JPH04137077U - レーザ管 - Google Patents

レーザ管

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JPH04137077U
JPH04137077U JP4362291U JP4362291U JPH04137077U JP H04137077 U JPH04137077 U JP H04137077U JP 4362291 U JP4362291 U JP 4362291U JP 4362291 U JP4362291 U JP 4362291U JP H04137077 U JPH04137077 U JP H04137077U
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JP
Japan
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getter
laser tube
heater
discharge chamber
tube
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Application number
JP4362291U
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English (en)
Inventor
弘次 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】動作中に発生する材料の内部からの放出ガスを
吸収して再活性させる。 【構成】放電室の高温部を避けた位置に、ゲッター材の
内部に加熱ヒーターを備えたゲッターを配置し、このゲ
ッターへの電力供給用のリードを放電室外に引き出して
ある。 【効果】放出ガスが増大すると真空度が低下しカソード
電流等が変化する。この時点でゲッターのヒーターに電
力供給用のリードから通電する事によりゲッター機が再
活性し再び正常な動作をする。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はガスレーザ管に関する。
【0002】
【従来の技術】
レーザ管はバーコードの読取りをはじめレーザメスの医学やプリンター用の印 刷など広い分野に於いて使用されている。この様なレーザ管は殆んどが高真空中 に所定のガスを微量注入した所謂真空管の一種で有る。レーザ管は任意のガス、 例えば、炭酸ガス、Arガス或いはHe−Neガス等で、He−Neガスレーザ 管の場合を例にとれば、NeはHeガスの励起作用を利用して発振が行なわれ機 能する。この様なレーザ管では、管即ち外囲器内の真空度が種々の特性及び寿命 を大きく左右する。このため使用材料や材質の選択には充分な注意を行うと共に 、熱や化学処理による材料の清浄化、長時間の排気による脱ガスが行われる。更 に動作中の放出ガスの捕集のため、図4に示すように、外囲器9内にゲッター1 8を備えるのが一般的で有る。こうしたゲッターには概ね蒸発型ゲッターが使用 され、この蒸発型ゲッターは真空中でMgやBaを蒸発させ、その蒸気(原子や 分子状)の飛程及び器壁に形成される蒸着膜のガス吸着作用をする。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
従来のレーザ管に於いては通常蒸発型ゲッターの使用が一般的で排気工程の最 終段階で真空中で高周波加熱に依りMgやBaを蒸発させ、その蒸気(原子や分 子状)の作用で部材及び器壁に形成される蒸着膜のガス吸着作用を利用する。し かしその後のレーザ管が動作中には材料の内部から微量のガスが放出され、管壁 や陰極等に吸着する。吸着するガスが増大すると真空度は徐々に低下し、再活性 する事が不可能な事から遂には発振が停止して寿命が短くなると言う問題点が有 る。
【0004】
【課題を解決するための手段】 本考案のレーザ管は前述の不具合を解決するために提案されたもので、外囲器 の一部である放電室に、ゲッター材の内部に加熱ヒーターを備えたゲッターを配 置し、このゲッターへの電力供給用の導入線を放電室外に引き出す様にして有る 事を特徴としている。
【0005】
【実施例】
次に本考案の実施例を参照しながら説明する。図2はヒーター内蔵型ゲッター の構造を示す一部切欠図、図1は該ゲッターを内蔵した水冷、Arレーザ管の縦 断面図である。ゲッター1は、図2に示すように、絶縁層1dを被覆したヒータ 1bの周囲にゲッター材1cを設けた構造である。このゲッター材1cは、水冷 Arレーザ管の放電室2の陰極3の後方の陰極支柱4と放電管5と管壁6との中 間の位置に取付けられている。ゲッター1のヒータ1bに接続したヒーターリー ド1aは放電室2のガラス絶縁体を貫通する2本の導入棒7に接続されている。 更に導入棒7はレーザ管の駆動に必要な電力を供給する給電線(図示せず)に接 続されている。ミラー面板13、カーボンディスク細管12等は従来通りである 。以上の構造を有するレーザ管では、必要に応じて前記ヒーターリード1aにゲ ッター1を活性化するに必要な電流を外部電源から供給する事でゲッターのヒー ター1bを通電加熱する事が可能となっている。本実施例に使用したゲッター1 としてはサエス社(イタリア)のST171型非蒸発ゲッターを用い一次活性化 電流は3.5A、再活性電流は2Aであった。
【0006】 図3は第2の実施例の空冷Arレーザ管の縦断面図である。このレーザ管は、 図2のゲッターを外囲器内に設置した点以外は従来と同じ構造である。ゲッター 1は、放電室2の陰極構体8脇後方に取付けられていて、ゲッター1のヒーター リード1aは夫々金属製の外囲器9のセラミック絶縁体10を貫通する2本の導 入棒7に接続されている。この導入棒7は実施例1と同じくゲッター1を活性化 するに必要な電流を外部電源から供給する事でゲッター再加熱可能なレーザ管が 完成する。
【0007】
【考案の効果】
以上の説明から本考案のレーザ管は長期に亙る動作に依って、レーザ管内部の 真空度が僅かに低下すると電気的特性例えばカソード電流等が変化し発振を損っ たりする。この時点でレーザ管の前記ゲッターのヒーターに通電してゲッターを 加熱する。加熱は予め水素ガスが分解放出される温度を調べておき、出来る限り 高温で行うのが効率的である。本実施例では約350〜400℃で、加熱時間や 昇温、降温スケジュールはレーザ管の特性をチェックしながら個々に決定する事 が望ましい。この様にしてかなりのレーザ管の性能が回復出来る事が判明し、こ の構造が工業上、有効且重要で有る事を確認した。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1の実施例の水冷Arレーザ管の構
造を示す縦断面図。
【図2】本考案のレーザ管に使用したゲッターの一例を
示す図。
【図3】第2の実施例の空冷Arレーザ管の構造を示す
縦断面図。
【図4】従来のガラス製空冷Arレーザ管の構造を示す
縦断面図。
【符号の説明】 1 ゲッター 1a ヒーターリード 1b ヒーター 1c ゲッター材 1d 絶縁層 2 放電室 3 陰極 4 陰極支柱 5 放電管 6 管壁 7 導入棒 8 陰極構体 9 外囲器 10 セラミック絶縁体 12 カーボンディング細管 13 ミラー面板 18 バリウムゲッター

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陰極と陽極間の放電路を形成する放電細
    管及び陰極を内蔵し且つ放電室を有した外囲器の両端に
    ミラー面板を取付けたガスレーザ管に於いて、前記放電
    室に、ゲッター材の内部に加熱ヒーターを備えた非蒸発
    型ゲッターを内蔵し、前記放電室の任意の部分に前記ゲ
    ッターヒーターの電力供給用端子又は給電線が具備され
    ている事を特徴とするレーザ管。
JP4362291U 1991-06-12 1991-06-12 レーザ管 Pending JPH04137077U (ja)

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