JPH0413695A - ステロイド誘導体の製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体の製造方法Info
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- JPH0413695A JPH0413695A JP11546790A JP11546790A JPH0413695A JP H0413695 A JPH0413695 A JP H0413695A JP 11546790 A JP11546790 A JP 11546790A JP 11546790 A JP11546790 A JP 11546790A JP H0413695 A JPH0413695 A JP H0413695A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は一般式(I)
[式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アシル基、
低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換
基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し R3
は低級アルキル基を表す、]で示されるステロイド誘導
体の製造方法に関する。
低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換
基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し R3
は低級アルキル基を表す、]で示されるステロイド誘導
体の製造方法に関する。
本発明により製造される一般式(I)で示されるステロ
イド誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化
症、骨粗髭症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有
効であることが知られている1α、25−ジヒドロキシ
ビタミンD3及びその誘導体の合成中間体として有用で
ある。
イド誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟化
症、骨粗髭症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に有
効であることが知られている1α、25−ジヒドロキシ
ビタミンD3及びその誘導体の合成中間体として有用で
ある。
[従来の技術]
従来、一般式(工゛)
[式中、Rはアシル基を表す、]
で示されるステロイド誘導体は27−ツルーコレスト−
5−エン−25−オンを出発原料として9工程を経由し
て製造されることが知られている(特開昭64−859
93号公報及び特公平1−46505号公報参照)。
5−エン−25−オンを出発原料として9工程を経由し
て製造されることが知られている(特開昭64−859
93号公報及び特公平1−46505号公報参照)。
[発明が解決しようとする課題]
上記の一般式(Io)で示されるステロイド誘導体の製
造方法は工程数が多く、一般式(Io)で示されるステ
ロイド誘導体の収量も低い。一般式(Io)で示される
ステロイド誘導体を容易に入手可能な原料からより少な
い工程によって工業的に有利に製造することができれば
、工業的に有利に1α、25−ジヒドロキシビタミンD
、を製造することができる。
造方法は工程数が多く、一般式(Io)で示されるステ
ロイド誘導体の収量も低い。一般式(Io)で示される
ステロイド誘導体を容易に入手可能な原料からより少な
い工程によって工業的に有利に製造することができれば
、工業的に有利に1α、25−ジヒドロキシビタミンD
、を製造することができる。
本発明の目的は、容易に入手可能な原料を用いて、より
少ない工程によって工業的に有利に一般式(Io)で示
されるステロイド誘導体等を製造する方法を提供するこ
とにある。
少ない工程によって工業的に有利に一般式(Io)で示
されるステロイド誘導体等を製造する方法を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、上記の目的は
■−一般式If)
[式中、R11及びR21はそれぞれ水素原子、アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し、
R3は前記定義のとおりであり、XI及びX2はそれぞ
れ低級アルコキシル基を表すか、又は−緒になって低級
アルキレンジオキシ基を表す、] で示されるステロイド誘導体を酸で処理することを特徴
とする一般式(1)で示されるステロイド誘導体の製造
方法、及び ■一般式(DI) [式中、R”及びR”は前記定義のとおりであり、Yは
ハロゲン原子又は一般式−03O2R’で示される基を
表し、ここでR4はアリール基を表す。]で示されるス
テロイド誘導体と一般式(TV)[式中、R3、xl及
びx2は前記定義のとおりであり、Zは金属を表す、〕 で示される有機金属化合物とを反応させることにより一
般式(II)で示されるステロイド誘導体を得、該一般
式(II)で示されるステロイド誘導体を酸で処理する
ことを特徴とする一般式(I)で示されるステロイド誘
導体の製造方法 を提供することにより達成される。
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し、
R3は前記定義のとおりであり、XI及びX2はそれぞ
れ低級アルコキシル基を表すか、又は−緒になって低級
アルキレンジオキシ基を表す、] で示されるステロイド誘導体を酸で処理することを特徴
とする一般式(1)で示されるステロイド誘導体の製造
方法、及び ■一般式(DI) [式中、R”及びR”は前記定義のとおりであり、Yは
ハロゲン原子又は一般式−03O2R’で示される基を
表し、ここでR4はアリール基を表す。]で示されるス
テロイド誘導体と一般式(TV)[式中、R3、xl及
びx2は前記定義のとおりであり、Zは金属を表す、〕 で示される有機金属化合物とを反応させることにより一
般式(II)で示されるステロイド誘導体を得、該一般
式(II)で示されるステロイド誘導体を酸で処理する
ことを特徴とする一般式(I)で示されるステロイド誘
導体の製造方法 を提供することにより達成される。
上記の各一般式におけるRI R2R11,R21R
3、Xl、Xl Y及びZを以下に詳しく説明する R
IR2、R”及びR”のそれぞれが表すアシル基として
は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基
、ベンゾイル基、モノクロルアセチル基、トリフルオロ
アセチル基等が挙げられ、低級アルコキシカルボニル基
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基等が挙げられ、三置換
シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、トリイソプロピルシリル基、L−ブチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等が挙げら
れ、また置換基を有していてもよいアルコキシメチル基
としては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル
基、1−(エトキシ)エチル基、1−(メトキシ)イソ
プロピル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基等が挙げられるaR”が表す低級アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
が挙げられる。XI及びXlのそれぞれが表す低級アル
コキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基等が挙げられ、Xl及びXl
が一緒になって表す低級アルキレンジオキシ基としては
、エチレンジオキシ基、メチルエチレンジオキシ基、1
.1=ジメチルエチレンジオキシ基、1.2−ジメチル
エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基、1−メ
チルトリメチレンジオキシ基、2−メチルトリメチレン
ジオキシ基、1,1−ジメチルトリメチレンジオキシ基
、1,2−ジメチルトリメチレンジオキシ基、2,2−
ジメチルトリメチレンジオキシ基等が挙げられる。Yが
表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。R4が表すアリー
ル基としては、 フェニル基、トリル基、p−メトキシ
フェニル基、p−ブロムフェニル基、p−ニトロフェニ
ル基等が挙げられる。2が表す金属としては、亜鉛、リ
チウム、銅リチウム、ブロムマグネシウム等が挙げられ
る。
3、Xl、Xl Y及びZを以下に詳しく説明する R
IR2、R”及びR”のそれぞれが表すアシル基として
は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基
