現像、リン
スの各工程を行い、さらに１５０．２５０．３５０°Ｃ
で各々３０分間加熱硬化した後、アルミ板をエツチング
で除去し、フィルムを得た。

得られたフィルムの引張弾性率（ＪＩＳ　Ｋ−６７６０
）は１５０ｋｇ／ａｍ２と小さかった。（小さい方が良
い）次に、得られたポリアミック酸溶液の室温（２３°
Ｃ）での粘度変化を測定したところ、３０日目まで粘度
変化がなく、室温での粘度安定性に優れていることが判
った。

（比較例１） 実施例１中のシリコーン系ジアミンを使用せずにポリア
ミック酸を合成し、同様の評価を行った。

感度は１３段と高感度であるものの、弾性率は３２０ｋ
ｇ／ｌｌ１ｌＩ１２と高かった。

（比較例２） 実施例１で用いたミヒラーケトンの代りに３，３−ジメ
チル−４−メトキシベンゾフェノンを使用したが、この
増感剤の＾ＷａＸが２９６１であるために、効率よく光
開始反応ができず、現像時に全てパターンが流れてしま
い、実用性のないことが判った。

（比較例３） 実施例１で用いたミヒラーケトンの代りにテトラフェニ
ルポルフィリン亜鉛錯体を使用したが、この増感剤のλ
１ｌａｘが６５Ｏｎ＠であるために、作業中に光反応し
てしまい、現像によりパターンを得ることができなかっ
た。

（比較例４） 実施例１で用いたＮ、Ｎ−ジメチルアクリルアミドの代
りにＮ−メチル−２−ピロリドンを使用し、他は全て同
様に配合したが、光感応性は殆どなかった。

そこで、化学線により２量化又は重合可能な炭素−炭素
二重結合及びアミン基をもつ化合物としてジメチルアミ
ノエチルメタクリレートを６０重量部更に添加した。実
施例１と同様に処理し、同様に評価したが、ステップタ
ブレットは５段しかなく低感度であった。また室温（２
３°Ｃ）での粘度変化を測定したところ、３日後に３０
％粘度が低下していた。

（比較例４） ３．３’　、４．４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物３２２ｇと、２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート２８６ｇをγ−ブチロラクトンに溶解後、触媒と
してピリジンを１５０ｇ添加し、２０°Ｃで２４時間反
応させ、エステル化物を得た。次にアミド化触媒として
ジシクロへキシルカルボジイミド３７０ｇを添加後、実
施例１で使用したシリコーンジアミン５６．８ｇと４，
４′−ジアミノジフェニルエーテル１７９．４ｇを添加
し、２０°Ｃで８時間反応させた。次に、このスラリー
状物を濾別し、濾液を３５０リツトルのエタノールに激
しく撹拌しながら滴下して重合物を析出させた後、１２
時間静置した。沈澱物を濾別し、乾燥し、粉砕した。得
られたポリマーの分子量は３８００で予想よりかなり小
さなものであった。そこで再度同様の方法でポリマーを
合成したが、二の場合も分子量は５９００にとどまった
。この方法は、工程が長時間で煩雑であるだけでなく、
バラツキの大きなものであることがわかった。

次に、このポリマーをＮ−メチル−２−ピロリドンに溶
解し、実施例１と同様の増感剤を添加し、感光性樹脂組
成物を得た後、同様に評価したが、ステップタブレット
は２段しかなく、低感度であった。

［発明の効果］ 本発明による感光性樹脂組成物は、分子中にシリコーン
系ジアミンと末端に重合可能な炭素−炭素二重結合を有
するポリアミック酸を、重合可能な炭素−炭素二重結合
を含むアミド化合物溶媒中で反応するという特殊な方法
により製造されたもので、ポリアミック酸末端が感光性
であること、また溶媒自身が１００％感光性であるため
に、感光基濃度か著しく高く、よって露光感度を従来タ
イプの感光性樹脂組成物に比べ１０倍以上に向上させる
ことができるようになった。

また分子中にシリコーン単位を含むため、基板に対し高
密着で、低弾性率なポリイミド皮膜を得られるばかりで
なく、ポリアミック酸末端を保護しているために、樹脂
組成物の粘度を安定させることを可能にした。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）（Ａ）下記式〔 I 〕で示されるシリコーン系ジ
   アミンを０．５〜５０重量％と、 ▲数式、化学式、表等があります▼…〔 I 〕 （式中、ｎ：１〜５０） 下記式〔II〕で示される化学線官能基Ｐ＾＊を両末端に
   有するポリアミック酸９９．５〜５０重量％との共重合
   体 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ＝２〜５、ｍ＝１０〜１００００の整数、Ｒ
   ＿１：Ｈ、ＣＨ＿３Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４：有機残基
   ）（Ｂ）常温にて溶液状の化学線により重合可能な、炭
   素−炭素二重結合を含むアミド化合物、 （Ｃ）吸収極大波長（λｍａｘ）が３３０〜５００ｎｍ
   である増感剤を必須成分とすることを特徴とする感光性
   樹脂組成物。
2. （２）ポリアミック酸（Ａ）１００重量部に対して、ア
   ミド化合物（Ｂ）５０〜１０００重量部、増感剤（Ｃ）
   ０．１〜２０重量部を配してなる感光性樹脂組成物。