JPH04145351A - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPH04145351A JPH04145351A JP26913990A JP26913990A JPH04145351A JP H04145351 A JPH04145351 A JP H04145351A JP 26913990 A JP26913990 A JP 26913990A JP 26913990 A JP26913990 A JP 26913990A JP H04145351 A JPH04145351 A JP H04145351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection
- lane
- scanning
- defect
- conditions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 58
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 29
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、鋼板、アルミ板、銅板、紙、プラスチックフ
ィルムなどのロール状に巻いたあるいは長尺の検査対象
の表面を走査して得られる画像信号を用いて欠陥の有無
を検査する欠陥検査装置に関するものである。
ィルムなどのロール状に巻いたあるいは長尺の検査対象
の表面を走査して得られる画像信号を用いて欠陥の有無
を検査する欠陥検査装置に関するものである。
(発明の技術的背景)
wA板や紙などの表面を光学的に走査して、その表面の
キズあるいは内部の欠陥等を検出する欠陥検査装置が公
知である。ここに従来は検査対象を走査して得た画像信
号を予め設定されたしきい値と比較し、画像信号がこの
しきい値により決まる範囲外になると欠陥であると判断
していた。
キズあるいは内部の欠陥等を検出する欠陥検査装置が公
知である。ここに従来は検査対象を走査して得た画像信
号を予め設定されたしきい値と比較し、画像信号がこの
しきい値により決まる範囲外になると欠陥であると判断
していた。
一方ロール状に巻いた鉄鋼の熱延コイルやプラスチック
フィルムなど、あるいは長尺の検査対象では、圧延条件
などの処理条件により通常幅方向の表面性状が微妙に変
化する。通常両縁付近では幅方向の中央付近に比べて地
合ノイズが大きくなり、また波打ちや荒れの程度も太き
(なる。さらに圧延条件によっては幅方向の一定の位置
に周期的な傷が現われることもある。
フィルムなど、あるいは長尺の検査対象では、圧延条件
などの処理条件により通常幅方向の表面性状が微妙に変
化する。通常両縁付近では幅方向の中央付近に比べて地
合ノイズが大きくなり、また波打ちや荒れの程度も太き
(なる。さらに圧延条件によっては幅方向の一定の位置
に周期的な傷が現われることもある。
また欠陥判別の精度を向上させるために画像信号には通
常種種の信号処理が施される。例えば微分フィルタによ
るフィルタリング処理を行ったり、画像信号の濃度分布
範囲を変更する濃度変更処理などが行われる。このよう
な信号処理の最適条件もまた検査対象の表面の地合ノイ
ズや波打ちや荒れによって変化する。
常種種の信号処理が施される。例えば微分フィルタによ
るフィルタリング処理を行ったり、画像信号の濃度分布
範囲を変更する濃度変更処理などが行われる。このよう
な信号処理の最適条件もまた検査対象の表面の地合ノイ
ズや波打ちや荒れによって変化する。
このような場合にも従来装置では前記のように一定のし
きい値および他の検査条件(以下単に検査条件という)
を用いて欠陥を検出していたため、検査対象の中央付近
に対して適切な検査条件を用いると、両縁付近で多発す
る地合ノイズなどを欠陥として判断してしまうことにな
る。反対に両縁付近に適切な検査条件を用いると中央付
近で検査漏れが発生するという問題があった。
きい値および他の検査条件(以下単に検査条件という)
を用いて欠陥を検出していたため、検査対象の中央付近
に対して適切な検査条件を用いると、両縁付近で多発す
る地合ノイズなどを欠陥として判断してしまうことにな
る。反対に両縁付近に適切な検査条件を用いると中央付
近で検査漏れが発生するという問題があった。
また幅方向のほぼ決まった位置や、周期的な既知の場所
に傷が現われる場合には、この付近を切り捨てて廃棄す
ることを予め予定していることがあるが、この場合には
この切り捨てる領域の欠陥は検出する必要がないにもか
かわらず、従来装置ではこの欠陥も忠実に検出してしま
い、かえって煩わしいという問題もあった。
に傷が現われる場合には、この付近を切り捨てて廃棄す
ることを予め予定していることがあるが、この場合には
この切り捨てる領域の欠陥は検出する必要がないにもか
かわらず、従来装置ではこの欠陥も忠実に検出してしま
い、かえって煩わしいという問題もあった。
(発明の目的)
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、検
査対象の幅方向のほぼ決まった位置付近に発生する地合
ノイズや表面の波打ちあるいは荒れなどの影響を受ける
ことなく、欠陥を高精度に検出することができ、また予
め切り捨てる範囲が既知の場合にはこの範囲の欠陥は検
出しないようにすることができる欠陥検査装置を提供す
ることを目的とするものである。
査対象の幅方向のほぼ決まった位置付近に発生する地合
ノイズや表面の波打ちあるいは荒れなどの影響を受ける
ことなく、欠陥を高精度に検出することができ、また予
め切り捨てる範囲が既知の場合にはこの範囲の欠陥は検
出しないようにすることができる欠陥検査装置を提供す
