JPH04133004A - 紫外赤外線カットフィルタ - Google Patents
紫外赤外線カットフィルタInfo
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- JPH04133004A JPH04133004A JP25617090A JP25617090A JPH04133004A JP H04133004 A JPH04133004 A JP H04133004A JP 25617090 A JP25617090 A JP 25617090A JP 25617090 A JP25617090 A JP 25617090A JP H04133004 A JPH04133004 A JP H04133004A
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-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
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-
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- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
-
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- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、広赤外域および紫外線を１枚で遮断する（
カットする）ことができる紫外赤外線カットフィルタに
関する。
カットする）ことができる紫外赤外線カットフィルタに
関する。
従来、紫外線と赤外線を同時に遮断する光学フィルタと
しては、たとえば、下記■〜■のようなものがある。
しては、たとえば、下記■〜■のようなものがある。
■ リン酸塩系ガラス、ケイ酸塩系ガラス等を基本とす
る赤外線吸収ガラス上に、紫外線吸収剤を添加した透明
塗装膜を形成してなる紫外赤外線吸収フィルタ。
る赤外線吸収ガラス上に、紫外線吸収剤を添加した透明
塗装膜を形成してなる紫外赤外線吸収フィルタ。
■ ガラス組成中にＦｅ、Ｖ、Ｃｅ、Ｔｉ等の元素を添
加してなる紫外線吸収ガラス上に、Ｉｎ＊ Ｏｘ 、Ｓ
ｎ Ｏｘ等の透明導電性酸化膜を形成してなる紫外線
吸収赤外線反射フィルタ、このフィルタは、第７図にみ
るように、可視光透過率が高く、紫外線吸収ガラスによ
り波長４００ｎｓ以下の紫外線を良く吸収し、透明導電
性酸化膜により波長１５００ｎｍ以上の赤外線を良く反
射する。
加してなる紫外線吸収ガラス上に、Ｉｎ＊ Ｏｘ 、Ｓ
ｎ Ｏｘ等の透明導電性酸化膜を形成してなる紫外線
吸収赤外線反射フィルタ、このフィルタは、第７図にみ
るように、可視光透過率が高く、紫外線吸収ガラスによ
り波長４００ｎｓ以下の紫外線を良く吸収し、透明導電
性酸化膜により波長１５００ｎｍ以上の赤外線を良く反
射する。
■ ガラス組成中にＦ ｅ ＳＶ ％ Ｃｅ ％ Ｔ
ｓ等の元素を添加してなる紫外線吸収ガラス上に、Ｚｎ
Ｓ等の誘電体膜とＡｇ等の金属膜を交互に積層してなる
紫外線吸収赤外線反射フィルタ。
ｓ等の元素を添加してなる紫外線吸収ガラス上に、Ｚｎ
Ｓ等の誘電体膜とＡｇ等の金属膜を交互に積層してなる
紫外線吸収赤外線反射フィルタ。
■ Ｔ １０ ｇ −、Ｚ ｒ Ｏｘ 、Ｃｅ Ｏ茸、
Ｚ ｎ Ｓ等の高屈折率物質の薄膜とＳ ｉＯｓ 、Ｍ
ｇ Ｆｅ 、Ｃａ Ｆｍ 、Ａ Ｉｔ Ｏｓ等の低屈折
率物質の薄膜を交互に多層積層してなる多層干渉薄膜を
透明基板上に形成してなる紫外赤外線反射フィルタ、具
体的には、たとえば、第６図にみるように、厚さ４Ｂの
フロートガラス基板上に、高屈折率物質の薄膜として厚
さ１１４０人のＴ ｉ Ｏ＊薄膜と、低屈折率物質の薄
膜として厚さ１８１０人のＳ ｉＯ！薄膜とを、交互に
７層ずつ積層してなる多層干渉薄膜を形成した紫外赤外
線反射フィルタである。このようなフィルタは、第７図
にみるように、波長８００〜１２００ｎ＊の赤外線と波
長４００ｎｗ以下の紫外線を選択的に反射し、可視光を
良く透過する。
Ｚ ｎ Ｓ等の高屈折率物質の薄膜とＳ ｉＯｓ 、Ｍ
ｇ Ｆｅ 、Ｃａ Ｆｍ 、Ａ Ｉｔ Ｏｓ等の低屈折
率物質の薄膜を交互に多層積層してなる多層干渉薄膜を
透明基板上に形成してなる紫外赤外線反射フィルタ、具
体的には、たとえば、第６図にみるように、厚さ４Ｂの
フロートガラス基板上に、高屈折率物質の薄膜として厚
さ１１４０人のＴ ｉ Ｏ＊薄膜と、低屈折率物質の薄
膜として厚さ１８１０人のＳ ｉＯ！薄膜とを、交互に
７層ずつ積層してなる多層干渉薄膜を形成した紫外赤外
線反射フィルタである。このようなフィルタは、第７図
