JPH04137078U - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

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JPH04137078U
JPH04137078U JP5234091U JP5234091U JPH04137078U JP H04137078 U JPH04137078 U JP H04137078U JP 5234091 U JP5234091 U JP 5234091U JP 5234091 U JP5234091 U JP 5234091U JP H04137078 U JPH04137078 U JP H04137078U
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JP
Japan
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gas
cathode
discharge
laser
hole
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JP5234091U
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English (en)
Inventor
真哉 野崎
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Bosch Corp
Original Assignee
Bosch Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 放電室7内のレーザガスを入替えるに際し
て、スパークギャップ31の近傍に、金属の微粒子など
を滞留させないガスレーザ装置を提供する。 【構成】 カソード12に形成された通し孔13に、非
接触状態で予備電離ピン14を挿通し、予備電離ピン1
4と通し孔13の孔縁との間のスパークギャップ31で
予備放電を起こし、放電室7内を循環するレーザガス2
5を予備電離した後に、アノード6とカソード12との
間で主放電させて、放電励起させてなるガスレーザ装置
である。放電室7内を循環するレーザガスの一部を、カ
ソード12の通し孔13内に導入する連通孔33を設
け、この連通孔33を通して導入されたレーザガス25
を、スパークギャップ31から放電室7内に環流させた
ことを特徴とするものである。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はガスレーザ装置に係り、特に放電室内のレーザガスを放電毎に入替え るに際して、スパークギャップの近傍に、金属の微粒子などを滞留させないよう にしたガスレーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、図4に示すように、ガス入口31とガス出口32とを有する放電室3 3内にアノード35とカソード36とを対向させて配置し、これらアノード35 とカソード36の間を循環するレーザガス37を、放電励起させてなるガスレー ザ装置は知られている。この種のものでは、カソード36に孔を形成し、ここに 予備電離ピン41を挿通し、この予備電離ピン41とカソード36の孔との間の スパークギャップ43において、スパークさせて、放電室33内のレーザガス3 7を予備電離するようにしている。またこの種のものでは、放電室33内におけ る安定的な放電状態を得るために、放電毎に、放電室33内のレーザガス37を ガスフローさせて、放電により発生する不純物やハロゲンの負イオン等を、放電 停止後に放電室33内に滞留させないようにしている。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、この形式のガスレーザ装置では、上記のスパークギャップ43 が、アノード35とカソード36間の主放電領域45から外れた位置に設けられ ているので、上記のように放電室33内をガスフローする際に、スパークギャッ プ43の近傍でガス流に剥離が生じて、そこにスパークにより発生した金属の微 粒子などが滞留するので、予備電離の不安定や、主放電そのものの不安定や、レ ーザ出力の不安定等をもたらすという問題がある。
【0004】 そこで、本考案の目的は、上述した従来の技術が有する問題点を解消し、放電 室内のレーザガスを入替えるに際して、スパークギャップの近傍に、金属の微粒 子などを滞留させないようにしたガスレーザ装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本考案は、放電室内にアノードとカソードとを対 向配置すると共に、カソードに形成された通し孔に、非接触状態で予備電離ピン を挿通し、予備電離ピンと通し孔の孔縁との間のスパークギャップで予備放電を 起こし、放電室内を循環するレーザガスを予備電離した後に、アノードとカソー ドとの間で主放電させて、放電励起させてなるガスレーザ装置において、放電室 内を循環するレーザガスの一部を、カソードの通し孔内に導入する連通孔を設け 、この連通孔を通して導入されたレーザガスを、スパークギャップから放電室内 に環流させたことを特徴とするものである。
【0006】
【作用】