ることを目的とするものである。
(発明の構成)
本発明によればこの目的は、検査対象を走査して得た画
像信号を、所定の検査条件と比較して、検査対象の欠陥
を検出する欠陥検査装置において、前記検査対象の検査
領域を送り方向に長い複数のレーンに分割して走査位置
が入るレーンを判別する走査レーン判別手段と、前記各
レーンに対応する検査条件を別々にメモリするメモリ手
段と、走査中のレーンに対応する検査条件を前記メモリ
手段から読出す選定手段とを備え、選定された前記検査
条件を用いて欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査
装置、により達成される。
像信号を、所定の検査条件と比較して、検査対象の欠陥
を検出する欠陥検査装置において、前記検査対象の検査
領域を送り方向に長い複数のレーンに分割して走査位置
が入るレーンを判別する走査レーン判別手段と、前記各
レーンに対応する検査条件を別々にメモリするメモリ手
段と、走査中のレーンに対応する検査条件を前記メモリ
手段から読出す選定手段とを備え、選定された前記検査
条件を用いて欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査
装置、により達成される。
ここに前記メモリ手段にメモリした各レーンに対応した
検査条件は、検査対象の種類および検査状態の少なくと
も一方に対応して複数メモリしておいてもよい。また少
なくとも1つのレーンに対しては欠陥を検出しないよう
に検査条件を設定しておいてもよい。
検査条件は、検査対象の種類および検査状態の少なくと
も一方に対応して複数メモリしておいてもよい。また少
なくとも1つのレーンに対しては欠陥を検出しないよう
に検査条件を設定しておいてもよい。
レーンに代えて、前記検査対象の検査領域を幅方向およ
び送り方向に仕切られた複数のブロックに分割して、前
記各ブロックに対応する検査条件を別々にメモリしてお
いて、走査中のブロックに対応する検査条件を前記メモ
リ手段から読出すようにすることもできる。
び送り方向に仕切られた複数のブロックに分割して、前
記各ブロックに対応する検査条件を別々にメモリしてお
いて、走査中のブロックに対応する検査条件を前記メモ
リ手段から読出すようにすることもできる。
(作用)
検査対象の主走査ライン上における走査位置が、検査対
象の表面を仮想的に区分けしたレーン(ブロック)のど
のレーン(ブロック)に入っているかを、走査レーン(
ブロック)判別手段が判別する。走査位置が入っている
レーン(ブロック)が判別されると、このレーン(ブロ
ック)に対応するしきい値などの検査条件がメモリ手段
から読出される。この検査条件を用いて対応するレーン
(ブロック)における欠陥の有無が検査される。
象の表面を仮想的に区分けしたレーン(ブロック)のど
のレーン(ブロック)に入っているかを、走査レーン(
ブロック)判別手段が判別する。走査位置が入っている
レーン(ブロック)が判別されると、このレーン(ブロ
ック)に対応するしきい値などの検査条件がメモリ手段
から読出される。この検査条件を用いて対応するレーン
(ブロック)における欠陥の有無が検査される。
(実施例)
第1図は本発明の第1の実施例のブロック図、第2図は
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3〜5図は信号処理の説明図である。すなわち第3図
は空間フィルタリング処理の説明図、第4図は微分フィ
ルタの一例を示す図、第5図は画像信号の濃度変換特性
の説明図である。また第6図は検査対象のレーンあるい
はブロックの分割例を示す図である。
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3〜5図は信号処理の説明図である。すなわち第3図
は空間フィルタリング処理の説明図、第4図は微分フィ
ルタの一例を示す図、第5図は画像信号の濃度変換特性
の説明図である。また第6図は検査対象のレーンあるい
はブロックの分割例を示す図である。
第1図において、符号1oは鋼板、紙、プラスチックフ
ィルムなどの検査対象であり、この検査対象10は供給
ロール12から巻取りロール14に送られる。この巻取
りロール14は巻取りモータ16により駆動される。モ
ータ16により巻取られる検査対象10の走行速度(送
り速度)は速度検出器(パルスジェネレータ)18によ
り検出される。この検査対象10の送り中にフライング
スポット方式による画像検出手段20によって表面の画
像が読取られる。この画像検出手段20は、レーザー光
源22から射出されるレーザ光からなる走査ビームρを
、モータ24により回転される回転ミラー(ポリゴナ、
ルミラー)26によって検査対象10の幅方向に一定の
速度で走査(主走査)する一方、検査対象10の表面に
よる反射光を受光ロッド28によって一対の受光器30
(30a、30b)に導いて受光するものである。すな
わち受光ロッド28は走査ビームβの主走査ライン32
に近接してこれに平行に配設され、反射光を受光すると
受光ロッド28の内面で全反射させてその両端に導き、
フォトマルチプライヤ(光電子増倍管)などの受光器3
0により受光量が検出される。各受光器30が出力する
画像信号はプリアンプ、メインアンプで増幅され、また
波形整形されて第2図に示すアナログ画像信号atxa
*となる。
ィルムなどの検査対象であり、この検査対象10は供給
ロール12から巻取りロール14に送られる。この巻取
りロール14は巻取りモータ16により駆動される。モ
ータ16により巻取られる検査対象10の走行速度(送
り速度)は速度検出器(パルスジェネレータ)18によ
り検出される。この検査対象10の送り中にフライング
