JPH04233779A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH04233779A JPH04233779A JP41591990A JP41591990A JPH04233779A JP H04233779 A JPH04233779 A JP H04233779A JP 41591990 A JP41591990 A JP 41591990A JP 41591990 A JP41591990 A JP 41591990A JP H04233779 A JPH04233779 A JP H04233779A
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- JP
- Japan
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- gas
- anode
- discharge
- flow
- cathode
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマレーザ装置に係
り、特に放電室内のレーザガスを放電毎に効率よく入替
えることのできるようにしたエキシマレーザ装置に関す
る。
り、特に放電室内のレーザガスを放電毎に効率よく入替
えることのできるようにしたエキシマレーザ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、図４に示すように、レーザガス
のガス入口３１とガス出口３２とを有する放電室３３内
にアノード３５とカソード３６とを対向させて配置し、
これらアノード３５とカソード３６との間を循環するレ
ーザガス３７を放電励起させてなるエキシマレーザ装置
は知られている。
のガス入口３１とガス出口３２とを有する放電室３３内
にアノード３５とカソード３６とを対向させて配置し、
これらアノード３５とカソード３６との間を循環するレ
ーザガス３７を放電励起させてなるエキシマレーザ装置
は知られている。
【０００３】この種のものでは、放電室３３内における
安定的な放電状態を得るために、放電毎に放電室３３内
のレーザガス３７のガスフローが不可欠になっている。 すなわち放電により発生する不純物やハロゲンの負イオ
ン等が放電停止後も放電室３３内に滞留すると、次の放
電開始時に放電状態が不安定になるからである。
安定的な放電状態を得るために、放電毎に放電室３３内
のレーザガス３７のガスフローが不可欠になっている。 すなわち放電により発生する不純物やハロゲンの負イオ
ン等が放電停止後も放電室３３内に滞留すると、次の放
電開始時に放電状態が不安定になるからである。
【０００４】ところで、ラムダフィジックタイプ等の従
来の装置では、放電回路のインダクタンスを小さくして
出力を向上させるために、放電室３３の外側にピーキン
グコンデンサ３８をなるべく近付けるようにして配置し
ている（例えば、実願平１−１３５３９９号）。
来の装置では、放電回路のインダクタンスを小さくして
出力を向上させるために、放電室３３の外側にピーキン
グコンデンサ３８をなるべく近付けるようにして配置し
ている（例えば、実願平１−１３５３９９号）。
【０００５】そのため構造上の制約を受けて、放電室３
３内のガスの流れ３７はアノード３５の表面形状に沿っ
て大きく反転するような流れになる。
３内のガスの流れ３７はアノード３５の表面形状に沿っ
て大きく反転するような流れになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガス流３７が
アノード３５の表面に沿って大きく反転するような流れ
になると、従来のガス流は層流に近いために、ガス流３
７がアノード３５の表面から剥離３９して、充分なガス
フローが行われなくなるという問題が生じる。
アノード３５の表面に沿って大きく反転するような流れ
になると、従来のガス流は層流に近いために、ガス流３
７がアノード３５の表面から剥離３９して、充分なガス
フローが行われなくなるという問題が生じる。
【０００７】そこで、本発明の目的は、上述した従来の
技術が有する問題点を解消し、アノードの表面に沿って
流れるガス流の剥離を生じにくくしたエキシマレーザ装
置を提供することにある。
技術が有する問題点を解消し、アノードの表面に沿って
流れるガス流の剥離を生じにくくしたエキシマレーザ装
置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガス入口とガス出口とを有する放電室内
にアノードとカソードとを対向させて配置し、これらア
ノードとカソードとの間を循環するレーザガスを放電励
起させてなるエキシマレーザ装置において、レーザガス
のガス入口にレーザガスの流れを乱流にするための乱流
格子を設けたことを特徴とするものである。
に、本発明は、ガス入口とガス出口とを有する放電室内
にアノードとカソードとを対向させて配置し、これらア
ノードとカソードとの間を循環するレーザガスを放電励
起させてなるエキシマレーザ装置において、レーザガス
のガス入口にレーザガスの流れを乱流にするための乱流
格子を設けたことを特徴とするものである。
【０００９】
【作用】本発明によれば、乱流格子を通して放電室に流
入するガス流は乱流になるので、ガス流がアノードの表
面に沿って大きく反転するような流れになったとしても
、従来のようにガス流がアノードの表面から剥離するこ