にみるように、波長８００〜１２００ｎ＊の赤外線と波
長４００ｎｗ以下の紫外線を選択的に反射し、可視光を
良く透過する。
ところが、上述した紫外線と赤外線を同時に遮断する従
来の光学フィルタには、下記（ａ）〜（ｄ）の問題点が
あった。
来の光学フィルタには、下記（ａ）〜（ｄ）の問題点が
あった。
（ａ） ■のフィルタは、耐熱性、耐湿性に劣り、経
年劣下が激しい、また、可視光透過率が小さく、最大で
も７０％以下であって、光の減衰が大きい。
年劣下が激しい、また、可視光透過率が小さく、最大で
も７０％以下であって、光の減衰が大きい。
山）■のフィルタは、第７ｍにみるように、白熱電球な
どから発生する赤外線（主に波長８００〜２００Ｏｎ−
）に対しては反射効果が乏しい。また、紫外線吸収ガラ
スの品質が不安定であり、しかもコスト的にも高価であ
る。
どから発生する赤外線（主に波長８００〜２００Ｏｎ−
）に対しては反射効果が乏しい。また、紫外線吸収ガラ
スの品質が不安定であり、しかもコスト的にも高価であ
る。
（Ｃ） ■のフィルタは、■のフィルタと同様の問題
点を有する。
点を有する。
（ｄｉ ■のフィルタは、第７図にみるように、近赤
外線の反射波長域が８００〜１２００ｎ…と狭く、約１
３００ｎ＊以上の波長域で透過率が高まり、そのため、
熱線反射効果が乏しい。
外線の反射波長域が８００〜１２００ｎ…と狭く、約１
３００ｎ＊以上の波長域で透過率が高まり、そのため、
熱線反射効果が乏しい。
このような事情に鑑み、この発明は、耐熱性、耐湿性に
優れ、経年劣下が少なく、可視光透過率が高く、広範囲
の赤外線と紫外線を効果的に遮断することができる紫外
赤外線カットフィルタを提供することを課題とする。
優れ、経年劣下が少なく、可視光透過率が高く、広範囲
の赤外線と紫外線を効果的に遮断することができる紫外
赤外線カットフィルタを提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、この発明にかかる紫外赤外線
カットフィルタは、透明基板の少なくとも片側の表面上
に酸化亜鉛薄膜が形成されており、この酸化亜鉛ｉ膜上
および／または前記透明基板上に、透明導電性酸化膜と
高屈折率透明誘電体膜を交互に多層積層してなる多層干
渉薄膜が形成されているものである。
カットフィルタは、透明基板の少なくとも片側の表面上
に酸化亜鉛薄膜が形成されており、この酸化亜鉛ｉ膜上
および／または前記透明基板上に、透明導電性酸化膜と
高屈折率透明誘電体膜を交互に多層積層してなる多層干
渉薄膜が形成されているものである。
この発明で用いられる透明基板としては、特に限定はさ
れないが、たとえば、フロートガラス基板、透明プラス
チック板等が挙げられる。
れないが、たとえば、フロートガラス基板、透明プラス
チック板等が挙げられる。
この発明の紫外赤外線カットフィルタが有する酸化亜鉛
薄膜の膜厚としては、特に限定はされないが、５００Å
以上３０００Å以下程度が好ましい、膜厚が５００人未
満の場合は、紫外線の吸収が充分でなく、膜厚が３００
０人を超える場合は、可視域の光の透過率が低下するか
らである。
薄膜の膜厚としては、特に限定はされないが、５００Å
以上３０００Å以下程度が好ましい、膜厚が５００人未
満の場合は、紫外線の吸収が充分でなく、膜厚が３００
０人を超える場合は、可視域の光の透過率が低下するか
らである。
このような酸化亜鉛薄膜の形成方法としては、特に限定
はされないが、たとえば、電子ビーム蒸着、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法等の乾式法、あるいは
、有機亜鉛化合物（オクチル酸亜鉛、ナフテン亜鉛、ア
セチルアセトン亜鉛、亜鉛アルコラードなどの金属石鹸
、亜鉛のアルコキシドやキレート化合物等）を適当な溶
剤に溶解させたコーテイング液を用いて、スプレー法、
浸漬法等の適当な方法で塗布・乾燥し４００〜７００℃
以上で焼成する湿式法が挙げられる。なお、酸化亜鉛薄
膜は、前述した透明基板の片側の表面上のみに形成され
ていてもよいし、透明基板の表裏両面上に形成されてい
てもよい。
はされないが、たとえば、電子ビーム蒸着、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法等の乾式法、あるいは
、有機亜鉛化合物（オクチル酸亜鉛、ナフテン亜鉛、ア
セチルアセトン亜鉛、亜鉛アルコラードなどの金属石鹸
、亜鉛のアルコキシドやキレート化合物等）を適当な溶
剤に溶解させたコーテイング液を用いて、スプレー法、
浸漬法等の適当な方法で塗布・乾燥し４００〜７００℃
以上で焼成する湿式法が挙げられる。なお、酸化亜鉛薄
膜は、前述した透明基板の片側の表面上のみに形成され
ていてもよいし、透明基板の表裏両面上に形成されてい
てもよい。
この発明の紫外赤外線カットフィルタが有する透明導電