本考案によれば、放電室内を循環するレーザガスの一部は、連通孔を通して、 カソードの通し孔内に導入され、この導入されたレーザガスは、スパークギャッ プを通して放電室内に環流される。従って、スパークギャップの近傍に金属粉な どが滞留することはなく、次の放電開始時の放電状態を極めて良好な状態に維持 することができる。このように、予備電離状態を安定させることができるので、 主放電そのものを安定させることができ、よって、パルス毎のレーザ出力のばら つきや、高繰り返し時のレーザ出力の低下などを抑えることができる。
【0007】
【実施例】
以下、本考案の一実施例を図1及び図2を参照して説明する。
【0008】 図1において、符号1で示すものはレーザチャンバである。このレーザチャン バ1は、下方部分の図示を略した断面U字状の周壁2と、その上端開口部を塞ぐ アノードプレート3と、図示しない端壁とによって形成されている。アノードプ レート3は導電材料で形成されたもので、レーザチャンバ1の内部側にコ字状に 凹んでおり、外面(上面)にレーザチャンバ1の軸線方向(紙面と直行する方向 )に長く延びる凹部3Aを有している。
【0009】 アノードプレート3の凹部3Aの底面には、レーザチャンバ1の軸線方向に長 い長円形または長方形状のフランジ4が形成され、このフランジ4の内側には2 本の長孔5a,5bが平行に形成されている。一方はガス入口5aで、他方はガ ス出口5bである。ガス入口5aとガス出口5bとの間に残されたブリッジ状の 部分3Bの上面には半円柱形(かまぼこ形)のアノード6が設けられている。ア ノード6はアノードプレート3と一体にしてもよいが、別体にしてもよい。
【0010】 フランジ4の上方には、放電室7を画成する絶縁周壁8が配置されている。こ の絶縁周壁8は樹脂等の絶縁材料で形成された所定高さの長円形または長方形筒 状の壁であり、その下端開口部はOリング9を介して上記フランジ4上に気密に 載置されている。この絶縁周壁8の上端開口部には平坦なカソードプレート10 がOリング11を介して気密に載置されており、これにより内部には放電室7が 画成されている。この放電室7はアノードプレート3に形成されたガス入口5a 及びガス出口5bを介してレーザチャンバ1に連通している。
【0011】 カソードプレート10は導電材料で形成されており、放電室7に面したその下 面にはアノード6と対向させてカソード12が固定されている。このカソード1 2は角を丸くした帯板状のものである。カソード12とカソードプレート10と には、カソード12の長手方向に沿って多数の通し孔13が形成され、この通し 孔13はカソード12の幅方向に2列に並んで形成されている。各通し孔13に は孔壁に対して非接触状態で予備電離ピン14が挿入されており、予備電離ピン 14と通し孔13の先端のすぼまった部分の孔縁との間には、スパークギャップ 31が形成され、そこでは予備放電が起されるようになっている。
【0012】 カソードプレート10の幅方向の両端部は絶縁周壁8より外側に張り出してお り、この張り出した部分の下側にはピーキングコンデンサCが配置されている。 ピーキングコンデンサCは一端がカソードプレート10の下面にねじで直接固定 されており、ピーキングコンデンサCの他端は湾曲した鋼板15を介してアノー ドプレート3に導通されている。
【0013】 これによれば、アノードプレート3に形成した凹部3A内には、絶縁周壁8、 カソードプレート10、アノード6、カソード12、及びピーキングコンデンサ Cが全て収容されている。
【0014】 カソードプレート10の上面には、平面視した大きさが絶縁周壁8と同程度の 絶縁樹脂製の押え部材16が載置されている。この樹脂製の押え部材16の上部 には段部16Aが形成され、この段部16Aに押えプレート17の中央孔17A を係合させて、この押えプレート17の周縁部はアノードプレート3の上面にね じ18で固定されている。
【0015】 このねじ締め状態において押えプレート17は樹脂製の押え部材16をカソー ドプレート10に対して強く押し付け、この押し付け作用により、カソードプレ ート10と絶縁周壁8とフランジ4とは互いに圧接し合って、これら圧接部分の 気密が保持された状態で上記の各部材は相互に固定されている。
【0016】 樹脂製の押え部材16には予備電離ピン14が圧入され、これによりピン周囲 の気密は保持されており、カソードプレート10と押え部材16との間にはOリ ング19が介装され、これによりガス漏れが防止されている。以上の構成は従来 のものとほぼ同じである。
【0017】 しかして、この実施例によれば、図2に示すように、ガス入口5a側の絶縁周 壁8とカソードプレート10とに、それぞれ小孔8a、小孔10a及び小孔10 bが形成され、これら小孔8a、10a及び10bにより、連通孔33が形成さ れている。この連通孔33は、クロスフローファン24を介して、放電室7内を 循環するレーザガスの一部を補集して、そのガスをカソード12に形成された通 し孔13内に導入するよう構成されている。この連通孔33を通して導入された レーザガスは、スパークギャップ31から放電室7内に向けて環流され、これに より、スパークギャップ31の近傍に滞留する金属粉等を吹き飛ばすよう構成さ れている。尚、各小孔8a,10a,10bは、当然に、通し孔13の数と同数 個だけ形成されている。
【0018】 次に、この実施例の作用を説明すると、スパークギャップ31において、カソ ード12と予備電離ピン14との間で、微小アーク放電(予備放電)が発生し、 これにより発せられる紫外線により、放電室7内のレーザガス25が予備電離さ れる。次いで、ピーキングコンデンサCの両端の電圧が、放電開始電圧にまで達 すると、カソード12、アノード6間にグロー放電が発生し、放電室7内のレー ザガス25が励起されて、レーザ光が出力される。