スポット方式による画像検出手段20によって表面の画
像が読取られる。この画像検出手段20は、レーザー光
源22から射出されるレーザ光からなる走査ビームρを
、モータ24により回転される回転ミラー(ポリゴナ、
ルミラー)26によって検査対象10の幅方向に一定の
速度で走査(主走査)する一方、検査対象10の表面に
よる反射光を受光ロッド28によって一対の受光器30
(30a、30b)に導いて受光するものである。すな
わち受光ロッド28は走査ビームβの主走査ライン32
に近接してこれに平行に配設され、反射光を受光すると
受光ロッド28の内面で全反射させてその両端に導き、
フォトマルチプライヤ(光電子増倍管)などの受光器3
0により受光量が検出される。各受光器30が出力する
画像信号はプリアンプ、メインアンプで増幅され、また
波形整形されて第2図に示すアナログ画像信号atxa
*となる。
各信号a I s a 2は走査ビームβの主走査ライ
ン32上の走査位置から遠くなるとレベルが低下し、反
対に走査位置に近(なるとレベルが上昇するように変化
する。そこでこの実施例では、両信号a + 、a 2
は加算手段34で加算され、主走査ライン32上の走査
位置の変化による影響が除去されて信号a3となる。
ン32上の走査位置から遠くなるとレベルが低下し、反
対に走査位置に近(なるとレベルが上昇するように変化
する。そこでこの実施例では、両信号a + 、a 2
は加算手段34で加算され、主走査ライン32上の走査
位置の変化による影響が除去されて信号a3となる。
出力調整手段36は、この画像信号a3が望ましい振幅
と出力レベルとなるようにゲインおよびオフセットの調
整を行う。この出力調整手段36で信号処゛理に用いら
れるゲインg、オフセットof、その他のデータなどの
検査条件は、後記するメモリ手段60から入力される。
と出力レベルとなるようにゲインおよびオフセットの調
整を行う。この出力調整手段36で信号処゛理に用いら
れるゲインg、オフセットof、その他のデータなどの
検査条件は、後記するメモリ手段60から入力される。
この出力調整された信号a4はA/D変換手段38にお
いてデジタル信号a、に変換される。例えば256階調
の濃度信号a5に変換される。そしてバルクメモリ40
にメモリされる。ここにA/D変換の階調数に等のデー
タは後記メモリ手段60から入力される。
いてデジタル信号a、に変換される。例えば256階調
の濃度信号a5に変換される。そしてバルクメモリ40
にメモリされる。ここにA/D変換の階調数に等のデー
タは後記メモリ手段60から入力される。
このバルクメモリ40は主走査ラインの画素数Nとモニ
タ上の画像表示エリアの走査線数nとの積(NXn)に
等しい記憶容量を持ち、検査幅ゲート信号αに同期して
一主走査毎にデジタル画像信号a5を記憶する。すなわ
ちバルクメモリ40の記憶領域が一杯になると最も古い
データの上に順次上書きしてゆくリングバッファ構造を
持つ。ここに検査幅ゲート信号αは主走査ライン32上
の走査幅を示すものであり、主走査ライン32の両端付
近すなわち検査対象10の縁付近に配設された一対の光
センサ35.(35a、35b)の出力α1、α2によ
って作られる。このゲート信号αは、光センサ35aが
走査ビームβを検出すると”1°゛となり、光センサ3
5bが検出すると”O°゛に戻り、結局−主走査内の検
査幅内で°゛1°°となるものである。
タ上の画像表示エリアの走査線数nとの積(NXn)に
等しい記憶容量を持ち、検査幅ゲート信号αに同期して
一主走査毎にデジタル画像信号a5を記憶する。すなわ
ちバルクメモリ40の記憶領域が一杯になると最も古い
データの上に順次上書きしてゆくリングバッファ構造を
持つ。ここに検査幅ゲート信号αは主走査ライン32上
の走査幅を示すものであり、主走査ライン32の両端付
近すなわち検査対象10の縁付近に配設された一対の光
センサ35.(35a、35b)の出力α1、α2によ
って作られる。このゲート信号αは、光センサ35aが
走査ビームβを検出すると”1°゛となり、光センサ3
5bが検出すると”O°゛に戻り、結局−主走査内の検
査幅内で°゛1°°となるものである。
又、このゲート信号αは、画像信号a4から信号処理に
より検査対象の両エツジを検出することで作ることも可
能である。
より検査対象の両エツジを検出することで作ることも可
能である。
一方出力調整手段36で出力調整された信号a4は、信
号処理手段42において信号処理される。この場合はア
ナログ信号処理であるが、A/D変換手段38の出力a
、を信号処理手段42において信号処理するデジタル信
号処理でもよい。
号処理手段42において信号処理される。この場合はア
ナログ信号処理であるが、A/D変換手段38の出力a
、を信号処理手段42において信号処理するデジタル信
号処理でもよい。
この手段42は例えば微分フィルタによるフィルタリン
グ処理を行う。この微分処理を上記デジタル信号処理の
方法で説明すると例えば第3図に示すように処理対象画
像の各画素毎にこの画素を中心とした例えば3x3領域
に空間フィルタFを重ね合せ、対応する画素同志の積を
求め、それらの総和を出力値とする。この操作を左上の
画素から右下の画素までラスク走査順に行うものである
。
グ処理を行う。この微分処理を上記デジタル信号処理の
方法で説明すると例えば第3図に示すように処理対象画
像の各画素毎にこの画素を中心とした例えば3x3領域
に空間フィルタFを重ね合せ、対応する画素同志の積を
求め、それらの総和を出力値とする。この操作を左上の
画素から右下の画素までラスク走査順に行うものである
。
このフィルタリング処理に用いる空間フィルタとしては
第4図に示す重み係数を持ったフィルタを採用すること