性酸化膜を構成する材料としては、透明導電性酸化物で
あれば、特に限定はされないが、たとえば、Ｓｎをドー
プした酸化インジウム（以下、これをｒＩ ＴＯＪと略
す。）、Ｆとｓｂをドープした酸化スズ（以下、これを
ｒＦＡＴＯｊと略す。）、Ｓｂをドープした酸化スズ（
以下、これをｒＡＴＯＪと略す。）などが挙げられる。
性酸化膜を構成する材料としては、透明導電性酸化物で
あれば、特に限定はされないが、たとえば、Ｓｎをドー
プした酸化インジウム（以下、これをｒＩ ＴＯＪと略
す。）、Ｆとｓｂをドープした酸化スズ（以下、これを
ｒＦＡＴＯｊと略す。）、Ｓｂをドープした酸化スズ（
以下、これをｒＡＴＯＪと略す。）などが挙げられる。
透明導電性酸化膜は、同じ材料で構成されたものだけを
用いてもよいし、あるいは、構成材料の異なる複数種類
の透明導電性酸化膜を併用してもよいこの発明の紫外赤
外線カットフィルタが有する高屈折率透明誘電体膜を構
成する材料としては、前述した透明導電性酸化膜を構成
する透明導電性酸化物より高い屈折率を有する透明誘電
体であれば、特に限定はされないが、たとえば、Ｔｉｅ
！、ＺｒＯｓ 、Ｃｅｎｔ 、ＺｎＳなどが挙げられる
、高屈折率透明誘電体膜は、間じ材料で構成されたもの
だけを用いてもよいし、あるいは、構成材料の異なる複
数種類の高屈折率透明誘電体膜を併用してもよい。
用いてもよいし、あるいは、構成材料の異なる複数種類
の透明導電性酸化膜を併用してもよいこの発明の紫外赤
外線カットフィルタが有する高屈折率透明誘電体膜を構
成する材料としては、前述した透明導電性酸化膜を構成
する透明導電性酸化物より高い屈折率を有する透明誘電
体であれば、特に限定はされないが、たとえば、Ｔｉｅ
！、ＺｒＯｓ 、Ｃｅｎｔ 、ＺｎＳなどが挙げられる
、高屈折率透明誘電体膜は、間じ材料で構成されたもの
だけを用いてもよいし、あるいは、構成材料の異なる複
数種類の高屈折率透明誘電体膜を併用してもよい。
上記透明導電性酸化膜および高屈折率透明誘電体膜の形
成方法としては、特に限定はされず、たとえば、前述し
た酸化亜鉛薄膜の形成の場合と同様に、通常の蒸着法、
スパッタリング法等の乾式法や、スプレー法、浸漬法等
の湿式法を用いてよい。
成方法としては、特に限定はされず、たとえば、前述し
た酸化亜鉛薄膜の形成の場合と同様に、通常の蒸着法、
スパッタリング法等の乾式法や、スプレー法、浸漬法等
の湿式法を用いてよい。
このような方法によって、透明導電性酸化膜と高屈折率
透明誘電体膜を交互に多層積層形成する。その際、透明
導電性酸化膜を構成する前述したＩＴＯ等の透明導電性
酸化物の屈折率は、高屈折率透明誘電体膜を構成する前
述した７ ｉ ０ ＊等の高屈折率透明誘電体の屈折率
より低く、そのため、高屈折率物質と低屈折率物質とが
交互に積層されることになる結果、前述の■で説明した
ような多層干渉ｖＩ＃膜が形成される。この時の透明導
電性酸化膜と高屈折率透明誘電体膜の各層の膜厚は、光
学膜厚（ｎｄ＝λ、／４）で決められる［ｎ；屈折率、
ｄ：膜厚、λ、：波長コ。ここで、λ。
透明誘電体膜を交互に多層積層形成する。その際、透明
導電性酸化膜を構成する前述したＩＴＯ等の透明導電性
酸化物の屈折率は、高屈折率透明誘電体膜を構成する前
述した７ ｉ ０ ＊等の高屈折率透明誘電体の屈折率
より低く、そのため、高屈折率物質と低屈折率物質とが
交互に積層されることになる結果、前述の■で説明した
ような多層干渉ｖＩ＃膜が形成される。この時の透明導
電性酸化膜と高屈折率透明誘電体膜の各層の膜厚は、光
学膜厚（ｎｄ＝λ、／４）で決められる［ｎ；屈折率、
ｄ：膜厚、λ、：波長コ。ここで、λ。
は、透明導電性酸化膜で吸収できない８００〜１２００
ｎ−域の波長に設定する０通常は、白熱電球の波長１１
０００ｎに設定する。また、透明導電性酸化膜の総膜厚
は、２０００Å以上にすることが好ましい。２０００人
未満だと、近赤外域（波長１５００ｎｍ以上）での反射
効果が充分には得られないからである。
ｎ−域の波長に設定する０通常は、白熱電球の波長１１
０００ｎに設定する。また、透明導電性酸化膜の総膜厚
は、２０００Å以上にすることが好ましい。２０００人
未満だと、近赤外域（波長１５００ｎｍ以上）での反射
効果が充分には得られないからである。
なお、上述した透明導電性酸化膜と高屈折率透明誘電体
膜からなる多層干渉薄膜は、透明基板の片側のみに形成
されていてもよいし、あるいは、両側に形成されていて
もよい、この多層干渉薄膜は、また、透明基板に直接接
して形成されていてもよいし、あるいは、透明基板との
間に前記酸化亜鉛ｖｒ＃膜を介して形成されていてもよ
い。
膜からなる多層干渉薄膜は、透明基板の片側のみに形成
されていてもよいし、あるいは、両側に形成されていて
もよい、この多層干渉薄膜は、また、透明基板に直接接
して形成されていてもよいし、あるいは、透明基板との