【0019】 また放電室7内における安定的な放電状態を得るために、放電毎に、放電室7 内のレーザガス25がガスフローされる。
【0020】 しかして、この実施例によれば、放電室7内のレーザガス25がガスフローさ れる際に、ガス入口5aから流入するレーザガス25の一部が、絶縁周壁8の小 孔8a、及びカソードプレート10の小孔10a、10bを通じて、カソード1 2の通し孔13内に導入され、その後、スパークギャップ31から放電室7内に 向けて環流されるので、スパークギャップ31の近傍に滞留する金属粉などが、 循環するガス流25の中に吹き飛ばされる。
【0021】 従って、放電毎に発生する不純物やハロゲンの負イオン等が確実にガスフロー されるので、それらが放電停止後に放電室7内に滞留することはなく、しかもス パークギャップ31から放電室7内に向けてガスが環流されるので、スパークギ ャップ31の近傍に金属粉などが滞留することはなく、次の放電開始時の放電状 態を極めて良好な状態に維持することができる。
【0022】 また、予備電離状態を安定させることができると共に、主放電そのものを安定 させることができるので、パルス毎のレーザ出力のばらつきや、高繰り返し時の レーザ出力の低下などを確実に抑えることができる。
【0023】 図3は他の実施例を示している。これによれば、クロスフローファン34の長 さが、アノード6及びカソード12の長さよりも長めに形成されており、クロス フローファン34を介して循環されるレーザガスの一部が、カソード12の端壁 側から回り込み、各通し孔13内に導入されるように構成されている。
【0024】 これによれば、絶縁周壁8に小孔8aを形成する必要がないので、その加工を 省略することができる。また、このような小孔8aを形成すると、主放電領域内 において、ガス流に乱れが生じる虞があるが、この実施例では、その虞を確実に 解消することができる。
【0025】
【考案の効果】
以上の説明から明らかなように、本考案によれば、放電室内を循環するレーザ ガスの一部をカソードの通し孔内に導入する連通孔を設け、この連通孔を通して 導入されたレーザガスをスパークギャップから放電室内に環流させるよう構成し たから、スパークギャップの近傍に金属粉などが滞留することはなく、次の放電 開始時の放電状態を極めて良好な状態に維持することができる。従って、予備電 離状態を安定させることができると共に、主放電そのものを安定させることがで きるので、パルス毎のレーザ出力のばらつきや、高繰り返し時のレーザ出力の低 下などを確実に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案によるガスレーザ装置の一実施例を示す
断面図である。
【図2】本考案の要部を示す断面図である。
【図3】他の実施例を示す断面図である。
【図4】従来のガスレーザ装置を示す断面図である。
【符号の説明】
3 アノードプレート 5a ガス入口 5b ガス出口 6 アノード 7 放電室 8 絶縁周壁 10 カソードプレート 12 カソード 13 通し孔 25 レーザガス 26 乱流格子 27 通し孔

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放電室内にアノードとカソードとを対向
    配置すると共に、カソードに形成された通し孔に、非接
    触状態で予備電離ピンを挿通し、予備電離ピンと通し孔
    の孔縁との間のスパークギャップで予備放電を起こし、
    放電室内を循環するレーザガスを予備電離した後に、ア
    ノードとカソードとの間で主放電させて、放電励起させ
    てなるガスレーザ装置において、前記放電室内を循環す
    るレーザガスの一部を、カソードの通し孔内に導入する
    連通孔を設け、この連通孔を通して導入されたレーザガ
    スを、前記スパークギャップから放電室内に環流させた
    ことを特徴とするガスレーザ装置。
JP5234091U 1991-06-11 1991-06-11 ガスレーザ装置 Pending JPH04137078U (ja)

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JP5234091U JPH04137078U (ja) 1991-06-11 1991-06-11 ガスレーザ装置

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JP5234091U JPH04137078U (ja) 1991-06-11 1991-06-11 ガスレーザ装置

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JPH04137078U true JPH04137078U (ja) 1992-12-21

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JP5234091U Pending JPH04137078U (ja) 1991-06-11 1991-06-11 ガスレーザ装置

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