、ベンゾイル基、モノクロルアセチル基、トリフルオロ
アセチル基等が挙げられ、低級アルコキシカルボニル基
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基等が挙げられ、三置換
シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシ
リル基、トリイソプロピルシリル基、L−ブチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等が挙げら
れ、また置換基を有していてもよいアルコキシメチル基
としては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル
基、1−(エトキシ)エチル基、1−(メトキシ)イソ
プロピル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピ
ラニル基等が挙げられるaR”が表す低級アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
が挙げられる。XI及びXlのそれぞれが表す低級アル
コキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基等が挙げられ、Xl及びXl
が一緒になって表す低級アルキレンジオキシ基としては
、エチレンジオキシ基、メチルエチレンジオキシ基、1
.1=ジメチルエチレンジオキシ基、1.2−ジメチル
エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基、1−メ
チルトリメチレンジオキシ基、2−メチルトリメチレン
ジオキシ基、1,1−ジメチルトリメチレンジオキシ基
、1,2−ジメチルトリメチレンジオキシ基、2,2−
ジメチルトリメチレンジオキシ基等が挙げられる。Yが
表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。R4が表すアリー
ル基としては、 フェニル基、トリル基、p−メトキシ
フェニル基、p−ブロムフェニル基、p−ニトロフェニ
ル基等が挙げられる。2が表す金属としては、亜鉛、リ
チウム、銅リチウム、ブロムマグネシウム等が挙げられ
る。
一般式(I)で示されるステロイド誘導体の製造方法を
反応式で表せば次のとおりである。
反応式で表せば次のとおりである。
[上記式中、R1、R2RI、R21、R3R4X1、
Xl及びZは前記定義のとおりであり、Y゛はハロゲン
原子を表す。コ 上記一般式(I)、(n)、(t[1−1)、(I[[
−2)又は(IV)で示される化合物を以後それぞれ下
記のように称することがある。
Xl及びZは前記定義のとおりであり、Y゛はハロゲン
原子を表す。コ 上記一般式(I)、(n)、(t[1−1)、(I[[
−2)又は(IV)で示される化合物を以後それぞれ下
記のように称することがある。
一般式
(I)
(II)
(I[[−1)
(III−2)
(IV)
略
称
ステロイド誘導体(I)
ステロイド誘導体(II)
ステロイド誘導体(III−1)
ステロイド誘導体(In−2)
有機金属化合物(IV)
ステロイド誘導体(III−1)は、例えば構出らの方
法(E本化学会第58春季年会講演予稿集H12IL3
4.1184頁、1989年参照)に従って調製される
一般式 [式中、R5及びR6はそれぞれ水#基の保護基を表す
、コ で示されるアルコールを常法によりアリールスルホネー
トに変換することにより製造することができる。
法(E本化学会第58春季年会講演予稿集H12IL3
4.1184頁、1989年参照)に従って調製される
一般式 [式中、R5及びR6はそれぞれ水#基の保護基を表す
、コ で示されるアルコールを常法によりアリールスルホネー
トに変換することにより製造することができる。
ステロイド誘導体(DI−1)からステロイド誘導体(
II[−2)への変換は、ステロイド誘導体(III−
1)にハロゲン化アルカリ金属を作用させることにより
行われる。ハロゲン化アルカリ金属としては、ヨウ化ナ
トリウム、臭化ナトリウム、塩化リチウム等が用いられ
る。ハロゲン化アルカリ金属の使用量はステロイド誘導
体(III−1) 1モルに対して通常約1.2〜20
モルである0反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては、例えば、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、エチルセロソル
ブ及びこれらの混合溶媒等が使用される。溶媒の使用量
はステロイド誘導体(1−1)に対して通常約5〜20
0倍重量である。反応は通常約20℃〜100℃の範囲
内の温度で行われる。
II[−2)への変換は、ステロイド誘導体(III−
1)にハロゲン化アルカリ金属を作用させることにより
行われる。ハロゲン化アルカリ金属としては、ヨウ化ナ
トリウム、臭化ナトリウム、塩化リチウム等が用いられ
る。ハロゲン化アルカリ金属の使用量はステロイド誘導
体(III−1) 1モルに対して通常約1.2〜20
モルである0反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては、例えば、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、エチルセロソル
ブ及びこれらの混合溶媒等が使用される。溶媒の使用量
はステロイド誘導体(1−1)に対して通常約5〜20
0倍重量である。反応は通常約20℃〜100℃の範囲
内の温度で行われる。
このようにして得られたステロイド誘導体(III−2
)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機化合物
の単離・精製において用いられる方法と同様にして行わ
れる0例えば、反応混合物を水にあけ、ジエチルエーテ
ル等の有機溶媒で抽出する。抽出液を水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後、
濃縮して粗生成物を得、該粗生成物を必要に応じて再結
晶、クロマトグラフィー等により精製することにより行
われる。
)の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機化合物
の単離・精製において用いられる方法と同様にして行わ
れる0例えば、反応混合物を水にあけ、ジエチルエーテ
ル等の有機溶媒で抽出する。抽出液を水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥後、
濃縮して粗生成物を得、該粗生成物を必要に応じて再結
晶、クロマトグラフィー等により精製することにより行
われる。
ステロイド誘導体(III−1)又はステロイド誘導体
(III−2)からステロイド誘導体(II)への変換
は、ステロイド誘導体(III−1)又はステロイド誘
導体(III−2)と有機金属化合物(■)とを反応さ
せることにより行われる。有機金属化合物(■)の使用
量はステロイド誘導体(III−1)又はステロイド誘
導体(In−2)の1モルに対して通常約1〜100モ
ルである。この反応は銅触媒の存在下に行うのが好まし
い、銅触媒としては、例えば、塩化鋼、臭化鋼、ヨウ化
鋼、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体、ヨウ化銅−ト
リブチルホスフィン複合体等が使用される。銅触媒の使
用量はステロイド誘導体(III−1)又はステロイド
誘導体(III−2)の1モルに対して通常約0.1〜
lOモルである0反応は通常不活性なガスの雰囲気下で
行われる1反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒とし
ては、例えば、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン
、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド及びこれらの混合溶媒などが
使用される。
(III−2)からステロイド誘導体(II)への変換
は、ステロイド誘導体(III−1)又はステロイド誘
導体(III−2)と有機金属化合物(■)とを反応さ
せることにより行われる。有機金属化合物(■)の使用
量はステロイド誘導体(III−1)又はステロイド誘
導体(In−2)の1モルに対して通常約1〜100モ
ルである。この反応は銅触媒の存在下に行うのが好まし
い、銅触媒としては、例えば、塩化鋼、臭化鋼、ヨウ化
鋼、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体、ヨウ化銅−ト
リブチルホスフィン複合体等が使用される。銅触媒の使
用量はステロイド誘導体(III−1)又はステロイド
誘導体(III−2)の1モルに対して通常約0.1〜
lOモルである0反応は通常不活性なガスの雰囲気下で
行われる1反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒とし
ては、例えば、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン
