JPH09143154A - ビタミンd3 誘導体の製造方法 - Google Patents
ビタミンd3 誘導体の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C401/00—Irradiation products of cholesterol or its derivatives; Vitamin D derivatives, 9,10-seco cyclopenta[a]phenanthrene or analogues obtained by chemical preparation without irradiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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- A61P3/02—Nutrients, e.g. vitamins, minerals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】
【課題】収率よく簡便にして大量生産可能な23−ヒド
ロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造方法を
提供すること。 【解決手段】24−ヒドロキシビタミンD3 誘導体を酸
化し24位をオキソ化した後、エノール化剤とシリル化
剤でシリルエノールエーテル化し、次いで、過酸で酸化
を行い、さらに水酸基の脱保護基反応を行うことによ
る、23−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導
体の製造方法。
ロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造方法を
提供すること。 【解決手段】24−ヒドロキシビタミンD3 誘導体を酸
化し24位をオキソ化した後、エノール化剤とシリル化
剤でシリルエノールエーテル化し、次いで、過酸で酸化
を行い、さらに水酸基の脱保護基反応を行うことによ
る、23−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導
体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビタミンD3 誘導
体の製造方法に関するものであり、詳しくは、23−ヒ
ドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造方法
に関する。
体の製造方法に関するものであり、詳しくは、23−ヒ
ドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】23−ヒドロキシ−24−オキソビタミ
ンD3 誘導体は、ビタミンD3 の代謝研究における標準
試薬として重要な化合物であるが、大量入手が困難であ
るため薬理効果や毒性などの検討に支障を来たしてお
り、効率的な製造方法の開発が望まれている。
ンD3 誘導体は、ビタミンD3 の代謝研究における標準
試薬として重要な化合物であるが、大量入手が困難であ
るため薬理効果や毒性などの検討に支障を来たしてお
り、効率的な製造方法の開発が望まれている。
【0003】例えば、24R,25−ジヒドロキシコレ
カルシフェロールの代謝産物の一つである23,25−
ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールは、
25−ヒドロキシ−24−オキソ−7−デヒドロコレス
テロールから出発して、化学構造中のジエン構造を4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオン
で保護し、プロビタミンの側鎖を酸化し、ジエンの保護
基を脱離し、光反応により開環するという多段階の複雑
な化学合成法で得られることが知られている(Yama
da,S.他、Biochemistry、Vol.2
8、No.11、pp.4551−4556(198
9))。
カルシフェロールの代謝産物の一つである23,25−
ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールは、
25−ヒドロキシ−24−オキソ−7−デヒドロコレス
テロールから出発して、化学構造中のジエン構造を4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオン
で保護し、プロビタミンの側鎖を酸化し、ジエンの保護
基を脱離し、光反応により開環するという多段階の複雑
な化学合成法で得られることが知られている(Yama
da,S.他、Biochemistry、Vol.2
8、No.11、pp.4551−4556(198
9))。
【0004】他方、酵素系を利用することによる簡便な
製造方法が特開平6−205685号公報に記載されて
いる。即ち、ミトコンドリア型P450C24 産生大腸菌
株により生産した酵素と、当該酵素の活性発現に必要な
ウシ副腎ADX及びウシ副腎ADRの2酵素を使用して
電子伝達系を再構築し、この再構築系を使用して、2
4,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールを基質と
して、23,25−ジヒドロキシ−24−オキソコレカ
ルシフェロールに変換させる方法である。
製造方法が特開平6−205685号公報に記載されて
いる。即ち、ミトコンドリア型P450C24 産生大腸菌
株により生産した酵素と、当該酵素の活性発現に必要な
ウシ副腎ADX及びウシ副腎ADRの2酵素を使用して
電子伝達系を再構築し、この再構築系を使用して、2
4,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールを基質と
して、23,25−ジヒドロキシ−24−オキソコレカ
ルシフェロールに変換させる方法である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記化
学合成法は多段階の反応であるため、出発原料からの総
収率が約7%と低く、また、この出発原料自体は、更に
多段階の反応によりヒオデオキシコール酸から合成され
るから、全体の収率は極めて低くなる。他方、前記酵素
系を利用する製造方法は、変換率は31%と比較的良好
であるが、複雑な酵素再構築系を必要とし、更に、希薄
な基質濃度の溶液で行うため、大量合成には不適当であ
る等の問題点がある。
学合成法は多段階の反応であるため、出発原料からの総
収率が約7%と低く、また、この出発原料自体は、更に
多段階の反応によりヒオデオキシコール酸から合成され
るから、全体の収率は極めて低くなる。他方、前記酵素
系を利用する製造方法は、変換率は31%と比較的良好
であるが、複雑な酵素再構築系を必要とし、更に、希薄
な基質濃度の溶液で行うため、大量合成には不適当であ
る等の問題点がある。
【0006】本発明は、斯かる実情に鑑みなされたもの
であり、その目的は、大量に入手可能な24−ヒドロキ
シビタミンD3 誘導体を出発原料として、収率よく簡便
にして大量生産が可能な23−ヒドロキシ−24−オキ
ソビタミンD3 誘導体の製造方法を提供することにあ
る。
であり、その目的は、大量に入手可能な24−ヒドロキ
シビタミンD3 誘導体を出発原料として、収率よく簡便
にして大量生産が可能な23−ヒドロキシ−24−オキ
ソビタミンD3 誘導体の製造方法を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第1
の要旨は、下記一般式(V)で表される化合物を酸化す
ることを特徴とする、下記一般式(IV)で表されるビタ
ミンD3 誘導体の製造方法に存する。
の要旨は、下記一般式(V)で表される化合物を酸化す
ることを特徴とする、下記一般式(IV)で表されるビタ
ミンD3 誘導体の製造方法に存する。
【0008】
【化7】
【0009】
【化8】
【0010】上記各式中、R1 は、アルキル基、−OR
5 (但し、R5 は水素原子または水酸基保護基)、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アル
キル基、R2 及びR3 は、それぞれ独立に、アルキル
基、−OR6 (但し、R6 は水酸基保護基)、ハロゲン
原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たはR2 とR3 全体で形成される−O(CH2)n −、−
O(CH2)n O−若しくは−(CH2 )n+1−(但しn
は1以上の整数)、R4 は、水素原子、アルキル基、−
OR5 、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基またはアリール基、U、W、X、Y及び
Zは、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−
(CR7 R8 )−又は−(CR7 R8 −CR9 R10)−
(但し、R7、R8 、R9 及びR10は、それぞれ独立
に、水素原子、アルキル基、−OR5 、ハロゲン基、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基を表
す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸基を含
む場合には、該水酸基を保護したものである。又は、