ができる。これは行方向微分用のフィルタΔ、fと列方
向微分用のフィルタΔ、fとの2つのフィルタを用い、
各フィルタの出力の絶対値の和、もしくは両フィルタの
出力のうち大きい方の値をもって最終的な出力値とする
ものである。
第4図に示す重み係数を持ったフィルタを採用すること
ができる。これは行方向微分用のフィルタΔ、fと列方
向微分用のフィルタΔ、fとの2つのフィルタを用い、
各フィルタの出力の絶対値の和、もしくは両フィルタの
出力のうち大きい方の値をもって最終的な出力値とする
ものである。
ここで微分フィルタの作用をデジタル信号処理の例で説
明したが、アナログ信号処理の場合は、公知のアナログ
微分回路により、一走査毎の画像信号を微分処理すれば
よい。
明したが、アナログ信号処理の場合は、公知のアナログ
微分回路により、一走査毎の画像信号を微分処理すれば
よい。
このようなフィルタリング処理の結果、走査ビームρの
光路長の変化、入射角の変化又は検査対象表面の地合い
変化等による信号a3に含まれる周期的な変動(低周波
成分)が除去され、また画像のχおよびy方向の少くと
も一方向の輪郭が強調され、その後の欠陥検出精度が向
上する。
光路長の変化、入射角の変化又は検査対象表面の地合い
変化等による信号a3に含まれる周期的な変動(低周波
成分)が除去され、また画像のχおよびy方向の少くと
も一方向の輪郭が強調され、その後の欠陥検出精度が向
上する。
この信号処理手段42においてはこの微分処理に加えで
あるいはこれに代えて濃度変換を行ってもよい。この濃
度変換に用いる変換テーブルは例えば第5図に示す特性
のものが用いられる。この第5図において横軸は入力さ
れる濃度信号yの濃度を示し、縦軸は出力される濃度変
換後の濃度信号Yを示す。これら濃度信号y1Yは例え
ば256階調とされる。またこのテーブルは、背景濃度
Cを挟む両側に一定濃度幅a内で一定濃度(例えば中間
の濃度127)とし、この幅aの外では傾きbをもって
最大(255)および最小濃度(0)に変換するもので
ある。この濃度変換により背景領域のノイズを消して欠
陥検出精度を向上させることができる。なおこの濃度変
換に用いる設定値a、b、cは後記するメモリ手段60
から入力される。
あるいはこれに代えて濃度変換を行ってもよい。この濃
度変換に用いる変換テーブルは例えば第5図に示す特性
のものが用いられる。この第5図において横軸は入力さ
れる濃度信号yの濃度を示し、縦軸は出力される濃度変
換後の濃度信号Yを示す。これら濃度信号y1Yは例え
ば256階調とされる。またこのテーブルは、背景濃度
Cを挟む両側に一定濃度幅a内で一定濃度(例えば中間
の濃度127)とし、この幅aの外では傾きbをもって
最大(255)および最小濃度(0)に変換するもので
ある。この濃度変換により背景領域のノイズを消して欠
陥検出精度を向上させることができる。なおこの濃度変
換に用いる設定値a、b、cは後記するメモリ手段60
から入力される。
以上のように微分フィルタでフィルタリング処理をした
信号yは、信号a4にあった低周波成分が除去されて欠
陥の部分が強調され、また濃度変換により背景のノイズ
が消されている。
信号yは、信号a4にあった低周波成分が除去されて欠
陥の部分が強調され、また濃度変換により背景のノイズ
が消されている。
欠陥検出手段44はこの信号a6を所定のしきい値(ま
たは範囲)υと比較し、信号a6がこのしきい値により
決まる範囲外になった時に欠陥と判断する。この欠陥を
示す信号2はアドレス判別手段46に送られ、この欠陥
のアドレスAdが求められる。
たは範囲)υと比較し、信号a6がこのしきい値により
決まる範囲外になった時に欠陥と判断する。この欠陥を
示す信号2はアドレス判別手段46に送られ、この欠陥
のアドレスAdが求められる。
この欠陥検出手段44で用いるしきい値(または範囲)
υは、主走査ライン32上の走査位置すなわち後記する
ように主走査方向のレーンが変化するのに伴い順次後記
メモリ手段6oから読出され、レーン毎に異なるしきい
値υ1、υ2・・・を用いて欠陥の検査がなされる。
υは、主走査ライン32上の走査位置すなわち後記する
ように主走査方向のレーンが変化するのに伴い順次後記
メモリ手段6oから読出され、レーン毎に異なるしきい
値υ1、υ2・・・を用いて欠陥の検査がなされる。
前記アドレスAdは運転制御部48から得られる。すな
わちこの運転制御部48は、検査対象10の送り速度を
後記メモリ手段60から入力された指令速度■7に一致
させるようにモータ16を駆動する。また走査ビームβ
の主走査方向の走査速度が、同様にメモリ手段60から
入力される指令速度Vxに一致するようにモータ24を
駆動する。運転制御部48は速度検出器18からの速度
パルスをカウントして副走査方向のY座標を求め、また
モータ24の回転速度および検査幅ゲート信号を基準と
する経過時間から主走査方向のX座標を求め、これらの
座標(X、Y)が走査位置の座標としてアドレス判別手
段46に出力されるものである。
わちこの運転制御部48は、検査対象10の送り速度を
後記メモリ手段60から入力された指令速度■7に一致
させるようにモータ16を駆動する。また走査ビームβ
の主走査方向の走査速度が、同様にメモリ手段60から
入力される指令速度Vxに一致するようにモータ24を
駆動する。運転制御部48は速度検出器18からの速度
パルスをカウントして副走査方向のY座標を求め、また
モータ24の回転速度および検査幅ゲート信号を基準と
する経過時間から主走査方向のX座標を求め、これらの
座標(X、Y)が走査位置の座標としてアドレス判別手
段46に出力されるものである。
このようにして欠陥のアドレスAdが求められると、前
記バルクメモリ40はこのアドレスAdを含む領域すな