間に前記酸化亜鉛ｖｒ＃膜を介して形成されていてもよ
い。
透明導電性酸化膜および高屈折率透明誘電体膜を交互に
多層積層してなる多層干？！ｊ″！ｌ＃膜と酸化亜鉛ｉ
膜と透明基板とでフィルタを構成するようにすると、透
明基板上に形成された各層の有する下記（１）〜（３）
の光学的効果を併せ持つようになるため、可視光を良く
透過し、しかも広範囲の赤外線と紫外線を効果的に遮断
することが可能となる。
多層積層してなる多層干？！ｊ″！ｌ＃膜と酸化亜鉛ｉ
膜と透明基板とでフィルタを構成するようにすると、透
明基板上に形成された各層の有する下記（１）〜（３）
の光学的効果を併せ持つようになるため、可視光を良く
透過し、しかも広範囲の赤外線と紫外線を効果的に遮断
することが可能となる。
（１） 多層干渉薄膜は、波長８００〜１２００■ｍ
の赤外線と波長４００ｎｇ以下の紫外線を選択的に反射
するが、可視光の透過率が高い。
の赤外線と波長４００ｎｇ以下の紫外線を選択的に反射
するが、可視光の透過率が高い。
（２）透明導電性酸化膜は、波長１５００ｒｖ以上の赤
外線を良く反射するが、可視光の透過率が高い。
外線を良く反射するが、可視光の透過率が高い。
（３ン 酸化亜鉛ａ＊ｉ＊は、波長３Ｂ０ｎｍ以下の紫
外線を良く吸収するが、可視光の透過率が高い。
外線を良く吸収するが、可視光の透過率が高い。
また、耐熱性、耐湿性に優れ、経年劣下の少ない材料で
構成されているため、フィルタの耐熱性、耐湿性が向上
し、経年劣下が少なくなる。
構成されているため、フィルタの耐熱性、耐湿性が向上
し、経年劣下が少なくなる。
以下に、この発明の具体的な実施例を説明するが、この
発明は、下記実施例に限定されない。
発明は、下記実施例に限定されない。
第１図は、第１実施例を表す０図にみるように、この紫
外赤外線カットフィルタは、厚さ４■のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ３０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
１ｉ膜が積層形成され、さらに、そのＺｎ０ｉ［Ｉｌ！
上に多層干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その
多層干渉薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１３００
人のＩＴＯ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１１
４０人のＴ Ｉ Ｏｓ ｉ！ｌ！とを、Ｔ ｔ Ｏを膜
が最下層、かつ、ＩＴＯ膜が最外層になるように、交互
に３層ずつ積層形成してなるものである。
外赤外線カットフィルタは、厚さ４■のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ３０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
１ｉ膜が積層形成され、さらに、そのＺｎ０ｉ［Ｉｌ！
上に多層干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その
多層干渉薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１３００
人のＩＴＯ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１１
４０人のＴ Ｉ Ｏｓ ｉ！ｌ！とを、Ｔ ｔ Ｏを膜
が最下層、かつ、ＩＴＯ膜が最外層になるように、交互
に３層ずつ積層形成してなるものである。
第２図は、第２実施例を表す０図にみるように、この紫
外赤外線カントフィルタは、厚さ４ｍのフロートガラス
基板の一方の側の表面上に厚さ３０００人の酸化亜鉛Ｚ
ｎＯ薄膜が積層形成され、上記フロートガラス基板の他
方の側の表面上に多層干渉薄膜が積層形成された構造を
有する。その多層干渉薄膜の層構成、膜厚、積層順序等
は、上記第１実施例における多層干渉薄膜と同様である
第３図は、第３実施例を表す０図にみるように、この紫
外赤外線カットフィルタは、前記第１実施例の紫外赤外
線カントフィルタのフロートガラス基板が露出した側の
表面に、酸化亜鉛ＺｎＯ薄膜と多層干渉薄膜を、フロー
トガラス基板を中心にして対称構造をとるように積層形
成した構造を有する。
外赤外線カントフィルタは、厚さ４ｍのフロートガラス
基板の一方の側の表面上に厚さ３０００人の酸化亜鉛Ｚ
ｎＯ薄膜が積層形成され、上記フロートガラス基板の他
方の側の表面上に多層干渉薄膜が積層形成された構造を
有する。その多層干渉薄膜の層構成、膜厚、積層順序等
は、上記第１実施例における多層干渉薄膜と同様である
第３図は、第３実施例を表す０図にみるように、この紫