U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−(S=
O)−が連続して存在することはないを表す。
5 (但し、R5 は水素原子または水酸基保護基)、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アル
キル基、R2 及びR3 は、それぞれ独立に、アルキル
基、−OR6 (但し、R6 は水酸基保護基)、ハロゲン
原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たはR2 とR3 全体で形成される−O(CH2)n −、−
O(CH2)n O−若しくは−(CH2 )n+1−(但しn
は1以上の整数)、R4 は、水素原子、アルキル基、−
OR5 、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲ
ン化アルキル基またはアリール基、U、W、X、Y及び
Zは、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−
(CR7 R8 )−又は−(CR7 R8 −CR9 R10)−
(但し、R7、R8 、R9 及びR10は、それぞれ独立
に、水素原子、アルキル基、−OR5 、ハロゲン基、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基を表
す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸基を含
む場合には、該水酸基を保護したものである。又は、
U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−(S=
O)−が連続して存在することはないを表す。
【0011】本発明の第2の要旨は、上記の一般式(I
V)で表される化合物をエノール化剤とシリル化剤とで
シリルエノールエーテル化した後、過酸で酸化し、次い
で、水酸基の脱保護基反応を行うことを特徴とする下記
一般式(I)で表されるビタミンD3 誘導体の製造方法
に存する。
V)で表される化合物をエノール化剤とシリル化剤とで
シリルエノールエーテル化した後、過酸で酸化し、次い
で、水酸基の脱保護基反応を行うことを特徴とする下記
一般式(I)で表されるビタミンD3 誘導体の製造方法
に存する。
【0012】
【化9】
【0013】上記式中、R1 、R2 、R3 、R4 、U、
W、X、Y及びZは、一般式(IV)におけると同義であ
る。但し、一般式(I)において、−OR5 は水酸基の
みを表す。又は、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸
基を含む場合には、該水酸基は保護されていない。
W、X、Y及びZは、一般式(IV)におけると同義であ
る。但し、一般式(I)において、−OR5 は水酸基の
みを表す。又は、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸
基を含む場合には、該水酸基は保護されていない。
【0014】本発明の第3の要旨は、上記の一般式
(V)で表される化合物を酸化して上記の一般式(IV)
で表される化合物を得、当該化合物をエノール化剤とシ
リル化剤とでシリルエノールエーテル化した後、過酸で
酸化し、次いで、水酸基の脱保護基反応を行うことを特
徴とする上記の一般式(I)で表されるビタミンD3 誘
導体の製造方法に存する。
(V)で表される化合物を酸化して上記の一般式(IV)
で表される化合物を得、当該化合物をエノール化剤とシ
リル化剤とでシリルエノールエーテル化した後、過酸で
酸化し、次いで、水酸基の脱保護基反応を行うことを特
徴とする上記の一般式(I)で表されるビタミンD3 誘
導体の製造方法に存する。
【0015】本発明の第4の要旨は、下記一般式(V
a)で表される化合物と、下記一般式(VII)で表される
化合物とを反応させることを特徴とする下記一般式(V
b)で表されるビタミンD3 誘導体の製造方法に存す
る。
a)で表される化合物と、下記一般式(VII)で表される
化合物とを反応させることを特徴とする下記一般式(V
b)で表されるビタミンD3 誘導体の製造方法に存す
る。
【0016】
【化10】
【0017】
【化11】
【0018】
【化12】
【0019】一般式(Va)及び(Vb)中、R1 、R
2 、R3 、R4 、U及びW、は、一般式(V)における
と同義であり、Xa 、Ya 、Za 、Xb 、Yb 及びZb
は、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−(C
R7 R8 )−又は−(CR7 R8 −CR9 R10)−(但
し、R7 、R8 、R9 及びR10はそれぞれ独立に水素原
子、アルキル基、−OR5 (但し、R5 は水素原子また
は水酸基保護基)、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル
基、又はハロゲン化アルキル基を表す)であり、Xa 、
Ya 及びZa の少なくとも1個は−CH(OH)−であ
り、Xb 、Yb及びZb の少なくとも1個は、−CH
(OSiR13R12R11)−であり( 但し、R11、R12及
びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基)、
一般式(VII)中、Jはハロゲン原子、−SiR13R12R
11は水酸基保護基を表す。さらに、U、W、Xa 、Ya
及びZa 、またはU、W、Xb 、Yb 及びZb におい
て、−O−又は−(S=O)−が連続して存在すること
はない。
2 、R3 、R4 、U及びW、は、一般式(V)における
と同義であり、Xa 、Ya 、Za 、Xb 、Yb 及びZb
は、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−(C
R7 R8 )−又は−(CR7 R8 −CR9 R10)−(但
し、R7 、R8 、R9 及びR10はそれぞれ独立に水素原
子、アルキル基、−OR5 (但し、R5 は水素原子また
は水酸基保護基)、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル
基、又はハロゲン化アルキル基を表す)であり、Xa 、
Ya 及びZa の少なくとも1個は−CH(OH)−であ
り、Xb 、Yb及びZb の少なくとも1個は、−CH
(OSiR13R12R11)−であり( 但し、R11、R12及
びR13はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基)、
一般式(VII)中、Jはハロゲン原子、−SiR13R12R
11は水酸基保護基を表す。さらに、U、W、Xa 、Ya
及びZa 、またはU、W、Xb 、Yb 及びZb におい
て、−O−又は−(S=O)−が連続して存在すること
はない。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、アルキル基は、直鎖状または分枝状ア
ルキル基を含み、通常炭素数1〜6のアルキル基、好ま
しく炭素数1〜4のアルキル基である。アルキル基の具
体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル
基、ネオペンチル基、t−ペンチル基、1−メチルブチ
ル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル
基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、i−ヘキ
シル基、2−エチルブチル基などが挙げられる。
本発明において、アルキル基は、直鎖状または分枝状ア
ルキル基を含み、通常炭素数1〜6のアルキル基、好ま
しく炭素数1〜4のアルキル基である。アルキル基の具
体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル
基、ネオペンチル基、t−ペンチル基、1−メチルブチ
ル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル
基、1−エチルプロピル基、n−ヘキシル基、i−ヘキ
シル基、2−エチルブチル基などが挙げられる。
【0021】本発明において水酸基保護基は、通常の保
護基、例えば、ベンジル基、アシル基、シリル基などで
あるが、炭素数1〜6のアルキル基を少なくとも1個含
むシリル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基をそ
れぞれ独立に3個含むシリル基がより好ましい。ハロゲ
ン原子は、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子お
よびヨウ素原子が挙げられる。
護基、例えば、ベンジル基、アシル基、シリル基などで
あるが、炭素数1〜6のアルキル基を少なくとも1個含
むシリル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基をそ
れぞれ独立に3個含むシリル基がより好ましい。ハロゲ
ン原子は、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子お
よびヨウ素原子が挙げられる。
【0022】本発明においてヒドロキシアルキル基は、