、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド及びこれらの混合溶媒などが
使用される。
溶媒の使用量はステロイド誘導体(III −1)又は
ステロイド誘導体(I[I −2)に対して通常約5〜
200倍重量である0反応は通常約−80℃〜50℃の
範囲内の温度で行われる。
ステロイド誘導体(I[I −2)に対して通常約5〜
200倍重量である0反応は通常約−80℃〜50℃の
範囲内の温度で行われる。
このようにして得られたステロイド誘導体(n)の反応
混合物からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・
精製において用いられる方法と同様にして行われる0例
えば、反応混合物を塩化アンモニウム水溶液又は水にあ
け、ジエチルエーテル、塩化メチレン、酢酸エチルなど
の有機溶媒で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄したのち、
□硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して粗生成物を得、該
粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマトグラフィーな
どにより精製することにより行われる。
混合物からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・
精製において用いられる方法と同様にして行われる0例
えば、反応混合物を塩化アンモニウム水溶液又は水にあ
け、ジエチルエーテル、塩化メチレン、酢酸エチルなど
の有機溶媒で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄したのち、
□硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して粗生成物を得、該
粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマトグラフィーな
どにより精製することにより行われる。
ステロイド誘導体(II)からステロイド誘導体(I)
への変換は、ステロイド誘導体(n)を酸で処理するこ
とにより行われる。酸としては、例えば、酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩
などの有機酸;塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸などが用い
られる。酸の使用量は、酸の性質によっても異なるが、
ステロイド誘導体(■)1モルに対して通常約0.00
1〜1モルである8反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては、例えば、アセトン、2−ブタノン、3−
ペンタノン、メタノール、エタノール、水等が用いられ
る。溶媒の使用量はステロイド誘導体(n)に対して通
常約5〜1000倍重量である0反応は通常約−10℃
〜80℃の範囲内で行われる。この反応において、ステ
ロイド誘導体(II)の水酸基の保護基が三置換シリル
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル基で
ある場合、同時に全部又は一部の保護基の脱保護反応も
起こり得る。
への変換は、ステロイド誘導体(n)を酸で処理するこ
とにより行われる。酸としては、例えば、酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩
などの有機酸;塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸などが用い
られる。酸の使用量は、酸の性質によっても異なるが、
ステロイド誘導体(■)1モルに対して通常約0.00
1〜1モルである8反応は溶媒中で行うのが好ましく、
溶媒としては、例えば、アセトン、2−ブタノン、3−
ペンタノン、メタノール、エタノール、水等が用いられ
る。溶媒の使用量はステロイド誘導体(n)に対して通
常約5〜1000倍重量である0反応は通常約−10℃
〜80℃の範囲内で行われる。この反応において、ステ
ロイド誘導体(II)の水酸基の保護基が三置換シリル
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル基で
ある場合、同時に全部又は一部の保護基の脱保護反応も
起こり得る。
このようにして得られたステロイド誘導体(I)の反応
混合物からの単離・ 精製は、通常の有機化合物の単離
・精製において用いられる方法と同様にして行われる1
例えば、反応混合液を水にあけ、酢酸エチルなどの有機
溶媒で抽出する。
混合物からの単離・ 精製は、通常の有機化合物の単離
・精製において用いられる方法と同様にして行われる1
例えば、反応混合液を水にあけ、酢酸エチルなどの有機
溶媒で抽出する。
抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、濃縮して粗生成物
を得、該粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマトグラ
フィー等により精製することにより行われる。
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、濃縮して粗生成物
を得、該粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマトグラ
フィー等により精製することにより行われる。
ステロイド誘導体(1)は、例えば、次の方法により1
α、25−ジヒドロキシビタミンD3等に誘導される。
α、25−ジヒドロキシビタミンD3等に誘導される。
(VXX)
[上記式中、R1%R2及びR3は前記定義のとおりで
あり、R7は低級アルキル基を表す、コステロイド誘導
体(I)にメチルリチウム、エチルリチウム、メチルマ
グネシウムプロミド、エチルマグネシウムプロミド等の
有機金属化合物を作用させることにより一般式(V)で
示されるプロビタミンD3誘導体を得、次いで該プロビ
タミンD3誘導体を水酸基の脱保護反応に付することに
より、一般式(Vl)で示されるプロビタミンD3誘導
体を得る。一般式(Vl)で示されるプロビタミンD、
誘導体を公知の方法に準じて光反応させ、次いでその生
成物を熱異性化させることにより、一般式(■)で示さ
れるビタミンD、誘導体、すなわち、1α、25−ジヒ
ドロキシビタミンD3などを得る。
あり、R7は低級アルキル基を表す、コステロイド誘導
体(I)にメチルリチウム、エチルリチウム、メチルマ
グネシウムプロミド、エチルマグネシウムプロミド等の
有機金属化合物を作用させることにより一般式(V)で
示されるプロビタミンD3誘導体を得、次いで該プロビ
タミンD3誘導体を水酸基の脱保護反応に付することに
より、一般式(Vl)で示されるプロビタミンD3誘導
体を得る。一般式(Vl)で示されるプロビタミンD、
誘導体を公知の方法に準じて光反応させ、次いでその生
成物を熱異性化させることにより、一般式(■)で示さ
れるビタミンD、誘導体、すなわち、1α、25−ジヒ
ドロキシビタミンD3などを得る。
[実施例]
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
参考例1
20−メチル−1α、3β−ビス(テトラヒドロビラン
−2−イルオキシ)プレグナ−5,7ジエンー21−オ
ール15.3gをピリジン250 m lに溶解し、氷
水冷しながら攪拌した。
−2−イルオキシ)プレグナ−5,7ジエンー21−オ
ール15.3gをピリジン250 m lに溶解し、氷
水冷しながら攪拌した。
得られた溶液にp−トルエンスルホニルクロリド8.5
gを加え、18時間攪拌した6反応混合液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を希塩酸、水、食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下
に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、1α、3β−ビス(テトラヒドロビラ
ン−2−イルオキシ)−20−メチル−21−p−トル
エンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを16
.9g得た。
gを加え、18時間攪拌した6反応混合液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を希塩酸、水、食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下
に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、1α、3β−ビス(テトラヒドロビラ
ン−2−イルオキシ)−20−メチル−21−p−トル
エンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを16
.9g得た。
参考例2
参考例1においてp−トルエンスルホニルクロリド8.