外赤外線カットフィルタは、前記第１実施例の紫外赤外
線カントフィルタのフロートガラス基板が露出した側の
表面に、酸化亜鉛ＺｎＯ薄膜と多層干渉薄膜を、フロー
トガラス基板を中心にして対称構造をとるように積層形
成した構造を有する。
第４図は、第４実施例を表す。図にみるように、この紫
外赤外線カットフィルタは、厚さ４日のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ２０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
薄膜が積層形成され、さらに、そのＺｎＯ薄膜上に多層
干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その多層干渉
薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１４００人のＦＡ
ＴＯ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１０４０人
のＺｎＳ膜とを、Ｚｎ５ｌｌが最下層、かつ、ＦＡＴｏ
ｌｌが最外層になるように、交互に４Ｎずつ積層形成し
てなるものである。
外赤外線カットフィルタは、厚さ４日のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ２０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
薄膜が積層形成され、さらに、そのＺｎＯ薄膜上に多層
干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その多層干渉
薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１４００人のＦＡ
ＴＯ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１０４０人
のＺｎＳ膜とを、Ｚｎ５ｌｌが最下層、かつ、ＦＡＴｏ
ｌｌが最外層になるように、交互に４Ｎずつ積層形成し
てなるものである。
第５図は、第５実施例を表す。図にみるように、この紫
外赤外線カットフィルタは、厚さ４鶴のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ２０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
薄膜が積層形成され、さらに、そのＺｎＯ薄膜上に多層
干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その多層干渉
薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１０００人のＡＴ
Ｏ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１２００人の
ＺｒＯｘ膜とを、Ｚ ｒ Ｏ，膜が最下層、かつ、ＡＴ
Ｏ膜が最外層になるように、交互に４層ずつ積層形成し
てなるものである。
外赤外線カットフィルタは、厚さ４鶴のフロートガラス
基板の片側の表面上に厚さ２０００人の酸化亜鉛ＺｎＯ
薄膜が積層形成され、さらに、そのＺｎＯ薄膜上に多層
干渉薄膜が積層形成された構造を有する。その多層干渉
薄膜は、透明導電性酸化膜として厚さ１０００人のＡＴ
Ｏ膜と、高屈折率透明誘電体膜として厚さ１２００人の
ＺｒＯｘ膜とを、Ｚ ｒ Ｏ，膜が最下層、かつ、ＡＴ
Ｏ膜が最外層になるように、交互に４層ずつ積層形成し
てなるものである。
第１実施例ないし第５実施例の紫外赤外線カントフィル
タ、および、前述した第６図にみるような従来例の紫外
赤外線反射フィルタの分光透過特性を分光光度計（日立
製：ｔＪ−３４１０）により測定し、それらの紫外線カ
ツト率、可視光透過率、赤外線カット率を算出した結果
を第１表にまとめて示した。
タ、および、前述した第６図にみるような従来例の紫外
赤外線反射フィルタの分光透過特性を分光光度計（日立
製：ｔＪ−３４１０）により測定し、それらの紫外線カ
ツト率、可視光透過率、赤外線カット率を算出した結果
を第１表にまとめて示した。
第１表
第１表にみるように、第１実施例ないし第５実施例のフ
ィルタは、従来例のフィルタに比べて、紫外線カツト率
および可視光透過率はほぼ同等であるが、赤外線カット
率が格段に高いことが確認された。
ィルタは、従来例のフィルタに比べて、紫外線カツト率
および可視光透過率はほぼ同等であるが、赤外線カット
率が格段に高いことが確認された。
なお、第７図は、第１実施例の紫外赤外線カットフィル
タ、前述した■の多層干渉薄膜を有する従来の紫外線吸
収赤外線反射フィルタ、および前述した■の透明導電性
酸化膜を有する従来の紫外赤外線反射フィルタの分光透
過特性曲線を示したものである。この図にみるように、