1個以上の水酸基を有するアルキル基である。炭素数1
〜6のアルキル基に1個以上の水酸基を有するヒドロキ
シアルキル基が好ましい。好ましいヒドロキシアルキル
基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロ
キシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキ
シプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロ
キシプロピル基などが挙げられる。
1個以上の水酸基を有するアルキル基である。炭素数1
〜6のアルキル基に1個以上の水酸基を有するヒドロキ
シアルキル基が好ましい。好ましいヒドロキシアルキル
基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロ
キシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキ
シプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロ
キシプロピル基などが挙げられる。
【0023】本発明においてハロゲン化アルキル基とし
ては、炭素数1〜6のアルキル基に1個以上のハロゲン
基を有する基が好ましい。好ましいハロゲン化アルキル
基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基な
どが挙げられる。
ては、炭素数1〜6のアルキル基に1個以上のハロゲン
基を有する基が好ましい。好ましいハロゲン化アルキル
基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基な
どが挙げられる。
【0024】本発明においてアリール基は、芳香族炭化
水素にアルキル基、ハロゲン基、水酸基などの置換基を
有する置換アリール基であってもよい。好ましいアリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基などが挙げるられる。
水素にアルキル基、ハロゲン基、水酸基などの置換基を
有する置換アリール基であってもよい。好ましいアリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基などが挙げるられる。
【0025】前記一般式(IV)、(V)、(Va)、
(Vb)で表される化合物および一般式(I)で表され
るビタミンD3 誘導体の側鎖中のUは、−(CR7 R
8 )−であることが好ましい。さらに、U及びWがそれ
ぞれ独立に−(CR7 R8 )−であることがより好まし
い。
(Vb)で表される化合物および一般式(I)で表され
るビタミンD3 誘導体の側鎖中のUは、−(CR7 R
8 )−であることが好ましい。さらに、U及びWがそれ
ぞれ独立に−(CR7 R8 )−であることがより好まし
い。
【0026】次に、本発明の製造方法について説明す
る。一般式(V)で表される化合物を酸化して、一般式
(IV)で表される化合物を得る工程においては、トリエ
ン構造が酸や熱に弱いことを考慮して、酸性になり難い
酸化剤が使用される。好ましい酸化剤は、三酸化硫黄−
ピリジン(SO3 ・Py)、二酸化マンガン、二塩化オ
キサリル−ジメチルスルホキシド((COCl)2 ・D
MSO;Swern酸化)などであり、SO3 ・Pyが
特に好ましい。SO3 ・Pyを酸化剤とする場合、トリ
エチルアミン等のアミン化合物の存在下に、DMSO等
の有機溶媒中で0〜25℃で反応させるのが好ましい。
る。一般式(V)で表される化合物を酸化して、一般式
(IV)で表される化合物を得る工程においては、トリエ
ン構造が酸や熱に弱いことを考慮して、酸性になり難い
酸化剤が使用される。好ましい酸化剤は、三酸化硫黄−
ピリジン(SO3 ・Py)、二酸化マンガン、二塩化オ
キサリル−ジメチルスルホキシド((COCl)2 ・D
MSO;Swern酸化)などであり、SO3 ・Pyが
特に好ましい。SO3 ・Pyを酸化剤とする場合、トリ
エチルアミン等のアミン化合物の存在下に、DMSO等
の有機溶媒中で0〜25℃で反応させるのが好ましい。
【0027】この酸化に使用する一般式(V)で表され
る化合物のX、Y及びZの少なくとも1個が−CH(O
H)−である場合、即ち、前記一般式(Va)で表され
る化合物である場合、この環上の水酸基を酸化剤に対し
て保護する必要がある。この場合、前記一般式(VII)で
表されるシリル化合物、とくに、塩化t−ブチルジメチ
ルシリル(TBDMSCl)を使用することにより、酸
化の標的である側鎖の水酸基をそのまま残して、選択的
に環上の水酸基のみを保護することが出来、一般式(V
b)で表される化合物を得ることが出来る。この反応
は、塩基存在下にジメチルホルムアミド等の有機溶媒中
で、0〜25℃で行うのが好ましい。塩基としてはイミ
ダゾール等のアミンが好ましく使用される。
る化合物のX、Y及びZの少なくとも1個が−CH(O
H)−である場合、即ち、前記一般式(Va)で表され
る化合物である場合、この環上の水酸基を酸化剤に対し
て保護する必要がある。この場合、前記一般式(VII)で
表されるシリル化合物、とくに、塩化t−ブチルジメチ
ルシリル(TBDMSCl)を使用することにより、酸
化の標的である側鎖の水酸基をそのまま残して、選択的
に環上の水酸基のみを保護することが出来、一般式(V
b)で表される化合物を得ることが出来る。この反応
は、塩基存在下にジメチルホルムアミド等の有機溶媒中
で、0〜25℃で行うのが好ましい。塩基としてはイミ
ダゾール等のアミンが好ましく使用される。
【0028】前記化合物(IV)をエノール化剤とシリル
化剤でシリルエノールエーテルとする工程において使用
されるエノール化剤としては、例えば、リチウムジイソ
プロピルアミド(LDA)、水素化ナトリウム、カリウ
ムヘキサメチルジシラジド等が挙げられる。前記一般式
(VII)で表されるシリル化剤としては、例えば、TBD
MSCl、塩化トリメチルシリル(TMSCl)等が挙
げられる。好ましく使用されるエノール化剤はLDAで
あり、好ましく使用されるシリル化剤はTBDMSCl
である。
化剤でシリルエノールエーテルとする工程において使用
されるエノール化剤としては、例えば、リチウムジイソ
プロピルアミド(LDA)、水素化ナトリウム、カリウ
ムヘキサメチルジシラジド等が挙げられる。前記一般式
(VII)で表されるシリル化剤としては、例えば、TBD
MSCl、塩化トリメチルシリル(TMSCl)等が挙
げられる。好ましく使用されるエノール化剤はLDAで
あり、好ましく使用されるシリル化剤はTBDMSCl
である。
【0029】上記反応は、テトラヒドロフラン、ヘキサ
メチルホスホルアミド、又はこれらの混合溶媒などの有
機溶媒中でエノール化剤とシリル化剤を加え、−50〜
25℃の温度範囲で行うのが好ましい。この反応におい
てはこの段階まで存在している水酸基もシリルエーテル
化される。
メチルホスホルアミド、又はこれらの混合溶媒などの有
機溶媒中でエノール化剤とシリル化剤を加え、−50〜
25℃の温度範囲で行うのが好ましい。この反応におい
てはこの段階まで存在している水酸基もシリルエーテル
化される。
【0030】シリルエノールエーテルの過酸による酸化
工程に使用する過酸としては、エノールの二重結合をエ
ポキシ化し得るものであればその種類は制限されず、例
えば、過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息
香酸(mCPBA)、過フタル酸などを挙げることが出
来る。過安息香酸およびmCPBAが好ましく、mCP
BAが特に好ましい。この反応において、シリルエノー
ルエーテルは中間に生成すると思われるエポキシドを経
て、シリル基の転位を伴い、α−シリルオキシケトンと
なる。
工程に使用する過酸としては、エノールの二重結合をエ
ポキシ化し得るものであればその種類は制限されず、例
えば、過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息
香酸(mCPBA)、過フタル酸などを挙げることが出
来る。過安息香酸およびmCPBAが好ましく、mCP
BAが特に好ましい。この反応において、シリルエノー
ルエーテルは中間に生成すると思われるエポキシドを経
て、シリル基の転位を伴い、α−シリルオキシケトンと
なる。
【0031】上記反応は塩化メチレン等の有機溶媒中
で、0〜25℃の温度範囲で行うのが好ましい。この反
応においては、過酸/シリルエノールエーテルは、モル
比0.8〜1.1の割合で使用するのが好ましい。過酸
の割合が過剰になるとエノール以外の二重結合、即ち、
トリエン系もエポキシ化を受け、目的の化合物の収率が
低下する。
で、0〜25℃の温度範囲で行うのが好ましい。この反
応においては、過酸/シリルエノールエーテルは、モル
比0.8〜1.1の割合で使用するのが好ましい。過酸
の割合が過剰になるとエノール以外の二重結合、即ち、
トリエン系もエポキシ化を受け、目的の化合物の収率が
低下する。
【0032】過酸で酸化した後に、シリルエーテルのシ
リル基、シリルエノールエーテル生成反応工程において
存在する水酸基に導入されたシリル基及び水酸基の保護
基を脱離して、一般式(I)で表されるビタミンD3 誘
導体を得ることが出来る。水酸基の保護基もシリル基で
ある場合が多い。この反応は、テトラヒドロフラン等の
有機溶媒中で、テトラブチルアンモニウムフルオリド