5gの代わりにベンゼンスルホニルクロリド7.9gを
用いる以外は同様にして反応及び操作を行うことにより
、21−ベンゼンスルホニルオキシー1α、3β−ビス
(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−20−メチ
ルプレグナ5.7−ジエンを14.2g得た。
5gの代わりにベンゼンスルホニルクロリド7.9gを
用いる以外は同様にして反応及び操作を行うことにより
、21−ベンゼンスルホニルオキシー1α、3β−ビス
(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−20−メチ
ルプレグナ5.7−ジエンを14.2g得た。
参考例3
1α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキ
シ)−20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオ
キシプレグナ−5,7−ジエン16.9gをメタノール
300 m lに溶解し、得られた溶液にp−トルエン
スルホン酸0.5gを加え、室温で4時間攪拌した0反
応混合液に重曹水を加え、減圧下にメタノールを留去し
た。残渣を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮することにより、20−メチル−21−p
−トルエンスルホニルオキシプレグナ5.7−ジエン−
1α、3β−ジオールの粗生成物を12.5g得た。
シ)−20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオ
キシプレグナ−5,7−ジエン16.9gをメタノール
300 m lに溶解し、得られた溶液にp−トルエン
スルホン酸0.5gを加え、室温で4時間攪拌した0反
応混合液に重曹水を加え、減圧下にメタノールを留去し
た。残渣を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮することにより、20−メチル−21−p
−トルエンスルホニルオキシプレグナ5.7−ジエン−
1α、3β−ジオールの粗生成物を12.5g得た。
以下余白
参考例4
20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシプ
レグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオール12.
3gを塩化メチレン250 m lに懸濁させ、得られ
た懸濁液にピリジンl Om l及び4−ジメチルアミ
ノピリジン0.5gを加え、水冷下に攪拌した。得られ
た溶液にクロル炭酸メチル3.8mlを加え、30分間
攪拌した。反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を希塩酸、水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に
濃縮して、14.8gの粗生成物を得た。この粗生成物
を塩化メチレン300 m lに溶解し、得られた溶液
にジイソプロピルエチルアミン43m1及び4−ジメチ
ルアミノピリジン1.0gを加え、水冷下に攪拌した。
レグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオール12.
3gを塩化メチレン250 m lに懸濁させ、得られ
た懸濁液にピリジンl Om l及び4−ジメチルアミ
ノピリジン0.5gを加え、水冷下に攪拌した。得られ
た溶液にクロル炭酸メチル3.8mlを加え、30分間
攪拌した。反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を希塩酸、水、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に
濃縮して、14.8gの粗生成物を得た。この粗生成物
を塩化メチレン300 m lに溶解し、得られた溶液
にジイソプロピルエチルアミン43m1及び4−ジメチ
ルアミノピリジン1.0gを加え、水冷下に攪拌した。
得られた溶液にクロル炭酸メチル9.5mlを加え、室
温で5時間攪拌した0反応混合液を氷水にあけ、ジエチ
ルエーテルで抽出した。抽出液を希塩酸、水、重曹水、
食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち
、減圧下に濃縮した。残液をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、1α、3βビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエン
スルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを14.0
g得た。
温で5時間攪拌した0反応混合液を氷水にあけ、ジエチ
ルエーテルで抽出した。抽出液を希塩酸、水、重曹水、
食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち
、減圧下に濃縮した。残液をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、1α、3βビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエン
スルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを14.0
g得た。
参考例5
1α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−2イルオキシ
)−20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキ
シプレグナ−5,7−ジエン1.1.2gをアセトン1
00 m lに溶かした。得られた溶液にヨウ化ナトリ
ウム8.03gを加えて、窒素雰囲気下、35℃〜40
℃で一晩攪拌した0反応混合液を水にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、1
α、3β−ビス(テトラヒドロビラン2−イルオキシ)
−21−ヨウビー20−メチルプレグナ−5,7−ジエ
ンを8.57g得た。
)−20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキ
シプレグナ−5,7−ジエン1.1.2gをアセトン1
00 m lに溶かした。得られた溶液にヨウ化ナトリ
ウム8.03gを加えて、窒素雰囲気下、35℃〜40
℃で一晩攪拌した0反応混合液を水にあけ、酢酸エチル
で抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、1
α、3β−ビス(テトラヒドロビラン2−イルオキシ)
−21−ヨウビー20−メチルプレグナ−5,7−ジエ
ンを8.57g得た。
参考例6
1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−20
−メチル−21−p−トルエンスルボニルオキシプレグ
ナ−5,7−ジエン15.8gをアセトン130m1に
溶かした。得られた溶液にヨウ化ナトリウム8.75g
を加えて、窒素雰囲気下、35℃〜40℃で一晩攪拌し
た。反応混合液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、1α、3βビス(
メトキシカルボニルオキシ)−21−ヨウビー20−メ
チルプレグナ−5,7−ジエンを14.2g得た。
−メチル−21−p−トルエンスルボニルオキシプレグ
ナ−5,7−ジエン15.8gをアセトン130m1に
溶かした。得られた溶液にヨウ化ナトリウム8.75g
を加えて、窒素雰囲気下、35℃〜40℃で一晩攪拌し
た。反応混合液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、1α、3βビス(
メトキシカルボニルオキシ)−21−ヨウビー20−メ
チルプレグナ−5,7−ジエンを14.2g得た。
参考例7
20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシプ
レグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオール260
mgを塩化メチレン2.6mlに溶かし、得られた溶液
にイミダゾール133mgを加えて水冷下に攪拌した。
レグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオール260
mgを塩化メチレン2.6mlに溶かし、得られた溶液
にイミダゾール133mgを加えて水冷下に攪拌した。
得られた溶液にトリメチルシリルクロリド0.11m1
を滴下し、氷冷したまま1時間攪拌した0反応混合液を
重曹水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食
塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、lα、3β−ビス(トリメチル
シリルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを286mg
得た。
を滴下し、氷冷したまま1時間攪拌した0反応混合液を
重曹水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食
塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、lα、3β−ビス(トリメチル
シリルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエンを286mg
得た。
参考例8
20−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシプ
レグナ−5,7−ジエン−1α、3βジオール1.34
gをピリジン3.4mlに溶かし、得られた溶液に4−
ジメチルアミノピリジン14 m gを加えて室温で攪
拌した。得られた溶液に無水酢酸1.1mlを加え、2
時間攪拌した。
レグナ−5,7−ジエン−1α、3βジオール1.34
gをピリジン3.4mlに溶かし、得られた溶液に4−
ジメチルアミノピリジン14 m gを加えて室温で攪
拌した。得られた溶液に無水酢酸1.1mlを加え、2
時間攪拌した。
反応混合液を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによす精製し、1α、3β−ジア
セトキシ−20−メチル−21−p−トルエンスルホニ
ルオキシプレグナ−5,7−ジエンを1.02g得た。
出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによす精製し、1α、3β−ジア
セトキシ−20−メチル−21−p−トルエンスルホニ
ルオキシプレグナ−5,7−ジエンを1.02g得た。
1α、3β−ジアセトキシ−20−メチル−21−p−
トルエンスルホニルオキシプレグナ5.7−ジエン1.