わち欠陥を含む領域をフレームメモリ50に移す。この
フレームメモリ50には信号a5と共に欠陥の座標(X
、Y)を同時にメモリしておいてもよい。。
記バルクメモリ40はこのアドレスAdを含む領域すな
わち欠陥を含む領域をフレームメモリ50に移す。この
フレームメモリ50には信号a5と共に欠陥の座標(X
、Y)を同時にメモリしておいてもよい。。
このフレームメモリ50の内容はさらに必要に応じて信
号処理手段52において信号処理される。例えば後記メ
モリ手段60から入力された倍率(Xn)となるように
欠陥部分を拡大または縮小する。そしてこの画像はCR
Tなどのモニタ54に表示される。ここに欠陥のアドレ
スAdを欠陥の画像と共に表示してもよい。この画像や
アドレスAdは必要に応じてビデオ、光磁気ディスク、
フロッピーディスク、ハードディスク、メモリーテープ
などに記録してもよい。
号処理手段52において信号処理される。例えば後記メ
モリ手段60から入力された倍率(Xn)となるように
欠陥部分を拡大または縮小する。そしてこの画像はCR
Tなどのモニタ54に表示される。ここに欠陥のアドレ
スAdを欠陥の画像と共に表示してもよい。この画像や
アドレスAdは必要に応じてビデオ、光磁気ディスク、
フロッピーディスク、ハードディスク、メモリーテープ
などに記録してもよい。
一方アドレス判別手段46が欠陥のアドレスAdを求め
ると、次に信号処理手段56において例えば分類処理が
行われる。これは欠陥検出手段44で求めた欠陥の大き
さや広がりなどの欠陥の程度や種類などを判別し、欠陥
を分類するものである。この分類結果はプリンタやデー
タ回線で接続された外部のプロセスコンピュータなどの
出力手段58に出力・される。この分類処理に用いるデ
ータは後記メモリ手段60から入力される。
ると、次に信号処理手段56において例えば分類処理が
行われる。これは欠陥検出手段44で求めた欠陥の大き
さや広がりなどの欠陥の程度や種類などを判別し、欠陥
を分類するものである。この分類結果はプリンタやデー
タ回線で接続された外部のプロセスコンピュータなどの
出力手段58に出力・される。この分類処理に用いるデ
ータは後記メモリ手段60から入力される。
以上の処理に用いるデータすなわち検査条件は、メモリ
手段60から供給される。このメモリ手段60は第2図
に示すように、レーンI、■・・・■毎に用いられる最
適な検査条件の組がメモリされている。すなわち検査対
象10を例えば第6図に示すように工、■〜■の6レー
ンに分割し、各レーンエ、■〜VIにおける欠陥検出に
最適な検査条件の組■、■・・・■をメモリする。
手段60から供給される。このメモリ手段60は第2図
に示すように、レーンI、■・・・■毎に用いられる最
適な検査条件の組がメモリされている。すなわち検査対
象10を例えば第6図に示すように工、■〜■の6レー
ンに分割し、各レーンエ、■〜VIにおける欠陥検出に
最適な検査条件の組■、■・・・■をメモリする。
この実施例では、これら各レーンに対する検査条件を、
例えば鋼板A、鋼板B等の検査対象の種類に対応してそ
れぞれメモリしている。ここに検査対象10の検査状態
、例えばその表面が乾いた状態、油が付着している状態
、着色した状態等の状態、に応じて別々の検査条件をメ
モリするようにしてもよい。メモリする検査条件は、前
記しきい値を始めとし、前記出力調整手段36で用いる
ゲインg、オフセット0.や、A/D変換手段38で用
いる階調数k、信号処理手段42で用いるフィルタ△、
f、△yf、あるいは濃度変換の設定値a、b、c、走
査速度V、 、V、 、倍率(Xn)、分類処理のデー
タなどである。
例えば鋼板A、鋼板B等の検査対象の種類に対応してそ
れぞれメモリしている。ここに検査対象10の検査状態
、例えばその表面が乾いた状態、油が付着している状態
、着色した状態等の状態、に応じて別々の検査条件をメ
モリするようにしてもよい。メモリする検査条件は、前
記しきい値を始めとし、前記出力調整手段36で用いる
ゲインg、オフセット0.や、A/D変換手段38で用
いる階調数k、信号処理手段42で用いるフィルタ△、
f、△yf、あるいは濃度変換の設定値a、b、c、走
査速度V、 、V、 、倍率(Xn)、分類処理のデー
タなどである。
これらの設定値は条件入力手段62から手動あるいは自
動で入力される。例えば検査者がモニタ54の画像や出
力手段58でプリントされた結果を見ながら好ましい設
定値を検査対象10の検査条件毎にキーボードなどから
手動で入力する。また一部の設定値を自動で求めてもよ
い。例えば出力調整手段36の出力レベルが所定範囲に
入るようにゲインgおよびフオフセットofを自動で設
定するように構成することができる。
動で入力される。例えば検査者がモニタ54の画像や出
力手段58でプリントされた結果を見ながら好ましい設
定値を検査対象10の検査条件毎にキーボードなどから
手動で入力する。また一部の設定値を自動で求めてもよ
い。例えば出力調整手段36の出力レベルが所定範囲に
入るようにゲインgおよびフオフセットofを自動で設
定するように構成することができる。
64は走査レーン判別手段であり、主走査ライン32上
の走査位1がどのレーン内にあるかを判別するものであ
る。すなわち検査対象1oは第6図に示すように幅方向
に複数のレーンエ、■、〜■に仮想的に分割される一方
、走査位置が前記検査幅ゲート信号αの”1″′への変
化時からの経過時間に基づいて求められ、この求めた走
査位置がどのレーンに入っているかが判別されるもので
ある。そしてこの走査中のレーンを示すレーン信号βを
選定手段66に送出する。
の走査位1がどのレーン内にあるかを判別するものであ
る。すなわち検査対象1oは第6図に示すように幅方向
に複数のレーンエ、■、〜■に仮想的に分割される一方