実施例のフィルタは、波長８００〜２０００ｎｍの広範
囲の赤外線と波長４００ｎｍ以下の紫外線を良く遮断し
、可視光を良く透過するものとなっており、従来のフィ
ルタの持つ光学的効果を併せ持ったものとなっているこ
とが確認された。
タ、前述した■の多層干渉薄膜を有する従来の紫外線吸
収赤外線反射フィルタ、および前述した■の透明導電性
酸化膜を有する従来の紫外赤外線反射フィルタの分光透
過特性曲線を示したものである。この図にみるように、
実施例のフィルタは、波長８００〜２０００ｎｍの広範
囲の赤外線と波長４００ｎｍ以下の紫外線を良く遮断し
、可視光を良く透過するものとなっており、従来のフィ
ルタの持つ光学的効果を併せ持ったものとなっているこ
とが確認された。
この発明にかかる紫外赤外線カントフィルタは、耐熱性
、耐湿性に優れ、経年劣下が少なく、しかも、可視光を
良く透過し、広範囲の赤外線と紫外線を効果的に遮断す
ることができる。
、耐湿性に優れ、経年劣下が少なく、しかも、可視光を
良く透過し、広範囲の赤外線と紫外線を効果的に遮断す
ることができる。
第１図ないし第５図は、それぞれ、この発明の第１ない
し第５実施例を表す側断面図、第６図は、従来例を表す
側断面図、第７図は、第１実施例の紫外赤外線カットフ
ィルタの分光透過特性曲線、紫外線吸収ガラス上に透明
導電性酸化膜を形成してなる従来の紫外線吸収赤外線反
射フィルタの分光透過特性曲線、および透明基板上に多
層干渉薄膜を形成してなる従来の紫外赤外線反射フィル
タの分光透過特性曲線をまとめて示すグラフである。 （０ム） 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第１図 １ｊ！４図 第３図 ］６図 第７図 □ 皐肩し−フィルタ −−−−−１７ｊＬり（今シ普千珂）１）−−−＊
（ｍ４ｔｌｌｌ）
し第５実施例を表す側断面図、第６図は、従来例を表す
側断面図、第７図は、第１実施例の紫外赤外線カットフ
ィルタの分光透過特性曲線、紫外線吸収ガラス上に透明
導電性酸化膜を形成してなる従来の紫外線吸収赤外線反
射フィルタの分光透過特性曲線、および透明基板上に多
層干渉薄膜を形成してなる従来の紫外赤外線反射フィル
タの分光透過特性曲線をまとめて示すグラフである。 （０ム） 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第１図 １ｊ！４図 第３図 ］６図 第７図 □ 皐肩し−フィルタ −−−−−１７ｊＬり（今シ普千珂）１）−−−＊
（ｍ４ｔｌｌｌ）
Claims (1)
- １ 透明基板の少なくとも片側の表面上に酸化亜鉛薄膜
が形成されており、この酸化亜鉛薄膜上および／または
前記透明基板上に、透明導電性酸化膜と高屈折率透明誘
電体膜を交互に多層積層してなる多層干渉薄膜が形成さ
れている紫外赤外線カットフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25617090A JPH04133004A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 紫外赤外線カットフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25617090A JPH04133004A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 紫外赤外線カットフィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04133004A true JPH04133004A (ja) | 1992-05-07 |
Family
ID=17288885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25617090A Pending JPH04133004A (ja) | 1990-09-25 | 1990-09-25 | 紫外赤外線カットフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04133004A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449413A (en) * | 1993-05-12 | 1995-09-12 | Optical Coating Laboratory, Inc. | UV/IR reflecting solar cell cover |
| US5618626A (en) * | 1992-11-09 | 1997-04-08 | Central Glass Company, Limited | Glass plate with ultraviolet absorbing multilayer coating |
