JPH0413103A - シンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法 - Google Patents
シンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法Info
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- JPH0413103A JPH0413103A JP11735590A JP11735590A JPH0413103A JP H0413103 A JPH0413103 A JP H0413103A JP 11735590 A JP11735590 A JP 11735590A JP 11735590 A JP11735590 A JP 11735590A JP H0413103 A JPH0413103 A JP H0413103A
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- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はシンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法
に関する。
に関する。
近年、シンクロトロン放射光（ＳＯＲ）の応用研究が急
速な進歩を遂げている。その応用分野は、半導体製造、
医学、化学及び物理と広範囲にわたっている。また、Ｓ
ＯＲ装置の大型化、高エネルギー化も著しくなってきて
いる。この結果、ＳＯＲ用の反射ミラーに対する要求も
ますます厳しくなってきている。例えば、反射ミラーに
は高い寸法精度が要求されている。
速な進歩を遂げている。その応用分野は、半導体製造、
医学、化学及び物理と広範囲にわたっている。また、Ｓ
ＯＲ装置の大型化、高エネルギー化も著しくなってきて
いる。この結果、ＳＯＲ用の反射ミラーに対する要求も
ますます厳しくなってきている。例えば、反射ミラーに
は高い寸法精度が要求されている。
従来、この用途の反射ミラーは、カーボン基材、ＳｉＣ
基材なとの耐熱性セラミック基材の全面にＣＶＤ法によ
りＳｉＣ膜をコーティングした後、その反射面を光学研
磨し、更に反射面に金属膜を蒸着することにより製造さ
れている。
基材なとの耐熱性セラミック基材の全面にＣＶＤ法によ
りＳｉＣ膜をコーティングした後、その反射面を光学研
磨し、更に反射面に金属膜を蒸着することにより製造さ
れている。
しかし、従来の製造方法で高い寸法精度を有する反射ミ
ラーを得ようとすると、加工に長時間を要するという問
題があった。これは以下のような理由による。
ラーを得ようとすると、加工に長時間を要するという問
題があった。これは以下のような理由による。
すなわち、従来は基材の全面にＣＶＤ法によりＳ ｉ
Ｃ膜をコーティングしている。この場合、基材の稜の部
分では２方向からＳｉＣ膜が成長するため、ＳｉＣ膜が
盛り上がって形成される。このため、６面研削が必要と
なり、しかもＳｉＣ膜の膜厚のばらつきが大きいので、
高い寸法精度を得ようとすると研磨工程に長時間を要す
る。
Ｃ膜をコーティングしている。この場合、基材の稜の部
分では２方向からＳｉＣ膜が成長するため、ＳｉＣ膜が
盛り上がって形成される。このため、６面研削が必要と
なり、しかもＳｉＣ膜の膜厚のばらつきが大きいので、
高い寸法精度を得ようとすると研磨工程に長時間を要す
る。
本発明は前記課題を解決するためになされたものであり
、シンクロトロン放射光用反射ミラーの加工時間を短縮
できる方法を提供することを目的とする。
、シンクロトロン放射光用反射ミラーの加工時間を短縮
できる方法を提供することを目的とする。
本発明のシンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法
は、耐熱性セラミック基材の反射面となる面域外にマス
ク材を形成した後、ＣＶＤ法によりＳｉＣ膜をコーティ
ングしてその反射面を光学研磨し、更に反射面に金属膜
を蒸着することを特徴工するものである。
は、耐熱性セラミック基材の反射面となる面域外にマス
ク材を形成した後、ＣＶＤ法によりＳｉＣ膜をコーティ
ングしてその反射面を光学研磨し、更に反射面に金属膜
を蒸着することを特徴工するものである。
本発明において、耐熱性セラミック基材としてはカーボ
ン基材、ＳｉＣ基材などを用いることができる。ただし
、ＳｉＣ基材の方がＳｉＣ膜との熱膨張係数が差が小さ
いので好ましい。
ン基材、ＳｉＣ基材などを用いることができる。ただし
、ＳｉＣ基材の方がＳｉＣ膜との熱膨張係数が差が小さ
いので好ましい。
本発明において、基材の反射面となる面域外に形成され
るマスク材としては、耐熱性セラミック基材に嵌合され
て反射面以外の面を覆う形状のものが挙げられる。マス
ク材は、その表面でのＳｉＣ膜の成長速度が、ＳｉＣ基
材などのセラミック基材の表面におけるＳｉＣ膜の成長
速度と比較して、１７３以下であるならば、どのような
材質であってもよく、例えばカーボン製のものが挙げら
れる。
るマスク材としては、耐熱性セラミック基材に嵌合され
て反射面以外の面を覆う形状のものが挙げられる。マス
ク材は、その表面でのＳｉＣ膜の成長速度が、ＳｉＣ基
材などのセラミック基材の表面におけるＳｉＣ膜の成長
速度と比較して、１７３以下であるならば、どのような
材質であってもよく、例えばカーボン製のものが挙げら
れる。
本発明において、金属膜としては、例えばＣｒ下地層の
上にｐｔ又はＡｕを形成したものが挙げられる。また、
特定波長のＸ線を反射するために、ｐｔ又はＡｕの代わ
りに、Ｎ ｓ ＳＣｏ ＳＣｕ ｓＦ ｅ ％Ｒｅ ％
Ｚ ｎ ％ Ｗ ｓ Ｍ ｎ ｓ Ｔ ａ ＳＡ ｕな
どの重元素とＢｅ、 Ｍｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｖ％ Ｔｅな
どの軽元素とを組み合わせた多層膜を用いてもよい。
上にｐｔ又はＡｕを形成したものが挙げられる。また、
特定波長のＸ線を反射するために、ｐｔ又はＡｕの代わ
りに、Ｎ ｓ ＳＣｏ ＳＣｕ ｓＦ ｅ ％Ｒｅ ％
Ｚ ｎ ％ Ｗ ｓ Ｍ ｎ ｓ Ｔ ａ ＳＡ ｕな
どの重元素とＢｅ、 Ｍｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｖ％ Ｔｅな
どの軽元素とを組み合わせた多層膜を用いてもよい。
なお、Ｃｒ下地層は必ずしも設ける必要はない。
本発明の方法を用いれば、従来の方法と異なり、基材の
稜の部分でＳｉＣｌ１ｇが盛り上がって形成されること
がなくなるので、研磨工程の時間を短縮することができ