(TBAF)等の脱シリル化剤の存在下に、0〜25℃
の範囲で行うのが好ましい。
リル基、シリルエノールエーテル生成反応工程において
存在する水酸基に導入されたシリル基及び水酸基の保護
基を脱離して、一般式(I)で表されるビタミンD3 誘
導体を得ることが出来る。水酸基の保護基もシリル基で
ある場合が多い。この反応は、テトラヒドロフラン等の
有機溶媒中で、テトラブチルアンモニウムフルオリド
(TBAF)等の脱シリル化剤の存在下に、0〜25℃
の範囲で行うのが好ましい。
【0033】反応生成物の精製法としては、抽出、クロ
マトグラフィー、結晶化、再沈澱などを利用することが
出来る。また、23R−体と23S−体とは、液体クロ
マトグラフィー等により分離することが出来る。生成物
の構造は、赤外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクト
ル、核磁気共鳴吸収スペクトル、元素分析、質量スペク
トル等により確認することが出来る。
マトグラフィー、結晶化、再沈澱などを利用することが
出来る。また、23R−体と23S−体とは、液体クロ
マトグラフィー等により分離することが出来る。生成物
の構造は、赤外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクト
ル、核磁気共鳴吸収スペクトル、元素分析、質量スペク
トル等により確認することが出来る。
【0034】以上説明した本発明の製造方法によれば、
各種の23−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘
導体が得られるが、具体例として、24,25−ジヒド
ロキシコレカルシフェロール(Va-1)から23,25−
ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロール(I-
I)を得る合成経路を示す。
各種の23−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘
導体が得られるが、具体例として、24,25−ジヒド
ロキシコレカルシフェロール(Va-1)から23,25−
ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロール(I-
I)を得る合成経路を示す。
【0035】
【化13】
【0036】以下、上記の合成方法をステップに分けて
説明する。 ステップ(a):このステップは、24,25−ジヒド
ロキシコレカルシフェロール(Va−1)の3位の水酸
基に保護基を導入する工程である。25位の水酸基は3
級であり、3位と24位の水酸基は2級であるので、保
護基としてアセチル基を導入する通常の反応条件下では
3位と24位の両水酸基がアセチル化される。
説明する。 ステップ(a):このステップは、24,25−ジヒド
ロキシコレカルシフェロール(Va−1)の3位の水酸
基に保護基を導入する工程である。25位の水酸基は3
級であり、3位と24位の水酸基は2級であるので、保
護基としてアセチル基を導入する通常の反応条件下では
3位と24位の両水酸基がアセチル化される。
【0037】これに対して、保護基がTBDMS基の場
合、3位の水酸基がシリルエーテルの形で選択的に保護
され、次段階の酸化の標的水酸基である24位の水酸基
はそのまま残る。後述の実施例1に記載する様に、3−
TBDMS−24,25−ジヒドロキシコレカルシフェ
ロール(Vb-1)が得られる。
合、3位の水酸基がシリルエーテルの形で選択的に保護
され、次段階の酸化の標的水酸基である24位の水酸基
はそのまま残る。後述の実施例1に記載する様に、3−
TBDMS−24,25−ジヒドロキシコレカルシフェ
ロール(Vb-1)が得られる。
【0038】ここで、出発原料として使用する24,2
5−ジヒドロキシコレカルシフェロールは、例えば、フ
ァルマシア、Vol.10、No.5、pp.319−
320(1974)に記載されている公知化合物であ
り、24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール
と24S,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールの
異性体が存在する。本発明では、24R−体、24S−
体、これらの種々の割合の混合物、又はラセミ体を使用
することが出来る。
5−ジヒドロキシコレカルシフェロールは、例えば、フ
ァルマシア、Vol.10、No.5、pp.319−
320(1974)に記載されている公知化合物であ
り、24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール
と24S,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールの
異性体が存在する。本発明では、24R−体、24S−
体、これらの種々の割合の混合物、又はラセミ体を使用
することが出来る。
【0039】ステップ(b):このステップは、24位
の水酸基を酸化して24−オキソとする工程である。後
述の実施例2に記載する様に、反応性の高いトリエン構
造を保護することなくSO3 ・Pyを酸化剤として、収
率よく3−TBDMS−24−オキソ−25−ヒドロキ
シコレカルシフェロール(IV-1)が得られる。斯かる事
実は、本発明者等によって見出されたものである。
の水酸基を酸化して24−オキソとする工程である。後
述の実施例2に記載する様に、反応性の高いトリエン構
造を保護することなくSO3 ・Pyを酸化剤として、収
率よく3−TBDMS−24−オキソ−25−ヒドロキ
シコレカルシフェロール(IV-1)が得られる。斯かる事
実は、本発明者等によって見出されたものである。
【0040】ステップ(c):このステップは、エノー
ル化剤とシリル化剤を使用して、化合物(IV-1)からシ
リルエノールエーテル(III-1)を得る工程である。この
反応では、24−オキソがエノール化とシリル化を受け
ると同時に25位の水酸基もシリル化されてシリルエー
テルとなる(実施例3参照)。
ル化剤とシリル化剤を使用して、化合物(IV-1)からシ
リルエノールエーテル(III-1)を得る工程である。この
反応では、24−オキソがエノール化とシリル化を受け
ると同時に25位の水酸基もシリル化されてシリルエー
テルとなる(実施例3参照)。
【0041】ステップ(d):このステップは、シリル
エノールエーテル(III-1)を過酸で酸化して23,25
−ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールの
トリス(t−ブチルジメチルシリル)エーテル(II-1)
とする工程である。この工程では、通常23R−体と2
3S−体の混合物が得られる(実施例4参照)。
エノールエーテル(III-1)を過酸で酸化して23,25
−ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールの
トリス(t−ブチルジメチルシリル)エーテル(II-1)
とする工程である。この工程では、通常23R−体と2
3S−体の混合物が得られる(実施例4参照)。
【0042】ステップ(e):このステップは、トリス
(t−ブチルジメチルシリル)エーテル(II-1)からシ
リル基を脱離して目的の23,25−ジヒドロキシ−2
4−オキソコレカルシフェロール(I-1)とする工程であ
る(実施例4参照)。
(t−ブチルジメチルシリル)エーテル(II-1)からシ
リル基を脱離して目的の23,25−ジヒドロキシ−2
4−オキソコレカルシフェロール(I-1)とする工程であ
る(実施例4参照)。
【0043】前記のステップ(b)で得られる化合物
(IV-1)の3位のTBDMS基を脱離することにより、
23−オキソ−24−ヒドロキシコレカルシフェロール
を得ることが出来る。この反応は、前記ステップ(e)
と同様にして行う。
(IV-1)の3位のTBDMS基を脱離することにより、
23−オキソ−24−ヒドロキシコレカルシフェロール
を得ることが出来る。この反応は、前記ステップ(e)
と同様にして行う。
【0044】以上の各工程において、酸や熱に弱く各種
試薬に対して反応性の高いトリエン構造を保護すること
なく反応を行うことにより、高収率を達成し得た効果
は、従来の常識を超えた驚くべきことであり、本発明の
製造方法によって初めて得られたものである。
試薬に対して反応性の高いトリエン構造を保護すること
なく反応を行うことにより、高収率を達成し得た効果
は、従来の常識を超えた驚くべきことであり、本発明の
製造方法によって初めて得られたものである。
【0045】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
【0046】実施例1 <(24R)−3−O−t−ブチルジメチルシリル−2
4,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールの合成>
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール(5
00mg)をジメチルホルムアミド(DMF)(5m
l)に溶解し、この溶液にイミダゾール(246mg)
と塩化t−ブチルジメチルシリル(TBDMSCl)
(273mg)を加えて室温で3時間攪拌した。反応終
了後、得られた反応溶液に水を添加してクロロホルム
(30ml)で3回抽出した。