02gをアセトン10m1に溶かした。得られた溶液に
ヨウ化ナトリウム1.0gを加えて、窒素雰囲気下、3
5℃〜40℃で一晩攪拌した1反応混合液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、1α、3β−ジアセトキシ−21−ヨウビー2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエンを0.98g得た
。
トルエンスルホニルオキシプレグナ5.7−ジエン1.
02gをアセトン10m1に溶かした。得られた溶液に
ヨウ化ナトリウム1.0gを加えて、窒素雰囲気下、3
5℃〜40℃で一晩攪拌した1反応混合液を水にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、1α、3β−ジアセトキシ−21−ヨウビー2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエンを0.98g得た
。
実施例1
窒素雰囲気下、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体1,
3gにテトラヒドロフラン100 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチルマ
グネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0,6
0mol/l)150mlを10分間かけて滴下した。
3gにテトラヒドロフラン100 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチルマ
グネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0,6
0mol/l)150mlを10分間かけて滴下した。
30分後、得られた溶液に1α、3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエ
ンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン10gを
テトラヒドロフラン100 m lに溶かして得られた
溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた0反応
混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食
塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、下記の物性を有する27−ツル
ー1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−2
5,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)
コレスト−5,7−ジエンを5.5g得た。
カルボニルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエ
ンスルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン10gを
テトラヒドロフラン100 m lに溶かして得られた
溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた0反応
混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食
塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、
減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製し、下記の物性を有する27−ツル
ー1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−2
5,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)
コレスト−5,7−ジエンを5.5g得た。
’H−NMRスペクトル(90MHア)CD Cl s
、 T M S 、 δ:0.57(s、3H)
、 0.84〜0.97(9)])。
、 T M S 、 δ:0.57(s、3H)
、 0.84〜0.97(9)])。
1.31(s、、6H)、 3.23〜3y59(
4H)。
4H)。
3.71(s、3B)、 3.73(s、3H)。
4.60〜5.00(m、 2f()。
5、2(1〜5.43(m、 1)I)。
5.50〜5.70(m、IH)
27−ツルー1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオ
キシ)−25,25−(2,2−ジメチルトリメチレン
ジオキシ)コレスト−5,7−ジエン17.0gをアセ
トン250 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸
85 m lを加えて40分間加熱還流させた。放冷後
、反応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した
。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、下記の物性を有する27ノルー1α、3
β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレスト−5,
7−ジエン−25−オンを10.6g得た。
キシ)−25,25−(2,2−ジメチルトリメチレン
ジオキシ)コレスト−5,7−ジエン17.0gをアセ
トン250 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸
85 m lを加えて40分間加熱還流させた。放冷後
、反応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した
。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順
次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、下記の物性を有する27ノルー1α、3
β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレスト−5,
7−ジエン−25−オンを10.6g得た。
’H−NMRスペクトル(90MH,)CDCI 3
. TMS、 δ :0.59(s、3H)、
0.98(OH)。
. TMS、 δ :0.59(s、3H)、
0.98(OH)。
3.72(s、3H)、 3.75(s、3H)。
4.61〜5.06(2H)。
5.22〜5.48(brm、18)。
5.48〜5.75(brm、IH)
実施例2
窒素雰囲気下、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体0.
91gにテトラヒドロフラン70 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
エチレンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテト
ラヒドロフラン溶液(0、65m o 1 / l )
100 m lを10分間かけて滴下した。30分後
、得られた溶液に21−ベンゼンスルホニルオキシ−l
α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ
)−20メチルプレグナ−5,7−ジエン761gをテ
トラヒドロフラン70 m lに溶かして得られた溶液
を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた。
91gにテトラヒドロフラン70 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
エチレンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテト
ラヒドロフラン溶液(0、65m o 1 / l )
100 m lを10分間かけて滴下した。30分後
、得られた溶液に21−ベンゼンスルホニルオキシ−l
α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ
)−20メチルプレグナ−5,7−ジエン761gをテ
トラヒドロフラン70 m lに溶かして得られた溶液
を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた。
反応混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水
、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したの
ち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、下記の物性を有する27−
ツルー1α。
ルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水
、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したの
ち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、下記の物性を有する27−
ツルー1α。
3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−
25,25−エチレンジオキシ−26メチルコレストー
5.7−ジエンを3.2g得た。
25,25−エチレンジオキシ−26メチルコレストー
5.7−ジエンを3.2g得た。
’H−NMRスペクトル(90MHz)CDCl a、
TMS、 δ: 0、61 (s、 3B)。
TMS、 δ: 0、61 (s、 3B)。
3620〜3.83(10)1)。
4.58〜4.94(2H)。
5.25〜5.44(誼、 l1l)。
5656〜5.70(m、 IH)
27−ツルー1α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−
2−イルオキシ)−25,25−エチレンジオキシ−2
6−メチルコレスト−5,7−ジエン8.8gをアセト
ン100 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸4
0 m lを加えて2時間加熱還流させた。放冷後、反
応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽
出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、下記の物性を有する27−ツルー1α、3β
−ジヒドロキシ−26−メチルコレスト−5,7−ジエ
ン−25−オンを4.5g得た。
2−イルオキシ)−25,25−エチレンジオキシ−2
6−メチルコレスト−5,7−ジエン8.8gをアセト
ン100 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸4
0 m lを加えて2時間加熱還流させた。放冷後、反
応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽
出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、下記の物性を有する27−ツルー1α、3β
−ジヒドロキシ−26−メチルコレスト−5,7−ジエ
ン−25−オンを4.5g得た。
’H−NMRスペクトル(90MH,)cDcla、T
MS、 δ: 0、60(s、 38)、 0.95(s、 3H)
。
MS、 δ: 0、60(s、 38)、 0.95(s、 3H)
。
3、55〜4.20(m、 2H)。
5.24〜5.45(m、 IH)。
5.55〜5.77(m、1ll)
実施例3
窒素雰囲気下、ヨウ化銅−トリブチルホスフィン複合体
274 m gにテトラヒドロフラン10m1を加えて
攪拌した。得られた溶液を一20℃に保ち、これに3.