、走査位置が前記検査幅ゲート信号αの”1″′への変
化時からの経過時間に基づいて求められ、この求めた走
査位置がどのレーンに入っているかが判別されるもので
ある。そしてこの走査中のレーンを示すレーン信号βを
選定手段66に送出する。
選定手段66は、このレーン信号βが”■”の時にはメ
モリ手段60からこのレーンIに対応する検査条件の組
Iを選出する。またレーン信号βが°゛■°゛になると
メモリ手段60は検査条件■を選出する。このように走
査位置が各レーンエ、U〜■と変化するのに対応して選
定する検査条件の工、■〜■と変えてゆく。切換え手段
68はこの選定手段66により選定された検査条件をメ
モリ手段60から読出して各部へ送る。
モリ手段60からこのレーンIに対応する検査条件の組
Iを選出する。またレーン信号βが°゛■°゛になると
メモリ手段60は検査条件■を選出する。このように走
査位置が各レーンエ、U〜■と変化するのに対応して選
定する検査条件の工、■〜■と変えてゆく。切換え手段
68はこの選定手段66により選定された検査条件をメ
モリ手段60から読出して各部へ送る。
また検査対象10の種類と検査状態が変わればそれに対
応した各レーン毎の検査条件のグループを手動あるいは
自動で選出し、そのグループ内で゛の各レーンの検査条
件を用いて同様の動作を行う。
応した各レーン毎の検査条件のグループを手動あるいは
自動で選出し、そのグループ内で゛の各レーンの検査条
件を用いて同様の動作を行う。
以上の実施例では、検査対象の種類や検査状態の変化に
対応して異なる検査条件のグループもメモリしてお(よ
うに構成しているが、本発明は1つの検査対象について
だけの各レーンの検査条件のみをメモリしておくもので
あってもよい。
対応して異なる検査条件のグループもメモリしてお(よ
うに構成しているが、本発明は1つの検査対象について
だけの各レーンの検査条件のみをメモリしておくもので
あってもよい。
また各レーンは検査対象10の送り方向の所定長さ毎に
区切って、それぞれをブロック;工 ■ ・・・■ r’ n′ ・・・■′ ■” ■“ ・・・■” に区分する一方、メモリ手段60には各ブロックに対応
する検査条件をメモリしておいてもよい。
区切って、それぞれをブロック;工 ■ ・・・■ r’ n′ ・・・■′ ■” ■“ ・・・■” に区分する一方、メモリ手段60には各ブロックに対応
する検査条件をメモリしておいてもよい。
この場合には前記レーン判別手段64は、検査幅ゲート
信号αと検査対象10の送り量を示す信号(運転制御手
段48などから得られる)とに基づいてブロックの判別
を行うことになる。そして走査中には、各ブロック毎に
メモリ手段60から対応する検査条件を読出して検査を
行う。
信号αと検査対象10の送り量を示す信号(運転制御手
段48などから得られる)とに基づいてブロックの判別
を行うことになる。そして走査中には、各ブロック毎に
メモリ手段60から対応する検査条件を読出して検査を
行う。
なお一部のレーンあるいはブロックでは、欠陥を全く検
出しないようにしきい値υなどの検査条件を設定してお
いてもよい。
出しないようにしきい値υなどの検査条件を設定してお
いてもよい。
以上の実施例はレーザ光を検査対象表面で反射させるフ
ライングスポット方式のものであるが、検査対象をその
幅方向に配置した棒状光源で照射し、その反射光を回転
ミラーを介して受光器で読取るフライングイメージ方式
のもの、あるいはラインセンサやエリヤセンサにより画
像を読取る方式のもの等であってもよい。
ライングスポット方式のものであるが、検査対象をその
幅方向に配置した棒状光源で照射し、その反射光を回転
ミラーを介して受光器で読取るフライングイメージ方式
のもの、あるいはラインセンサやエリヤセンサにより画
像を読取る方式のもの等であってもよい。
以上の各実施例では検査対象の表面に現われた欠陥を検
出するものとして説明しているが、本発明は表面を走査
することにより内部の欠陥を検出するものも包含する。
出するものとして説明しているが、本発明は表面を走査
することにより内部の欠陥を検出するものも包含する。
例えば鋼板の内部欠陥を磁気光学効果を用いて検出する
ものであってもよい。これは、検査対象を交流磁界で磁
化した時の欠陥からの漏れ磁界を反射光の偏光の変化と
して検出するものである。
ものであってもよい。これは、検査対象を交流磁界で磁
化した時の欠陥からの漏れ磁界を反射光の偏光の変化と
して検出するものである。
(発明の効果)
本発明は以上のように、検査対象の検査領域を送り方向
に長い複数のレーン、または幅方向および送り方向に仕
切られた複数のブロックに分割し、各レーンまたはブロ
ックに対して適切な検査条件を予めメモリしたメモリ手
段から、走査位置の変化に対応した検査条件を読出し、
レーンまたはブロック毎に別々な検査条件を用いて検査
を行うものである。このため圧延工程などに伴い幅方向
のほぼ決まった位置に現われる地合ノイズ、波打ち、荒
れ等があるために、各レーンあるいはブロック毎に欠陥
を検出するのに最適な検査条件が異なっている場合にも
、各レーンはそれぞれ最適4゜ な検査条件を用いて検査することができる。このため欠
陥の検出精度が向上する(請求項(1)(4))。
に長い複数のレーン、または幅方向および送り方向に仕
切られた複数のブロックに分割し、各レーンまたはブロ
ックに対して適切な検査条件を予めメモリしたメモリ手
段から、走査位置の変化に対応した検査条件を読出し、
レーンまたはブロック毎に別々な検査条件を用いて検査
を行うものである。このため圧延工程などに伴い幅方向
のほぼ決まった位置に現われる地合ノイズ、波打ち、荒
れ等があるために、各レーンあるいはブロック毎に欠陥