4,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールの合成>
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール(5
00mg)をジメチルホルムアミド(DMF)(5m
l)に溶解し、この溶液にイミダゾール(246mg)
と塩化t−ブチルジメチルシリル(TBDMSCl)
(273mg)を加えて室温で3時間攪拌した。反応終
了後、得られた反応溶液に水を添加してクロロホルム
(30ml)で3回抽出した。
【0047】回収した有機層を減圧濃縮して残渣を得
た。この残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル20g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸エチル
(4:1v/v))で精製し、標記の化合物(637m
g;収率100%)を無色シロップとして得た。質量ス
ペクトルの親ピーク質量は530であり、NMRの測定
データは次の通りである。
た。この残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル20g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸エチル
(4:1v/v))で精製し、標記の化合物(637m
g;収率100%)を無色シロップとして得た。質量ス
ペクトルの親ピーク質量は530であり、NMRの測定
データは次の通りである。
【0048】1H−NMR(500MHz,CDCl
3 )δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.5Hz)、5.01 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、3.33(1H,m,H−2
4)、1.21 and 1.16(6H,2s,H−
26and 27)、0.94(3H,d,H−21,
J=6.0Hz)、0.89(9H,s,tBuS
i)、0.56(3H,s,H−18)、0.07 a
nd 0.06(6H,2s,MeSi).
3 )δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.5Hz)、5.01 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、3.33(1H,m,H−2
4)、1.21 and 1.16(6H,2s,H−
26and 27)、0.94(3H,d,H−21,
J=6.0Hz)、0.89(9H,s,tBuS
i)、0.56(3H,s,H−18)、0.07 a
nd 0.06(6H,2s,MeSi).
【0049】実施例2 <3−O−t−ブチルジメチルシリル−24−オキソ−
25−ヒドロキシコレカルシフェロールの合成>実施例
1で得た(24R)−3−O−t−ブチルジメチルシリ
ル−24,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール
(637mg)をジメチルスルホキシド(DMSO)
(12.7ml)に溶解し、この溶液にトリエチルアミ
ン(1.2ml)と三酸化硫黄−ピリジン(SO3 ・P
y)(955mg)を加えて25℃で30分間攪拌し
た。
25−ヒドロキシコレカルシフェロールの合成>実施例
1で得た(24R)−3−O−t−ブチルジメチルシリ
ル−24,25−ジヒドロキシコレカルシフェロール
(637mg)をジメチルスルホキシド(DMSO)
(12.7ml)に溶解し、この溶液にトリエチルアミ
ン(1.2ml)と三酸化硫黄−ピリジン(SO3 ・P
y)(955mg)を加えて25℃で30分間攪拌し
た。
【0050】反応終了後、得られた反応溶液に氷冷下水
を加えてクロロホルム(40ml)で3回抽出した。回
収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣はシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲル40
g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1v/
v))で精製して、標記の化合物(514mg;収率8
1%)を無色シロップとして得た。質量スペクトル親ピ
ークの質量は528であり、NMRの測定データは次の
通りである。
を加えてクロロホルム(40ml)で3回抽出した。回
収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣はシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲル40
g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1v/
v))で精製して、標記の化合物(514mg;収率8
1%)を無色シロップとして得た。質量スペクトル親ピ
ークの質量は528であり、NMRの測定データは次の
通りである。
【0051】1H−NMR(500MHz,CDCl
3 )δ:6.16 and 6.02(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.01 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、1.39(6H,s,H−26
and 27)、0.94(3H,d,H−21,J
=6.5Hz)、0.89(9H,s,tBuSi)、
0.55(3H,s,H−18)、0.07 and
0.06(6H,2s,MeSi).
3 )δ:6.16 and 6.02(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.01 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、1.39(6H,s,H−26
and 27)、0.94(3H,d,H−21,J
=6.5Hz)、0.89(9H,s,tBuSi)、
0.55(3H,s,H−18)、0.07 and
0.06(6H,2s,MeSi).
【0052】実施例3 <23,24−デヒドロ−3−O−t−ブチルジメチル
シリル−24,25−ビス(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)コレカルシフェロールの合成>実施例2で得た
3−O−t−ブチルジメチルシリル−24−オキソ−2
5−ヒドロキシコレカルシフェロール(467mg)を
テトラヒドロフラン(THF)(1.5ml)とヘキサ
メチルホスホルアミド(HMPA)(1.5ml)に溶
解し、この溶液に−40℃でリチウムジイソプロピルア
ミド(LDA)(1.5Mシクロヘキサン溶液、2.9
ml)を加えて15分間攪拌した。次いで、この溶液に
TBDMSCl(1.33g)のTHF(0.93m
l)溶液を加えて−40℃で1時間攪拌した。
シリル−24,25−ビス(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)コレカルシフェロールの合成>実施例2で得た
3−O−t−ブチルジメチルシリル−24−オキソ−2
5−ヒドロキシコレカルシフェロール(467mg)を
テトラヒドロフラン(THF)(1.5ml)とヘキサ
メチルホスホルアミド(HMPA)(1.5ml)に溶
解し、この溶液に−40℃でリチウムジイソプロピルア
ミド(LDA)(1.5Mシクロヘキサン溶液、2.9
ml)を加えて15分間攪拌した。次いで、この溶液に
TBDMSCl(1.33g)のTHF(0.93m
l)溶液を加えて−40℃で1時間攪拌した。
【0053】反応終了後、この反応溶液に水を加えてク
ロロホルム(10ml)で3回抽出した。回収した有機
層を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル40g、溶媒;n
−ヘキサン−酢酸エチル(20:1v/v))で精製し
て、標記の化合物(668mg;収率100%)を無色
シロップとして得た。質量スペクトルの親ピーク質量は
756であり、NMRの測定データは次の通りである。
ロロホルム(10ml)で3回抽出した。回収した有機
層を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル40g、溶媒;n
−ヘキサン−酢酸エチル(20:1v/v))で精製し
て、標記の化合物(668mg;収率100%)を無色
シロップとして得た。質量スペクトルの親ピーク質量は
756であり、NMRの測定データは次の通りである。
【0054】1H−NMR(500MHz,CDCl
3 )δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.00 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、4.98
(1H,t,H−23,J=6.5Hz)、3.82
(1H,m,H−3)、1.33(6H,s,H−2
6,27)、0.96,0.91 and 0.89
(27H,3s,tBuSi)、0.55(3H,s,
H−18)、0.17,0.16,0.07 and
0.06(12H,4s,MeSi)、0.10(6
H,s,MeSi).