3− (2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチ
ルマグネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0
,60mo l / l )14.6mlを10分間か
けて滴下した。30分後、得られた溶液に1α、3β−
ビス(メトキシカルボニルオキシ)−21−ヨウビー2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエン1.Ogをテトラ
ヒドロフラン20 m lに溶かして得られた溶液を1
5分間かけて滴下し、5時間攪拌を続けた0反応混合液
を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下
に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、27−ツルー1α、3β−ビス(メト
キシカルボニルオキシ)−25,25−(2,2−ジメ
チルトリメチレンジオキシ)コレスト−5,7−ジエン
を350mg得た。
274 m gにテトラヒドロフラン10m1を加えて
攪拌した。得られた溶液を一20℃に保ち、これに3.
3− (2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチ
ルマグネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0
,60mo l / l )14.6mlを10分間か
けて滴下した。30分後、得られた溶液に1α、3β−
ビス(メトキシカルボニルオキシ)−21−ヨウビー2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエン1.Ogをテトラ
ヒドロフラン20 m lに溶かして得られた溶液を1
5分間かけて滴下し、5時間攪拌を続けた0反応混合液
を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下
に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、27−ツルー1α、3β−ビス(メト
キシカルボニルオキシ)−25,25−(2,2−ジメ
チルトリメチレンジオキシ)コレスト−5,7−ジエン
を350mg得た。
実施例1におけると同様にして、27−ツルーlα、3
β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−25,25−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−
5,7−ジエン350mgより27−ツルー1α、3β
−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレスト−5,7
−ジエン−25−オンを175mg得た。
β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−25,25−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−
5,7−ジエン350mgより27−ツルー1α、3β
−ビス(メトキシカルボニルオキシ)コレスト−5,7
−ジエン−25−オンを175mg得た。
実施例4
窒素雰囲気下、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体13
2 m gにテトラヒドロフラン10m1を加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
エチレンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテト
ラヒドロフラン溶液(0、65m o l / 1 )
12 、3 m lを10分間かけて滴下した。30
分後、得られた溶液に1α。
2 m gにテトラヒドロフラン10m1を加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
エチレンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテト
ラヒドロフラン溶液(0、65m o l / 1 )
12 、3 m lを10分間かけて滴下した。30
分後、得られた溶液に1α。
3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−
21−ヨウドー20−メチルプレグナ−5,7−ジエン
1.Ogをテトラヒドロフラン20 m lに溶かして
得られた溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続け
た1反応混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液
、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
たのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、27−ツルー1α、3
β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−2
5,25−エチレンジオキシ−26−メチルコレスト−
5,7−ジエンを504mg得た。
21−ヨウドー20−メチルプレグナ−5,7−ジエン
1.Ogをテトラヒドロフラン20 m lに溶かして
得られた溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を続け
た1反応混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液
、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
たのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、27−ツルー1α、3
β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−2
5,25−エチレンジオキシ−26−メチルコレスト−
5,7−ジエンを504mg得た。
実施例2におけると同様にして、27−ノル1α、3β
−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−25
,25−エチレンジオキシ26−メチルコレスト−5,
7−ジエン504mgより27−ツルー1α、3β−ジ
ヒドロキシ26−メチルコレスト−5,7−ジエン−2
5−オンを211mg得た。
−ビス(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−25
,25−エチレンジオキシ26−メチルコレスト−5,
7−ジエン504mgより27−ツルー1α、3β−ジ
ヒドロキシ26−メチルコレスト−5,7−ジエン−2
5−オンを211mg得た。
実施例5
窒素雰囲気下、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体0.
65gにテトラヒドロフラン50m1を加えて攪拌した
。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−エチ
レンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテトラヒ
ドロフラン溶液(0、65m o l / l ) 7
5 m lを10分間かけて滴下した。30分後、得ら
れた溶液に20−メチル−21−p−hルエンスルホニ
ルオキシブレグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオ
ール5、Ogをテトラヒドロフラン50 m lに溶か
して得られた溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を
続けた0反応混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水
溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、下記の物性を有す
る27ノルー1α、3β−ジヒドロキシ−25,25−
エチレンジオキシ−26−メチルコレスト−5゜7−ジ
エンを2.2g得た。
65gにテトラヒドロフラン50m1を加えて攪拌した
。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−エチ
レンジオキシペンチルマグネシウムプロミドのテトラヒ
ドロフラン溶液(0、65m o l / l ) 7
5 m lを10分間かけて滴下した。30分後、得ら
れた溶液に20−メチル−21−p−hルエンスルホニ
ルオキシブレグナ−5,7−ジエン−1α、3β−ジオ
ール5、Ogをテトラヒドロフラン50 m lに溶か
して得られた溶液を15分間かけて滴下し、−晩攪拌を
続けた0反応混合液を塩化アンモニウム水溶液にあけ、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素ナトリウム水
溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、下記の物性を有す
る27ノルー1α、3β−ジヒドロキシ−25,25−
エチレンジオキシ−26−メチルコレスト−5゜7−ジ
エンを2.2g得た。
’H−NMRスペクトル(90MH,)CD Cl 3
、 T M S 、 δ:0.61(s、3H)、
0.99(s、3H)。
、 T M S 、 δ:0.61(s、3H)、
0.99(s、3H)。
3.35〜4.20(6H)。
5、26〜5.51 (m、 01)。
5.56〜5.73(+a、 1t()27−ツルーl
α。3β−ジヒドロキシ−25゜25−エチレンジオキ
シ−26−メチルコレスト−5,7−ジエン2.2gを
アセトン20m1に溶かし、得られた溶液に3N塩酸1
0 m lを加えて2時間加熱還流させた。放冷後、反
応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽
出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、下記の物性を有する27−ツルーlα、3β
−ジヒドロキシー26メチルコレストー5,7−ジエン
−25−オンを1.02g得た。
α。3β−ジヒドロキシ−25゜25−エチレンジオキ
シ−26−メチルコレスト−5,7−ジエン2.2gを
アセトン20m1に溶かし、得られた溶液に3N塩酸1
0 m lを加えて2時間加熱還流させた。放冷後、反
応混合液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽
出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、下記の物性を有する27−ツルーlα、3β
−ジヒドロキシー26メチルコレストー5,7−ジエン
−25−オンを1.02g得た。
’H−NMRスペクトル(90MH,)CDCl s、
TMS、 δ: 0.60(s、3F()、 0.97(s、3H)。
TMS、 δ: 0.60(s、3F()、 0.97(s、3H)。
1.02〜1.21(s、 3H)。
3.68〜4.19(m、 2H)。
5.23〜5.45(m、 IH)。
5、53〜5.70(m、 l)l)
實施例6
窒素雰囲気下、臭化銅−ジメチルスルフィド複合体0.