を検出するのに最適な検査条件が異なっている場合にも
、各レーンはそれぞれ最適4゜ な検査条件を用いて検査することができる。このため欠
陥の検出精度が向上する(請求項(1)(4))。
また各レーンまたは各ブロックに対応する検査条件を検
査対象の種類や検査状態に対応して複数用意しておき、
検査対象の種類や検査状態の変化に対応して検査条件を
変更できるようにしておくこともでき、この場合には検
査対象の種類や検査状態の変更にも容易に対応すること
ができる(請求項(2))。
査対象の種類や検査状態に対応して複数用意しておき、
検査対象の種類や検査状態の変化に対応して検査条件を
変更できるようにしておくこともでき、この場合には検
査対象の種類や検査状態の変更にも容易に対応すること
ができる(請求項(2))。
さらに一部のレーンあるいはブロックに対しては欠陥を
検出しないように検査条件を設定しておくこともできる
。この場合には幅方向の所定位置付近や所定の間隔で周
期的に現われる傷を含む領域であって、後で切り捨てて
廃棄することになる部分に対しては、欠陥を検出しない
ようにすることができ、無駄に欠陥を検出する必要がな
くなる(請求項(3))。
検出しないように検査条件を設定しておくこともできる
。この場合には幅方向の所定位置付近や所定の間隔で周
期的に現われる傷を含む領域であって、後で切り捨てて
廃棄することになる部分に対しては、欠陥を検出しない
ようにすることができ、無駄に欠陥を検出する必要がな
くなる(請求項(3))。
第1図は本発明の第1の実施例のブロック図、第2図は
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3図は空間フィルタリング処理の説明図、第4図は微
分フィルタの一例を示す図、第5図は画像信号の濃度変
換特性の説明図である。また第6図は検査対象のレーン
あるいはブロックの分割例を示す図である。 10・・・検査対象、 20・・・画像検出手段、60
・・・メモリ手段、62・・・検査条件入力手段、64
・・・走査レーン(ブロック)判別手段、66・・・選
定手段。
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3図は空間フィルタリング処理の説明図、第4図は微
分フィルタの一例を示す図、第5図は画像信号の濃度変
換特性の説明図である。また第6図は検査対象のレーン
あるいはブロックの分割例を示す図である。 10・・・検査対象、 20・・・画像検出手段、60
・・・メモリ手段、62・・・検査条件入力手段、64
・・・走査レーン(ブロック)判別手段、66・・・選
定手段。
Claims (4)
- (1)検査対象を走査して得た画像信号を、所定の検査
条件と比較して、検査対象の欠陥を検出する欠陥検査装
置において、 前記検査対象の検査領域を送り方向に長い複数のレーン
に分割して走査位置が入るレーンを判別する走査レーン
判別手段と、前記各レーンに対応する検査条件を別々に
メモリするメモリ手段と、走査中のレーンに対応する検
査条件を前記メモリ手段から読出す選定手段とを備え、
選定された前記検査条件を用いて欠陥を検出することを
特徴とする欠陥検査装置。 - (2)前記メモリ手段にメモリした各レーンに対応した
検査条件は、検査対象の種類および検査状態の少なくと
も一方に対応して複数メモリされている請求項(1)の
欠陥検査装置。 - (3)少なくとも1つのレーンに対しては欠陥を検出し
ないように検査条件を設定した請求項(1)の欠陥検査
装置。 - (4)検査対象を走査して得た画像信号を、所定の検査
条件と比較して、検査対象の欠陥を検出する欠陥検査装
置において、 前記検査対象の検査領域を幅方向および送り方向に仕切
られた複数のブロックに分割して走査位置が入るブロッ
クを判別する走査ブロック判別手段と、前記各ブロック
に対応する検査条件を別々にメモリするメモリ手段と、
走査中のブロックに対応する検査条件を前記メモリ手段
から読出す選定手段とを備え、選定された前記検査条件
を用いて欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26913990A JPH04145351A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 欠陥検査装置 |
| EP19910115660 EP0475454A3 (en) | 1990-09-14 | 1991-09-16 | Defect inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26913990A JPH04145351A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04145351A true JPH04145351A (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=17468234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26913990A Pending JPH04145351A (ja) | 1990-09-14 | 1990-10-05 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04145351A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008134072A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Fujifilm Corp | 欠陥検出装置及び方法 |