とはないので、確実にガスフローが行われ、よって、放
電毎に発生する不純物やハロゲンの負イオン等は、その
都度ガスフローされて排出され、放電停止後に放電室内
に滞留することはないので、次の放電開始時の放電状態
は極めて安定する。
入するガス流は乱流になるので、ガス流がアノードの表
面に沿って大きく反転するような流れになったとしても
、従来のようにガス流がアノードの表面から剥離するこ
とはないので、確実にガスフローが行われ、よって、放
電毎に発生する不純物やハロゲンの負イオン等は、その
都度ガスフローされて排出され、放電停止後に放電室内
に滞留することはないので、次の放電開始時の放電状態
は極めて安定する。
【００１０】
【実施例】以下、本発明によるエキシマレーザ装置の一
実施例を図１乃至図３を参照して説明する。
実施例を図１乃至図３を参照して説明する。
【００１１】図１において、符号１で示すものはレーザ
チャンバである。このレーザチャンバ１は、下方部分の
図示を略した断面Ｕ字状の周壁２と、その上端開口部を
塞ぐアノードプレート３と、図示しない端壁とによって
形成されている。アノードプレート３は導電材料で形成
されたもので、レーザチャンバ１の内部側にコ字状に凹
んでおり、外面（上面）にレーザチャンバ１の軸線方向
（紙面と直行する方向）に長く延びる凹部３Ａを有して
いる。
チャンバである。このレーザチャンバ１は、下方部分の
図示を略した断面Ｕ字状の周壁２と、その上端開口部を
塞ぐアノードプレート３と、図示しない端壁とによって
形成されている。アノードプレート３は導電材料で形成
されたもので、レーザチャンバ１の内部側にコ字状に凹
んでおり、外面（上面）にレーザチャンバ１の軸線方向
（紙面と直行する方向）に長く延びる凹部３Ａを有して
いる。
【００１２】アノードプレート３の凹部３Ａの底面には
、レーザチャンバ１の軸線方向に長い長円形または長方
形状のフランジ４が形成され、このフランジ４の内側に
は２本の長孔５ａ，５ｂが平行に形成されている。一方
はガス入口５ａで、他方はガス出口５ｂである。ガス入
口５ａとガス出口５ｂとの間に残されたブリッジ状の部
分３Ｂの上面には半円柱形（かまぼこ形）のアノード６
が設けられている。アノード６はアノードプレート３と
一体にしてもよいが、別体にしてもよい。
、レーザチャンバ１の軸線方向に長い長円形または長方
形状のフランジ４が形成され、このフランジ４の内側に
は２本の長孔５ａ，５ｂが平行に形成されている。一方
はガス入口５ａで、他方はガス出口５ｂである。ガス入
口５ａとガス出口５ｂとの間に残されたブリッジ状の部
分３Ｂの上面には半円柱形（かまぼこ形）のアノード６
が設けられている。アノード６はアノードプレート３と
一体にしてもよいが、別体にしてもよい。
【００１３】フランジ４の上方には、放電室７を画成す
る絶縁周壁８が配置されている。この絶縁周壁８は樹脂
等の絶縁材料で形成された所定高さの長円形または長方
形筒状の壁であり、その下端開口部はＯリング９を介し
て上記フランジ４上に気密に載置されている。この絶縁
周壁８の上端開口部には平坦なカソードプレート１０が
Ｏリング１１を介して気密に載置されており、これによ
り内部には放電室７が画成されている。この放電室７は
アノードプレート３に形成されたガス入口５ａ及びガス
出口５ｂを介してレーザチャンバ１に連通している。
る絶縁周壁８が配置されている。この絶縁周壁８は樹脂
等の絶縁材料で形成された所定高さの長円形または長方
形筒状の壁であり、その下端開口部はＯリング９を介し
て上記フランジ４上に気密に載置されている。この絶縁
周壁８の上端開口部には平坦なカソードプレート１０が
Ｏリング１１を介して気密に載置されており、これによ
り内部には放電室７が画成されている。この放電室７は
アノードプレート３に形成されたガス入口５ａ及びガス
出口５ｂを介してレーザチャンバ１に連通している。
【００１４】カソードプレート１０は導電材料で形成さ
れており、放電室７に面したその下面にはアノード６と
対向させてカソード１２が固定されている。このカソー
ド１２は角を丸くした帯板状のものである。カソード１
２とカソードプレート１０とには、カソード１２の長手
方向に沿って多数の貫通孔１３が形成され、この貫通孔
１３はカソード１２の幅方向に２列に並んで形成されて
いる。各貫通孔１３には孔壁に対して非接触状態で予備
電離ピン１４が挿入されており、予備電離ピン１４と貫
通孔１３の先端のすぼまった部分の孔縁との間には、予
備放電が起されるようになっている。
れており、放電室７に面したその下面にはアノード６と
対向させてカソード１２が固定されている。このカソー
ド１２は角を丸くした帯板状のものである。カソード１
２とカソードプレート１０とには、カソード１２の長手
方向に沿って多数の貫通孔１３が形成され、この貫通孔
１３はカソード１２の幅方向に２列に並んで形成されて
いる。各貫通孔１３には孔壁に対して非接触状態で予備
電離ピン１４が挿入されており、予備電離ピン１４と貫
通孔１３の先端のすぼまった部分の孔縁との間には、予
備放電が起されるようになっている。
【００１５】カソードプレート１０の幅方向の両端部は
絶縁周壁８より外側に張り出しており、この張り出した
部分の下側にはピーキングコンデンサＣ２ が配置され
ている。ピーキングコンデンサＣ２ は一端がカソード
プレート１０の下面にねじで直接固定されており、ピー