14gにテトラヒドロフラン10 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチルマ
グネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0,6
0mo 1/l)17mlを5分間かけて滴下した。3
0分後、得られた溶液に1α、3β−ビス(トリメチル
シリルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン1.1gをテ
トラヒドロフラン10mlに溶かして得られた溶液を5
分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた6反応混合液を塩
化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。
14gにテトラヒドロフラン10 m lを加えて攪拌
した。得られた溶液を一10℃に保ち、これに3.3−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチルマ
グネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0,6
0mo 1/l)17mlを5分間かけて滴下した。3
0分後、得られた溶液に1α、3β−ビス(トリメチル
シリルオキシ)−20−メチル−21−p−トルエンス
ルホニルオキシプレグナ−5,7−ジエン1.1gをテ
トラヒドロフラン10mlに溶かして得られた溶液を5
分間かけて滴下し、−晩攪拌を続けた6反応混合液を塩
化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、下記の物性を有する27−ツルー1α、3
βビス(トリメチルシリルオキシ)−25,25(2,
2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−5,7
−ジエンを465 m g得た。
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、下記の物性を有する27−ツルー1α、3
βビス(トリメチルシリルオキシ)−25,25(2,
2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−5,7
−ジエンを465 m g得た。
’H−NMRスペクトル(90MHz)CDCI 8.
TMS、 δ: 0、04(s、 18B)。
TMS、 δ: 0、04(s、 18B)。
0、59(s、 3H)、 0.90〜1.02(9
)1)。
)1)。
1.30(s、6H)、 3.20〜3゜65(6H
)。
)。
5、25〜5.47(m、 Hl)。
5、51〜5.71(m、 11()
27−ツルー1α、3β−ビス(トリメチルシリルオキ
シ)−25,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジ
オキシ)コレスト−5,7−ジエン465mgをアセト
ン10 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸5m
lを加えて1時間加熱還流させた。放冷後、反応混合液
を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を炭
酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。
シ)−25,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジ
オキシ)コレスト−5,7−ジエン465mgをアセト
ン10 m lに溶かし、得られた溶液に3N硫酸5m
lを加えて1時間加熱還流させた。放冷後、反応混合液
を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を炭
酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、下記の物性を有する27−ツルー1α。
し、下記の物性を有する27−ツルー1α。
3β−ジヒドロキシコレスト−5,7−ノニン−25−
オンを190 m g得た。
オンを190 m g得た。
ΣH−NMRスペクトル(90MH,)CDC13,T
MS、 δ: 0.62(s、3f()、 0.98(6H)。
MS、 δ: 0.62(s、3f()、 0.98(6H)。
1.02〜1.25(3H)、 2.01(s、3B
)。
)。
3.70〜4.23(2H)。
5.22〜5.43(+a、 IH)。
5、54〜5.67(m、 IH)
実施例7
窒素雰囲気下、ヨウ化銅−トリブチルホスフィン複合体
142 m gにテトラヒドロフラン5mlを加えて攪
拌した。得られた溶液を一20℃に保ち、これに3.3
− (2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチル
マグネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0、
60m o 1 / l )8.0mlを5分間かけて
滴下した。30分後、得られた溶液に1α、3β−ジア
セトキシ−21−ヨウド−20−メチルプレグナ−5,
7−ジエン523 m gをテトラヒドロフラン10
m lに溶かして得られた溶液を5分間かけて滴下し、
7時間攪拌を続けた0反応混合液を塩化アンモニウム水
溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素
ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記
の物性を有する27ノルー1α、3β−ジアセトキシ−
25,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ
)コレスト−5,7−ジエンを188mg得た。
142 m gにテトラヒドロフラン5mlを加えて攪
拌した。得られた溶液を一20℃に保ち、これに3.3
− (2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)ブチル
マグネシウムプロミドのテトラヒドロフラン溶液(0、
60m o 1 / l )8.0mlを5分間かけて
滴下した。30分後、得られた溶液に1α、3β−ジア
セトキシ−21−ヨウド−20−メチルプレグナ−5,
7−ジエン523 m gをテトラヒドロフラン10
m lに溶かして得られた溶液を5分間かけて滴下し、
7時間攪拌を続けた0反応混合液を塩化アンモニウム水
溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を炭酸水素
ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記
の物性を有する27ノルー1α、3β−ジアセトキシ−
25,25−(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ
)コレスト−5,7−ジエンを188mg得た。
’H−NMRスペクトル(90M1(z)CDCl 3
.TMS、 δ: 0.60(s、3H)、 0.98〜1.25(9H
)。
.TMS、 δ: 0.60(s、3H)、 0.98〜1.25(9H
)。
1.32(s、61()、 2.04(s、6H)。
3.20〜3.55(4H)。
4、63〜5.05(m、 2H)。
5.21〜5.41(n+、1B)。
5、52〜5.75(m、 fil)
27−ツルー1α、3β−ジアセトキシ−25゜25−
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−
5,7−ジエンl 88 m gをアセトン5 m l
に溶かし、得られた溶液にp−トルエンスルホン酸20
mgを加えて1時間加熱還流させた。放冷後、反応混合
液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。
(2,2−ジメチルトリメチレンジオキシ)コレスト−
5,7−ジエンl 88 m gをアセトン5 m l
に溶かし、得られた溶液にp−トルエンスルホン酸20
mgを加えて1時間加熱還流させた。放冷後、反応混合
液を水に注ぎ、酢酸エチルを用いて抽出した。抽出液を
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、食塩水で順次洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、27−ツルー1α、3β−ジアセトキシコレスト−
5,7−ジエン−25−オンを85.3mg得た。
し、27−ツルー1α、3β−ジアセトキシコレスト−
5,7−ジエン−25−オンを85.3mg得た。
’H−NMRスペクトル(90MH,)CDC13,T
MS、 δ: 0.61(s、3H)、 0.98(3H)。
MS、 δ: 0.61(s、3H)、 0.98(3H)。
1.02〜1.26(3f()、 2.00(s、3