| WO2015159352A1 (ja) * | 2014-04-14 | 2015-10-22 | 株式会社東芝 | ウェブ検査装置、ウェブ検査方法、ウェブ検査プログラム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239439A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 表面検査装置 |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP26913990A patent/JPH04145351A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239439A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 表面検査装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008134072A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Fujifilm Corp | 欠陥検出装置及び方法 |
| WO2015159352A1 (ja) * | 2014-04-14 | 2015-10-22 | 株式会社東芝 | ウェブ検査装置、ウェブ検査方法、ウェブ検査プログラム |
| JP5889426B1 (ja) * | 2014-04-14 | 2016-03-22 | 株式会社東芝 | ウェブ検査装置、ウェブ検査方法、ウェブ検査プログラム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4417149A (en) | Apparatus for detecting and measuring defects | |
| US20030071992A1 (en) | Wafer inspection system for distinguishing pits and particles | |
| GB2042716A (en) | Surface inspection of hot radiant material | |
| AU596454B2 (en) | Apparatus for inspecting sidewall of bottle | |
| EP0627069A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE SHAPE OF AN OBJECT SURFACE. | |
| US4841139A (en) | Method for testing components of transparent material for surface irregularities and occlusions | |
| US4492472A (en) | Method and system for determining shape in plane to be determined in atmosphere of scattering materials | |
| JPH06148098A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPH04145351A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2577655B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPS5818103A (ja) | 散乱体雰囲気中での被測定面の形状測定方法 | |
| JPS6114508A (ja) | 形状測定装置 | |
| JPH0454443A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPH08101130A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| US4916535A (en) | Method of non-destructive quality inspection of materials and videomonitor realizing this method | |
| EP0475454A2 (en) | Defect inspection system | |
| JPH04145349A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2691794B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPH05126759A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPS61176838A (ja) | 透明または半透明の板状体の欠点検査方法 | |
| JPH04355353A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| EP0519255A2 (en) | Defect inspection system and inspection process | |
| JPH04355354A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPH04122845A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2896215B2 (ja) | 画像処理装置 |