JPH04145199A - 液相酸化法に使用される装置の洗浄 - Google Patents

液相酸化法に使用される装置の洗浄

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JPH04145199A
JPH04145199A JP2415515A JP41551590A JPH04145199A JP H04145199 A JPH04145199 A JP H04145199A JP 2415515 A JP2415515 A JP 2415515A JP 41551590 A JP41551590 A JP 41551590A JP H04145199 A JPH04145199 A JP H04145199A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［０００１］ 本発明は液体酸化法に使用される装置の洗浄に関する。
明細書および特許請求の範囲において用語°′液相酸化
法″は、ガスを鉄（ＩＩ■）と有機酸の可溶化された配
位錯化合物を含む反応体水溶液と接触域中で硫黄の融点
より低い温度で硫化水素を転化する条件下で接触させて
硫化水素含量の低下した処理されたガスおよび固体硫黄
を含み鉄（ＩＩ）と有機酸の可溶化された配位錯化合物
の濃度が増大した水性混合物を生じさせる、ガスからの
硫化水素の除去法を指すのに使用される。
別の域で硫黄は水性混合物から除去されそして鉄（ＩＩ
）は鉄（Ｉ　Ｉ　Ｉ）に酸化されて接触域で使用する水
性混合物を再生する。
［０００２］ 上記方法で使用される装置は接触域で生成した単体硫黄
；反応体鉄と過剰量の硫化水素の反応により生成した硫
化鉄および水酸化鉄；およびガスの上流処理がらのミス
トとして持越される重質炭化水素の沈着により起される
汚れにさらされる。
機械的に緩んだ単体硫黄を除去するのに反応体水溶液を
使用することおよび油膜形成の防除に界面活性剤を使用
することは知られている。
本発明の目的は上記３つの形の汚れを効果的に防除しう
る液相酸化法に使用される装置の洗浄用の組成物を提供
することである。
この目的に本発明による液相酸化法に使用される装置の
洗浄用の組成物は亜硫酸の塩３ないし３０質量％、キレ
ート化剤０．５ないし３０質量％およびカチオン界面活
性剤０．０５ないし５質量％の水溶液を含む。
［０００３］ 亜硫酸の塩は亜硫酸塩または重亜硫酸塩であることがで
きる。亜硫酸塩（または重亜硫酸塩）は単体硫黄と水に
可溶のチオ硫酸塩を形成するであろう。
不活性の硫化鉄および水酸化鉄は鉄イオンが結合される
分子構造を形成するキレート化剤により溶解される。
カチオン界面活性剤は油の除去を容易にするであろう。
しかしカチオン界面活性剤は更に、亜硫酸塩（または重
亜硫酸塩）と硫黄のチオ硫酸塩への反応におよび水酸化
鉄の溶解に有利な効果を有する。
本発明の利点は汚染物を溶解含有した洗浄組成物が反応
体水溶液と相客れる無害物を含むということである。
適当には亜硫酸の塩はアンモニウム塩またはナトリウム
塩である。
［０００４］ キレート化剤は有機酸または有機酸のアンモニウム塩ま
たはナトリウム塩のよつな塩であることができる。有機
酸は適当にはニトリロトリ酢酸（ＮＴＡと云う）、エチ
レンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡと云う）またはヒドロキ
シエチレンジアミン四酢酸（ＨＯＥＤＴＡと云う）のよ
うな窒素ポリ酸である。
適当には亜硫酸の塩中のカチオンはキレート化剤にがが
わるカチオンと同じである。更に、洗浄組成物のキレー
ト化剤は適当には液相酸化法で使用されるキレート化剤
と同じである。
［０００５］ カチオン界面活性剤は適当には４級アンモニウム塩例え
ばジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルベンジ
ルジメチルアンモニウムハライドのようなアルキルベン
ジルジメチルアンモニウムハライド、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩またはドデシルピリジニウムブロマイ
ドのようなアルキルピリジニウムハライドである。
［０００６］ 本発明による組成物と汚れた装置との接触は１０ないし
８０℃の温度で実施される。
本発明を例として添付図面を参照してより詳細に説明す
る。図中破線は液相酸化法で使用される導管を示し、実