キングコンデンサＣ２ の他端は湾曲した鋼板１５を介
してアノードプレート３に導通されている。
絶縁周壁８より外側に張り出しており、この張り出した
部分の下側にはピーキングコンデンサＣ２ が配置され
ている。ピーキングコンデンサＣ２ は一端がカソード
プレート１０の下面にねじで直接固定されており、ピー
キングコンデンサＣ２ の他端は湾曲した鋼板１５を介
してアノードプレート３に導通されている。
【００１６】これによれば、アノードプレート３に形成
した凹部３Ａ内には、絶縁周壁８、カソードプレート１
０、アノード６、カソード１２、及びピーキングコンデ
ンサＣ２ が全て収容されている。
した凹部３Ａ内には、絶縁周壁８、カソードプレート１
０、アノード６、カソード１２、及びピーキングコンデ
ンサＣ２ が全て収容されている。
【００１７】カソードプレート１０の上面には、平面視
した大きさが絶縁周壁８と同程度の絶縁樹脂製の押え部
材１６が載置されている。この樹脂製の押え部材１６の
上部には段部１６Ａが形成され、この段部１６Ａに押え
プレート１７の中央孔１７Ａを係合させて、この押えプ
レート１７の周縁部はアノードプレート３の上面にねじ
１８で固定されている。
した大きさが絶縁周壁８と同程度の絶縁樹脂製の押え部
材１６が載置されている。この樹脂製の押え部材１６の
上部には段部１６Ａが形成され、この段部１６Ａに押え
プレート１７の中央孔１７Ａを係合させて、この押えプ
レート１７の周縁部はアノードプレート３の上面にねじ
１８で固定されている。
【００１８】このねじ締め状態において押えプレート１
７は樹脂製の押え部材１６をカソードプレート１０に対
して強く押し付け、この押し付け作用により、カソード
プレート１０と絶縁周壁８とフランジ４とは互いに圧接
し合って、これら圧接部分の気密が保持された状態で上
記の各部材は相互に固定されている。
７は樹脂製の押え部材１６をカソードプレート１０に対
して強く押し付け、この押し付け作用により、カソード
プレート１０と絶縁周壁８とフランジ４とは互いに圧接
し合って、これら圧接部分の気密が保持された状態で上
記の各部材は相互に固定されている。
【００１９】樹脂製の押え部材１６には予備電離ピン１
４が圧入され、これによりピン周囲の気密は保持されて
おり、カソードプレート１０と押え部材１６との間には
Ｏリング１９が介装され、これによりガス漏れが防止さ
れている。以上の構成は従来のものとほぼ同じである。
４が圧入され、これによりピン周囲の気密は保持されて
おり、カソードプレート１０と押え部材１６との間には
Ｏリング１９が介装され、これによりガス漏れが防止さ
れている。以上の構成は従来のものとほぼ同じである。
【００２０】しかして、この実施例によれば、ガス入口
５ａの全域にクロスフローファン２４を介して流入する
レーザガス２５の流れを乱流にするための乱流格子２６
が装着されている。この乱流格子２６は、図２に示すよ
うに、複数の通し孔２７，２７…を備え、この通し孔２
７をレーザガス２５が通過する際にガスの流れが乱流に
変化するようになっている。
５ａの全域にクロスフローファン２４を介して流入する
レーザガス２５の流れを乱流にするための乱流格子２６
が装着されている。この乱流格子２６は、図２に示すよ
うに、複数の通し孔２７，２７…を備え、この通し孔２
７をレーザガス２５が通過する際にガスの流れが乱流に
変化するようになっている。
【００２１】このレーザ装置の回路構成は、図３に示す
ように、ストレージコンデンサＣ１ とスイッチィング
素子２８とを備えた構成になっている。
ように、ストレージコンデンサＣ１ とスイッチィング
素子２８とを備えた構成になっている。
【００２２】図３及び図１を参照して、本実施例の作用
を説明すると、先ず、ストレージコンデンサＣ１ が直
流高圧電源ＨＶにより充電され、この充電後にスイッチ
ィング素子２８が閉成されると、ストレージコンデンサ
Ｃ１に蓄えられたエネルギがアースライン２９を通って
ピーキングコンデンサＣ２ に移行する。
を説明すると、先ず、ストレージコンデンサＣ１ が直
流高圧電源ＨＶにより充電され、この充電後にスイッチ
ィング素子２８が閉成されると、ストレージコンデンサ
Ｃ１に蓄えられたエネルギがアースライン２９を通って
ピーキングコンデンサＣ２ に移行する。
【００２３】この時、予備電離ピン１４とカソード１２
との間には、微小アーク放電（予備放電）が発生して、
これにより発せられる紫外線により放電室７内のレーザ
ガス２５は予備電離される。次に、ピーキングコンデン
サＣ２ の両端の電圧が放電開始電圧に到達すると、カ
ソード１２、アノード６間にグロー放電が発生し、放電
室７内のレーザガス２５が励起されてレーザ光が出力さ
れる。
との間には、微小アーク放電（予備放電）が発生して、
これにより発せられる紫外線により放電室７内のレーザ
ガス２５は予備電離される。次に、ピーキングコンデン
サＣ２ の両端の電圧が放電開始電圧に到達すると、カ
ソード１２、アノード６間にグロー放電が発生し、放電
室７内のレーザガス２５が励起されてレーザ光が出力さ
れる。
【００２４】放電室７内における安定的な放電状態を得
るためには、放電毎に放電室７内のレーザガス２５を確
実にガスフローする必要がある。
るためには、放電毎に放電室７内のレーザガス２５を確
実にガスフローする必要がある。
【００２５】しかして、この実施例によれば、ガス入口
５ａにレーザガス２５の流れを乱流にするための乱流格