H)。
H)。
2、04(s、 3H)。
4.60〜5.11(2H)。
5、22〜5.48(brm、 IH)。
5、48〜5.75(brm、 1[()参考例9
27−ツルー1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオ
キシ)コレスト−5,7−ノニン−25オン4.5gを
窒素雰囲気下にジエチルエーテル146 m lに溶か
した。ドライアイス−アセトン浴中で冷却下、得られた
溶液にメチルリチウムのエーテル溶液(1、27m o
l / l ) 10.9mlを加えて1時間攪拌し
た。反応混合液に希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽
出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、1α、3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)−25−ヒドロキシコレスト−5,
7−ジエンを3.3g得た。
キシ)コレスト−5,7−ノニン−25オン4.5gを
窒素雰囲気下にジエチルエーテル146 m lに溶か
した。ドライアイス−アセトン浴中で冷却下、得られた
溶液にメチルリチウムのエーテル溶液(1、27m o
l / l ) 10.9mlを加えて1時間攪拌し
た。反応混合液に希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽
出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、1α、3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)−25−ヒドロキシコレスト−5,
7−ジエンを3.3g得た。
参考例10
1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)〜25
−ヒドロキシコレスト−5,7−ジエン2.07gをメ
タノール24 m lに溶解した。得られた溶液に炭酸
カリウム0.68gを加え、40℃で24時間攪拌した
。反応混合液に水を加え、酢酸エチル及びテトラヒドロ
フランで順次抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣
をジエチルエーテルで洗浄し、1α、3β、25トリヒ
ドロキシコレスト−5,7−ジエンを1.52g得た。
−ヒドロキシコレスト−5,7−ジエン2.07gをメ
タノール24 m lに溶解した。得られた溶液に炭酸
カリウム0.68gを加え、40℃で24時間攪拌した
。反応混合液に水を加え、酢酸エチル及びテトラヒドロ
フランで順次抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣
をジエチルエーテルで洗浄し、1α、3β、25トリヒ
ドロキシコレスト−5,7−ジエンを1.52g得た。
参考例11
1α、3β、25−トリヒドロキシコレスト5.7−ジ
エン500 m gをジエチルエーテル50m1及びヘ
キサン450 m lに溶解し、氷水冷し、得られた溶
液に窒素気流下、バイコールフィルターを用い、高圧水
銀灯で3分間光照射した。
エン500 m gをジエチルエーテル50m1及びヘ
キサン450 m lに溶解し、氷水冷し、得られた溶
液に窒素気流下、バイコールフィルターを用い、高圧水
銀灯で3分間光照射した。
反応混合液を2時間加熱還流させ、減圧下に濃縮した。
残液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー及び高速液
体クロマトグラフィーを用いて精製し、1α、25−ジ
ヒドロキシビタミンD3を25.5mg得た。
体クロマトグラフィーを用いて精製し、1α、25−ジ
ヒドロキシビタミンD3を25.5mg得た。
[発明の効果コ
本発明によればステロイド誘導体(I)を工業的に有利
に製造することができる。
に製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1^1及びR^2^1はそれぞれ水素原子
、アシル基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリ
ル基又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル基
を表し、R^3は低級アルキル基を表し、X^1及びX
^2はそれぞれ低級アルコキシル基を表すか、又は一緒
になつて低級アルキレンジオキシ基を表す。] で示されるステロイド誘導体を酸で処理することを特徴
とする一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1及びR^2はそれぞれ水素原子、アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し、
R^3は前記定義のとおりである。]で示されるステロ
イド誘導体の製造方法。 2、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、R^1^1及びR^2^1は請求項1記載の定
義のとおりであり、Yはハロゲン原子又は一般式 −OSO_2R^4で示される基を表し、ここでR^4
はアリール基を表す。] で示されるステロイド誘導体と一般式(IV)▲数式、化
学式、表等があります▼(IV) [式中、R^3、X^1及びX^2は請求項1記載の定
義のとおりであり、Zは金属を表す。] で示される有機金属化合物とを反応させることにより一
般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1^1、R^2^1、R^3、X^1及び
X^2は請求項1記載の定義のとおりである。] で示されるステロイド誘導体を得、該一般式(II)で示
されるステロイド誘導体を酸で処理することを特徴とす
る請求項1記載の一般式( I )で示されるステロイド
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11546790A JP2869139B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11546790A JP2869139B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413695A true JPH0413695A (ja) | 1992-01-17 |
| JP2869139B2 JP2869139B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=14663263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11546790A Expired - Fee Related JP2869139B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2869139B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1081157A4 (en) * | 1999-03-19 | 2005-08-17 | Kuraray Co | METHOD FOR PRODUCING STEROID DERIVATIVES, INTERMEDIATE PRODUCTS FOR THEIR PREPARATION AND METHOD FOR PRODUCING THE INTERMEDIATE PRODUCTS |
| CN115181150A (zh) * | 2021-04-01 | 2022-10-14 | 苏州恩泰新材料科技有限公司 | 一种由植物甾醇降解物合成熊去氧胆酸的方法 |
-
1990
- 1990-04-30 JP JP11546790A patent/JP2869139B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1081157A4 (en) * | 1999-03-19 | 2005-08-17 | Kuraray Co | METHOD FOR PRODUCING STEROID DERIVATIVES, INTERMEDIATE PRODUCTS FOR THEIR PREPARATION AND METHOD FOR PRODUCING THE INTERMEDIATE PRODUCTS |
| CN115181150A (zh) * | 2021-04-01 | 2022-10-14 | 苏州恩泰新材料科技有限公司 | 一种由植物甾醇降解物合成熊去氧胆酸的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2869139B2 (ja) | 1999-03-10 |
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