る。
稜の部分でＳｉＣｌ１ｇが盛り上がって形成されること
がなくなるので、研磨工程の時間を短縮することができ
る。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
まず、第１図に示すように、長さ１２ｃｍ、幅１０ｃｍ
。
。
厚さ２ 、５ｃｍのＳｉＣからなる基材１にカーボン製
のマスク材４を嵌合し、反射面となる面域外を覆った。
のマスク材４を嵌合し、反射面となる面域外を覆った。
この基材１の表面にＣＶＤ法によりＳｉＣ膜２をコーテ
ィングした。その結果、反射面となる面には膜厚約１０
０ＢのＳｉＣ膜２が成長した。
ィングした。その結果、反射面となる面には膜厚約１０
０ＢのＳｉＣ膜２が成長した。
また、基材１とマスク材４との間には隙間があるため、
基材１の側面にも薄いＳｉＣ膜が成長した。
基材１の側面にも薄いＳｉＣ膜が成長した。
基材１側面のＳｉＣ膜は反射面側で膜厚約ｌｏｔｒｍで
あり、下方に向かって徐々に薄くなり、裏面側ではＳｉ
Ｃ膜はほとんど成長していなかった。
あり、下方に向かって徐々に薄くなり、裏面側ではＳｉ
Ｃ膜はほとんど成長していなかった。
この基材１の反射面となる面に形成されたＳｉＣ膜２を
光学研磨（１面研削）した。この光学研磨に要する時間
は約６時間であり、従来の場合（６面研削）の約１／７
の時間であった。ＳｉＣ膜２を光学研磨は１面研削で充
分であった。
光学研磨（１面研削）した。この光学研磨に要する時間
は約６時間であり、従来の場合（６面研削）の約１／７
の時間であった。ＳｉＣ膜２を光学研磨は１面研削で充
分であった。
次に、第２図に示すように、反射面のＳｉＣ膜２の表面
にイオンブレーティング法によりＣｒ下地層とＰｔとか
らなる膜厚０．１．ｃｍの金属膜３を形成して反射ミラ
ーを作製した。
にイオンブレーティング法によりＣｒ下地層とＰｔとか
らなる膜厚０．１．ｃｍの金属膜３を形成して反射ミラ
ーを作製した。
以上詳述したように本発明の方法を用いれば、短い加工
時間で、寸法精度の高いシンクロトロン放射光用反射ミ
ラーを製造することができ、その工業的価値は大きい。
時間で、寸法精度の高いシンクロトロン放射光用反射ミ
ラーを製造することができ、その工業的価値は大きい。
第１図及び第２図は本発明の実施例におけるシンクロト
ロン放射光用反射ミラーの製造方法を工程順に示す断面
図である。 １・・・基材、２・・・ＳｉＣ膜、３・・・金属膜、４
・・・マスク材。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
ロン放射光用反射ミラーの製造方法を工程順に示す断面
図である。 １・・・基材、２・・・ＳｉＣ膜、３・・・金属膜、４
・・・マスク材。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- 耐熱性セラミック基材の反射面となる面以外にマスク材
を形成した後、ＣＶＤ法によりＳｉＣ膜をコーティング
してその反射面を光学研磨し、更に反射面に金属膜を蒸
着することを特徴とするシンクロトロン放射光用反射ミ
ラーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117355A JP2744836B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | シンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117355A JP2744836B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | シンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413103A true JPH0413103A (ja) | 1992-01-17 |
| JP2744836B2 JP2744836B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=14709637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117355A Expired - Fee Related JP2744836B2 (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | シンクロトロン放射光用反射ミラーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2744836B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6245018B1 (en) | 1997-12-15 | 2001-06-12 | Medison Co., Ltd. | Ultrasonic color doppler imaging system capable of discriminating artery and vein |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62113104A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Hitachi Ltd | 高輝度放射光用ミラ− |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2117355A patent/JP2744836B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62113104A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Hitachi Ltd | 高輝度放射光用ミラ− |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6245018B1 (en) | 1997-12-15 | 2001-06-12 | Medison Co., Ltd. | Ultrasonic color doppler imaging system capable of discriminating artery and vein |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2744836B2 (ja) | 1998-04-28 |
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