3 )δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.00 a
nd 4.78(2H,2s,H−19)、4.98
(1H,t,H−23,J=6.5Hz)、3.82
(1H,m,H−3)、1.33(6H,s,H−2
6,27)、0.96,0.91 and 0.89
(27H,3s,tBuSi)、0.55(3H,s,
H−18)、0.17,0.16,0.07 and
0.06(12H,4s,MeSi)、0.10(6
H,s,MeSi).
【0055】実施例4 <23,25−ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシ
フェロールの合成>実施例3で得た23,24−デヒド
ロ−3−O−t−ブチルジメチルシリル−24,25−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレカルシフ
ェロール(177mg)を塩化メチレン(3.5ml)
に溶解し、この溶液に0℃においてm−クロロ過安息香
酸(mCPBA)(45mg)を加えて1時間攪拌し
た。反応終了後、反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水
溶液−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(7:1v/v)
を加えて塩化メチレン(5ml)で3回抽出した。
フェロールの合成>実施例3で得た23,24−デヒド
ロ−3−O−t−ブチルジメチルシリル−24,25−
ビス(t−ブチルジメチルシリルオキシ)コレカルシフ
ェロール(177mg)を塩化メチレン(3.5ml)
に溶解し、この溶液に0℃においてm−クロロ過安息香
酸(mCPBA)(45mg)を加えて1時間攪拌し
た。反応終了後、反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水
溶液−飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(7:1v/v)
を加えて塩化メチレン(5ml)で3回抽出した。
【0056】回収した有機層を減圧濃縮して23,25
−ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールの
トリス(t−ブチルジメチルシリル)エーテルを含有す
る残渣を得た。この残渣をTHF(3.7ml)に溶解
した後、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBA
F)(1.0M THF溶液、2.1ml)を加えて室
温において12時間攪拌した。反応終了後、反応溶液に
水を加えて酢酸エチル(10ml)で3回抽出した。回
収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。
−ジヒドロキシ−24−オキソコレカルシフェロールの
トリス(t−ブチルジメチルシリル)エーテルを含有す
る残渣を得た。この残渣をTHF(3.7ml)に溶解
した後、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBA
F)(1.0M THF溶液、2.1ml)を加えて室
温において12時間攪拌した。反応終了後、反応溶液に
水を加えて酢酸エチル(10ml)で3回抽出した。回
収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。
【0057】この残渣はシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル20g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸
エチル(3:2v/v))で精製して、標記の化合物
(62mg;収率62%)(23R−体化合物:23S
−体化合物=2:1の混合物)を白色固体として得た。
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールから
の総収率は50%であった。質量スペクトルの親ピーク
質量は430であり、NMRの測定データは次の通りで
ある。
フィー(シリカゲル20g、溶媒;n−ヘキサン−酢酸
エチル(3:2v/v))で精製して、標記の化合物
(62mg;収率62%)(23R−体化合物:23S
−体化合物=2:1の混合物)を白色固体として得た。
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールから
の総収率は50%であった。質量スペクトルの親ピーク
質量は430であり、NMRの測定データは次の通りで
ある。
【0058】1H−NMR(500MHz,CDCl
3 )δ:6.23 and 6.03(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.05 a
nd 4.82(2H,2s,H−19)、4.70
(1H,m,H−23(23R))、4.64(1H,
m,H−23(23S))、3.95(1H,m,H−
3)、1.44 and 1.42(6H,s,H−2
6 and 27)、1.09(3H,d,H−21
(23S),J=6.5Hz)、1.06(3H,d,
H−21(23R),J=6.5Hz)、0.59(3
H,s,H−18(23R))、0.56(3H,s,
H−18(23S)).
3 )δ:6.23 and 6.03(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.05 a
nd 4.82(2H,2s,H−19)、4.70
(1H,m,H−23(23R))、4.64(1H,
m,H−23(23S))、3.95(1H,m,H−
3)、1.44 and 1.42(6H,s,H−2
6 and 27)、1.09(3H,d,H−21
(23S),J=6.5Hz)、1.06(3H,d,
H−21(23R),J=6.5Hz)、0.59(3
H,s,H−18(23R))、0.56(3H,s,
H−18(23S)).
【0059】実施例5 <24−オキソ−25−ヒドロキシコレカルシフェロー
ルの合成>実施例2で得た3−O−t−ブチルジメチル
シリル−24−オキソ−25−ヒドロキシコレカルシフ
ェロール(32.0mg)をTHF(0.64ml)に
溶解し、この溶液にテトラブチルアンモニウムフルオリ
ド(TBAF)(1.0MTHF溶液、0.18ml)
を加えて室温において12時間攪拌した。反応終了後、
反応溶液に水を加えて酢酸エチル(3ml)で3回抽出
した。回収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。
ルの合成>実施例2で得た3−O−t−ブチルジメチル
シリル−24−オキソ−25−ヒドロキシコレカルシフ
ェロール(32.0mg)をTHF(0.64ml)に
溶解し、この溶液にテトラブチルアンモニウムフルオリ
ド(TBAF)(1.0MTHF溶液、0.18ml)
を加えて室温において12時間攪拌した。反応終了後、
反応溶液に水を加えて酢酸エチル(3ml)で3回抽出
した。回収した有機層を減圧濃縮して残渣を得た。
【0060】この残渣はシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル1.5g、溶媒;n−ヘキサン−酢
酸エチル(2:1v/v))で精製して、標記の化合物
(23.1mg;収率92%)を白色固体として得た。
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールから
の総収率は74.5%であった。質量スペクトルの親ピ
ーク質量は414であり、NMRの測定データは次の通
りである。
フィー(シリカゲル1.5g、溶媒;n−ヘキサン−酢
酸エチル(2:1v/v))で精製して、標記の化合物
(23.1mg;収率92%)を白色固体として得た。
24R,25−ジヒドロキシコレカルシフェロールから
の総収率は74.5%であった。質量スペクトルの親ピ
ーク質量は414であり、NMRの測定データは次の通
りである。
【0061】1H−NMR(500MHz,CDCl
3 )δ:6.23 and 6.04(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.05 a
nd 4.82(2H,2s,H−19)、3.95
(1H,m,H−3)、1.39and 1.38(6
H,s,H−26 and 27)、0.94(3H,
d,H−21,J=6.5Hz)、0.55(3H,
s,H−18).