線は液相酸化法で使用する装置の洗浄時に使用される導
管を示す。
［０００７］ 硫化水素を除去すべきガスは導管４を通って並流接触器
６へ高められた圧力で供給され、反応体水溶液は導管８
を通って並流接触器６へ供給される。反応体溶液は鉄（
ＩＩＩ）とＮＴＡの可溶化された配位錯化合物を含む。
硫化水素を単体硫黄に転化する条件下でガスと反応体溶
液を接触器６中で接触させて、低下した硫化水素含量を
有する処理されたガス、および固体硫黄と増大した濃度
の鉄（エエ）とＮＴＡの可溶化された配位錯化合物を含
む水性混合物を生じさせる。ガス／液体混合物は並流接
触器６から導管９を通って気液分離器１０へ通され、そ
こから処理されたガスは導管１２を通って、そして固体
硫黄と増大した濃度の鉄（ＩＩ）とＮＴＡの可溶化され
た配位錯化合物を含む水性混合物は導管１５を通って取
出される。
［０００８］ 水性混合物は導管１５を通って酸化器１９の上部へ供給
され、その中で還元された鉄（ＩＩ）は送風機２３によ
り導管２４を通って酸化器１９の下部へ供給される空気
により鉄（ＩＩＩ）に酸化される。還元された反応体を
酸化する条件は本発明に無関係である。
再生された反応体は酸化器１９がら導管２６を通って取
出されそして循環ポンプ２７により導管８を通って並流
接触器６へ供給される。
酸化器１９の底から硫黄に富むスラリーが導管３０を通
って取出され、該溶液はポンプ３１により硫黄を更に処
理しそして硫黄を貯蔵する手段（図示せず）へ供給され
る。枯渇した空気は導管３５を通って酸化器１９の頂部
を去る。
［０００９］ 上記プロセスで使用される装置を洗浄するには、このプ
ロセスを中断し、接触器を解圧しそして洗浄組成物をタ
ンク３６から循環ポンプ２７により導管３７および３８
を通って並流接触器６へ通し、そしてそこから導管４２
を通ってタンク３６へ戻す。使用される洗浄組成物は１
０質量％の亜硫酸アンモニウム、１０質量％のアンモニ
ウムＮＴＡおよび０．１質量％のドデシルピリジニウム
ブロマイドを含む。洗浄組成物は導管３８中の熱交換器
４３により６０℃の温度に加熱される。
洗浄が完了したら組成物をタンクへ排出しそして清浄な
並流接触器６を使用に供する。
［００１０１ 明瞭化のため、洗浄組成物を通す導管系を反応体水溶液
を通す導管系と別個に示しである。しかし、該組成物を
通す導管系中に正常運転中反応体水溶液を通す導管が含
まれることは理解されるであろう。このようにして循環
ポンプ２７のほかに導管系の一部も洗浄される。
適当にはプラントは２つの並流接触器をそれらに属する
循環ポンプと共に含みそれにより洗浄されている接触器
からサービスを引継ぎうる並流接触器がある
【図面の簡単な説明】
【図１】 水性反応体の再生を伴なう液相酸化法のプラ
【符号の説明】
６　並流接触器 １０　気液分離器 １９　酸化器 ３６　洗浄組成物タンク ントの構成を示す線図。
【書類名］ 図面 【図１】

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】亜硫酸の塩３ないし３０質量％、キレート
    化剤０．５ないし３０質量％およびカチオン界面活性剤
    ０．０５ないし５質量％の水溶液を含む液相酸化法に使
    用される装置の洗浄用組成物。
  2. 【請求項２】亜硫酸の塩がアンモニウム塩またはナトリ
    ウム塩である請求項１の組成物。
  3. 【請求項３】キレート
    化剤が有機酸である請求項１または２の組成物。
  4. 【請求項４】キレート化剤が有機酸のアンモニウム塩で
    ある請求項３の組成物。
  5. 【請求項５】有機酸がニトリロトリ酢酸またはエチレン
    ジアミン四酢酸である請求項３または４の組成物。
  6. 【請求項６】カチオン界面活性剤が４級アンモニウム塩
    である請求項１−５のいずれか１つの組成物。
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CA2031874A1 (en) 1991-07-03
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CA2031874C (en) 2000-10-10
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EP0438833A1 (en) 1991-07-31
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