| US5764412A (en) * | 1994-10-15 | 1998-06-09 | Fujitsu Limited | Polarization separation/conversion device for polarized lighting apparatus and projection display unit |
| JP2004354735A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Daishinku Corp | 光線カットフィルタ |
| JP2006154395A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Canon Inc | 光学フィルタ及びそれを有する撮像装置 |
| EP1701182A1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-13 | Mitsumi Electric Co., Ltd. | Camera module comprising an infrared cut filter, said filter comprising ultraviolet cut means |
| JP2007065232A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 紫外線熱線反射多層膜 |
| DE102005048743A1 (de) * | 2005-10-10 | 2007-04-12 | Janos Brellos | Transperente selbstklebende Kunststofffolie |
| JP2007094111A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 透明遮熱材及び透明遮熱調光材 |
| CN100454050C (zh) * | 2005-07-15 | 2009-01-21 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 滤光装置 |
| CN100462738C (zh) * | 2005-07-15 | 2009-02-18 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 滤光装置 |
| JP2009521787A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-06-04 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 少なくともｉｒブロック膜又はｕｖブロック膜を備える光学ディフューザ |
| JP2012518205A (ja) * | 2009-02-19 | 2012-08-09 | トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド | 全方向性多層フォトニック構造を製造するための方法 |
| CN103261927A (zh) * | 2011-01-31 | 2013-08-21 | 株式会社大真空 | 光学滤波器模块及光学滤波器系统 |
| WO2017041819A1 (en) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Multilayered system and method for producing the same |
| KR20180070679A (ko) * | 2015-10-22 | 2018-06-26 | 코닝 인코포레이티드 | 내-자외선 제품 및 이의 제조방법 |
| US20220011486A1 (en) * | 2019-03-05 | 2022-01-13 | Quantum-Si Incorporated | Optical absorption filter for an integrated device |
-
1990
- 1990-09-25 JP JP25617090A patent/JPH04133004A/ja active Pending
Cited By (18)
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| DE102005048743B4 (de) * | 2005-10-10 | 2011-04-07 | Janos Brellos | Transperente selbstklebende Kunststofffolie |
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