3 )δ:6.23 and 6.04(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.05 a
nd 4.82(2H,2s,H−19)、3.95
(1H,m,H−3)、1.39and 1.38(6
H,s,H−26 and 27)、0.94(3H,
d,H−21,J=6.5Hz)、0.55(3H,
s,H−18).
【0062】
【発明の効果】以上、説明した本発明によれば、大量に
入手可能な24−ヒドロキシビタミンD3 誘導体を出発
原料として、収率よく簡便にして大量生産が可能な23
−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造
方法を提供することが出来る。
入手可能な24−ヒドロキシビタミンD3 誘導体を出発
原料として、収率よく簡便にして大量生産が可能な23
−ヒドロキシ−24−オキソビタミンD3 誘導体の製造
方法を提供することが出来る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年6月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】
【化2】 上記各式中、R1は、アルキル基、−OR5(但し、R
5は水素原子または水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基、R2
及びR3は、それぞれ独立に、アルキル基、−OR
6(但し、R6は水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒド
ロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはR2と
R3全体で形成される−O(CH2)n−、−O(CH
2)nO−若しくは−(CH2)n+1−(但しnは1
以上の整数)、R4は、水素原子、アルキル基、−OR
5、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化
アルキル基またはアリール基、U、W、X、Y及びZ
は、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−(C
R7R8)−又は−(CR7R8−CR9R10)−
(但し、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立
に、水素原子、アルキル基、−OR5、ハロゲン基、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基を表
す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸基を含
む場合には、該水酸基を保護したものである。又は、
U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−(S=
O)−が連続して存在することはない)を表す。
5は水素原子または水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基、R2
及びR3は、それぞれ独立に、アルキル基、−OR
6(但し、R6は水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒド
ロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはR2と
R3全体で形成される−O(CH2)n−、−O(CH
2)nO−若しくは−(CH2)n+1−(但しnは1
以上の整数)、R4は、水素原子、アルキル基、−OR
5、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化
アルキル基またはアリール基、U、W、X、Y及びZ
は、それぞれ独立に、−(S=O)−、−O−、−(C
R7R8)−又は−(CR7R8−CR9R10)−
(但し、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立
に、水素原子、アルキル基、−OR5、ハロゲン基、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基を表
す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸基を含
む場合には、該水酸基を保護したものである。又は、
U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−(S=
O)−が連続して存在することはない)を表す。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】変更
【補正内容】
【化4】
【化5】
【化6】 一般式(Va)及び(Vb)中、R1、R2、R3、R
4、U及びWは、一般式(V)におけると同義であり、
Xa、Ya、Za、Xb、Yb及びXbは、それぞれ独
立に、−(S=O)−、−O−、−(CR7R8)−又
は−(CR7R8−CR9R10)−(但し、R7、R
8、R9及びR10はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、−OR5(但し、R5は水素原子または水酸基保
護基)、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル基、又はハロ
ゲン化アルキル基を表す)であり、Xa、Ya及びZa
の少なくとも1個は−CH(OH)−であり、Xb、Y
b及びZbの少なくとも1個は、−CH(OSiR13
R12R11)−であり(但し、R11、R12及びR
13はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基)、一
般式(VII)中、Jはハロゲン原子、−SiR13R
12R11は水酸基保護基を表す。さらに、U、W、X
a、Ya及びZa、またはU、W、Xb、Yb及びZb
において、−O−又は−(S=O)−が連続して存在す
ることはない。
4、U及びWは、一般式(V)におけると同義であり、
Xa、Ya、Za、Xb、Yb及びXbは、それぞれ独
立に、−(S=O)−、−O−、−(CR7R8)−又
は−(CR7R8−CR9R10)−(但し、R7、R
8、R9及びR10はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、−OR5(但し、R5は水素原子または水酸基保
護基)、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル基、又はハロ
ゲン化アルキル基を表す)であり、Xa、Ya及びZa
の少なくとも1個は−CH(OH)−であり、Xb、Y
b及びZbの少なくとも1個は、−CH(OSiR13
R12R11)−であり(但し、R11、R12及びR
13はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基)、一
般式(VII)中、Jはハロゲン原子、−SiR13R
12R11は水酸基保護基を表す。さらに、U、W、X
a、Ya及びZa、またはU、W、Xb、Yb及びZb
において、−O−又は−(S=O)−が連続して存在す
ることはない。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】上記各式中、R1は、アルキル基、−OR
5(但し、R5は水素原子または水酸基保護基)、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アル
キル基、R2及びR3は、それぞれ独立に、アルキル
基、−OR6(但し、R6は水酸基保護基)、ハロゲン
原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たはR2とR3全体で形成される−O(CH2)n−、
−O(CH2)nO−若しくは−(CH2)n+1−
(但しnは1以上の整数)、R4は、水素原子、アルキ
ル基、−OR5、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル
基、ハロゲン化アルキル基またはアリール基、U、W、
X、Y及びZは、それぞれ独立に、−(S=O)−、−
O−、−(CR7R8)−又は−(CR7R8−CR9
R10)−(但し、R7、R8、R9及びR10は、そ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、−OR5、ハロ
ゲン基、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキ
ル基を表す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水
酸基を含む場合には、該水酸基を保護したものである。
又は、U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−
(S=O)−が連続して存在することはない)を表す。
5(但し、R5は水素原子または水酸基保護基)、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アル
キル基、R2及びR3は、それぞれ独立に、アルキル
基、−OR6(但し、R6は水酸基保護基)、ハロゲン
原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たはR2とR3全体で形成される−O(CH2)n−、
−O(CH2)nO−若しくは−(CH2)n+1−
(但しnは1以上の整数)、R4は、水素原子、アルキ
ル基、−OR5、ハロゲン原子、ヒドロキシアルキル
基、ハロゲン化アルキル基またはアリール基、U、W、
X、Y及びZは、それぞれ独立に、−(S=O)−、−
O−、−(CR7R8)−又は−(CR7R8−CR9
R10)−(但し、R7、R8、R9及びR10は、そ
れぞれ独立に、水素原子、アルキル基、−OR5、ハロ
ゲン基、ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキ
ル基を表す。但し、U、W、X、Y及びZの何れかに水
酸基を含む場合には、該水酸基を保護したものである。
又は、U、W、X、Y及びZにおいて、−O−又は−
(S=O)−が連続して存在することはない)を表す。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】
【化12】
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】1H−NMR(500MHz,CDC
13)δ:6.16 and 6.01(2H,2d,
H−6 and 7,J=11.5Hz)、5.01
and4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、3.33(1H,m,H−2
4)、1.21 and 1.16(6H,2s,H−
26and 27)、0.94(3H,d,H−21,
J=6.0Hz)、0.89(9H,S,tBuS
i)、0.56(3H,s,H−18)、0.07an
d0.06(6H,2s,MeSi).