子２６が装着されているので、放電室７内に流入するガ
ス流２５は乱流になるので、ガス流２５がアノード６の
表面に沿って大きく反転するような流れになったとして
も、従来のようにガス流２５がアノード６の表面から剥
離するようなことはなく、確実にガスフローが行われる
。したがって、クロスフローファン２４を小型化するこ
とができる。
５ａにレーザガス２５の流れを乱流にするための乱流格
子２６が装着されているので、放電室７内に流入するガ
ス流２５は乱流になるので、ガス流２５がアノード６の
表面に沿って大きく反転するような流れになったとして
も、従来のようにガス流２５がアノード６の表面から剥
離するようなことはなく、確実にガスフローが行われる
。したがって、クロスフローファン２４を小型化するこ
とができる。
【００２６】これによれば放電毎に発生する不純物やハ
ロゲンの負イオン等は確実にガスフローされて、放電停
止後に放電室７内に滞留することはないので、次の放電
開始時の放電状態を安定させることができるなどの効果
が得られる。
ロゲンの負イオン等は確実にガスフローされて、放電停
止後に放電室７内に滞留することはないので、次の放電
開始時の放電状態を安定させることができるなどの効果
が得られる。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、レーザガスのガス入口にレーザガスの流れを
乱流にするための乱流格子を設けたので、放電室内に流
入するガス流は乱流になるので、ガス流がアノードの表
面に沿って大きく反転するような流れであっても、アノ
ードの表面からのガス流の剥離が生じにくくなるので、
確実な迅速なガスフローが行われる。
によれば、レーザガスのガス入口にレーザガスの流れを
乱流にするための乱流格子を設けたので、放電室内に流
入するガス流は乱流になるので、ガス流がアノードの表
面に沿って大きく反転するような流れであっても、アノ
ードの表面からのガス流の剥離が生じにくくなるので、
確実な迅速なガスフローが行われる。
【図１】本発明によるエキシマレーザ装置の一実施例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】乱流格子の構造を示す斜視図である。
【図３】回路構成を示す回路図である。
【図４】従来のエキシマレーザ装置を示す断面図である
。
。
３ アノードプレート
５ａ ガス入口
５ｂ ガス出口
６ アノード
７ 放電室
８ 絶縁周壁
１０ カソードプレート
１２ カソード
２５ レーザガス
２６ 乱流格子
２７ 通し孔
Claims (1)
- 【請求項１】 ガス入口とガス出口とを有する放電室
内にアノードとカソードとを対向させて配置し、これら
アノードとカソードとの間を循環するレーザガスを放電
励起させてなるエキシマレーザ装置において、前記レー
ザガスのガス入口に該レーザガスの流れを乱流にするた
めの乱流格子を設けたことを特徴とするエキシマレーザ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41591990A JPH04233779A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41591990A JPH04233779A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04233779A true JPH04233779A (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=18524186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41591990A Pending JPH04233779A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04233779A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004034526A1 (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ガスレーザ発振装置 |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP41591990A patent/JPH04233779A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004034526A1 (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ガスレーザ発振装置 |
| EP1467452A4 (en) * | 2002-09-19 | 2006-01-11 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | GAS LASER OSCILLATOR |
| US7130324B2 (en) | 2002-09-19 | 2006-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Axial flow type gas laser oscillator |
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