13)δ:6.16 and 6.01(2H,2d,
H−6 and 7,J=11.5Hz)、5.01
and4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、3.33(1H,m,H−2
4)、1.21 and 1.16(6H,2s,H−
26and 27)、0.94(3H,d,H−21,
J=6.0Hz)、0.89(9H,S,tBuS
i)、0.56(3H,s,H−18)、0.07an
d0.06(6H,2s,MeSi).
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0051
【補正方法】変更
【補正内容】
【0051】1H−NMR(500MHz,CDC
13)δ:6.16 and 6.02(2H,2d,
H−6 and 7,J=11.0Hz)、5.01
and4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、1.39(6H,s,H−26
and 27)、0.94(3H,d,H−21,J
=6.5Hz)、0.89(9H,s,tBuSi)、
0.55(3H,s,H−18)、0.07 and
0.06(6H,2s,MeSi).
13)δ:6.16 and 6.02(2H,2d,
H−6 and 7,J=11.0Hz)、5.01
and4.78(2H,2s,H−19)、3.82
(1H,m,H−3)、1.39(6H,s,H−26
and 27)、0.94(3H,d,H−21,J
=6.5Hz)、0.89(9H,s,tBuSi)、
0.55(3H,s,H−18)、0.07 and
0.06(6H,2s,MeSi).
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0054
【補正方法】変更
【補正内容】
【0054】1H−NMR(500MHz,CDC13
)δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.00 a
nd4.78(2H,2s,H−19)、4.98(1
H,t,H−23,J=6.5Hz)、3.82(1
H,m,H−3)、1.33(6H,s,H−26,2
7)、0.96,0.91 and 0.89(27
H,3s,tBuSi)、0.55(3H,s,H−1
8)、0.17,0.16,0.07 and 0.0
6(12H,4s,MeSi)、0.10(6H,s,
MeSi).
)δ:6.16 and 6.01(2H,2d,H
−6 and 7,J=11.0Hz)、5.00 a
nd4.78(2H,2s,H−19)、4.98(1
H,t,H−23,J=6.5Hz)、3.82(1
H,m,H−3)、1.33(6H,s,H−26,2
7)、0.96,0.91 and 0.89(27
H,3s,tBuSi)、0.55(3H,s,H−1
8)、0.17,0.16,0.07 and 0.0
6(12H,4s,MeSi)、0.10(6H,s,
MeSi).
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(V)で表される化合物を酸
化することを特徴とする、下記一般式(IV)で表される
ビタミンD3 誘導体の製造方法。 【化1】 【化2】 上記各式中、R1 は、アルキル基、−OR5 (但し、R
5 は水素原子または水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基、R2
及びR3 は、それぞれ独立に、アルキル基、−OR6
(但し、R6 は水酸基保護基)、ハロゲン原子、ヒドロ
キシアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはR2 とR
3 全体で形成される−O(CH2)n −、−O(CH2)n
O−若しくは−(CH2 )n+1−(但しnは1以上の整
数)、R4 は、水素原子、アルキル基、−OR5 、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル
基またはアリール基、U、W、X、Y及びZは、それぞ
れ独立に、−(S=O)−、−O−、−(CR7 R8 )
−又は−(CR7 R8 −CR9 R10)−(但し、R7、
R8 、R9 及びR10は、それぞれ独立に、水素原子、ア
ルキル基、−OR5 、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル
基またはハロゲン化アルキル基を表す。但し、U、W、
X、Y及びZの何れかに水酸基を含む場合には、該水酸
基を保護したものである。又は、U、W、X、Y及びZ
において、−O−又は−(S=O)−が連続して存在す
ることはないを表す。 - 【請求項2】 請求項1に記載の一般式(IV)で表され
る化合物をエノール化剤とシリル化剤とでシリルエノー
ルエーテル化した後、過酸で酸化し、次いで、水酸基の
脱保護基反応を行うことを特徴とする下記一般式(I)
で表されるビタミンD3 誘導体の製造方法。 【化3】 上記式中、R1 、R2 、R3 、R4 、U、W、X、Y及
びZは、一般式(IV)におけると同義である。但し、一
般式(I)において、−OR5 は水酸基のみを表す。ま
た、U、W、X、Y及びZの何れかに水酸基を含む場合
には、該水酸基は保護されていない。 - 【請求項3】 請求項1に記載の一般式(V)で表され
る化合物を酸化して請求項1に記載の一般式(IV)で表
される化合物を得、当該化合物をエノール化剤とシリル
化剤とでシリルエノールエーテル化した後、過酸で酸化
し、次いで、水酸基の脱保護基反応を行うことを特徴と
する請求項2に記載の一般式(I)で表されるビタミン
D3 誘導体の製造方法。 - 【請求項4】 下記一般式(Va)で表される化合物
と、下記一般式(VII)で表される化合物とを反応させる
ことを特徴とする下記一般式(Vb)で表されるビタミ
ンD3 誘導体の製造方法。 【化4】 【化5】 【化6】 一般式(Va)及び(Vb)中、R1 、R2 、R3 、R
4 、U及びWは、一般式(V)におけると同義であり、
Xa 、Ya 、Za 、Xb 、Yb 及びZb は、それぞれ独
立に、−(S=O)−、−O−、−(CR7 R8 )−又
は−(CR7 R8 −CR9 R10)−(但し、R7 、R
8 、R9 及びR10はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、−OR5 (但し、R5 は水素原子または水酸基保護
基)、ハロゲン基、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲ
ン化アルキル基を表す)であり、Xa 、Ya 及びZa の
少なくとも1個は−CH(OH)−であり、Xb 、Yb
及びZb の少なくとも1個は、−CH(OSiR13R12
R11)−であり( 但し、R11、R12及びR13はそれぞれ
独立に炭素数1〜6のアルキル基)、一般式(VII)中、
Jはハロゲン原子、−SiR13R12R11は水酸基保護基
を表す。さらに、U、W、Xa 、Ya 及びZa 、または
U、W、Xb 、Yb 及びZb において、−O−又は−
(S=O)−が連続して存在することはない。 - 【請求項5】 一般式中のUが−(CR7 R8 )−であ
る請求項1〜4の何れかに記載のビタミンD3 誘導体の
製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7325128A JPH09143154A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | ビタミンd3 誘導体の製造方法 |
| CA002190560A CA2190560A1 (en) | 1995-11-20 | 1996-11-18 | Process for producing vitamin d3 derivatives |
| EP96308380A EP0794175A3 (en) | 1995-11-20 | 1996-11-19 | Process for producing vitamin D3 derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7325128A JPH09143154A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | ビタミンd3 誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143154A true JPH09143154A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=18173396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7325128A Pending JPH09143154A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | ビタミンd3 誘導体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0794175A3 (ja) |
| JP (1) | JPH09143154A (ja) |
| CA (1) | CA2190560A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005095435A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Kuraray Co., Ltd. | プレグナン誘導体の製造方法 |
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