JPH04145349A - 欠陥検査装置 - Google Patents

欠陥検査装置

Info

Publication number
JPH04145349A
JPH04145349A JP26913790A JP26913790A JPH04145349A JP H04145349 A JPH04145349 A JP H04145349A JP 26913790 A JP26913790 A JP 26913790A JP 26913790 A JP26913790 A JP 26913790A JP H04145349 A JPH04145349 A JP H04145349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
conditions
sets
defect
memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26913790A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakazu Iwasa
岩佐 正和
Shiro Sone
曽根 至朗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP26913790A priority Critical patent/JPH04145349A/ja
Priority to EP19910115660 priority patent/EP0475454A3/en
Publication of JPH04145349A publication Critical patent/JPH04145349A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、鋼板、アルミ板、銅板、紙、プラスチックフ
ィルム、磁気ディスク、磁気ドラム、ICウェーハなど
の検査対象の表面を走査して得られる画像信号を用いて
欠陥の有無を検査する欠陥検査装置に関するものである
(発明の技術的背景) 鋼板や紙などの表面を光学的に走査して、その表面のキ
ズあるいは内部の欠陥等を検出する欠陥検査装置が公知
である。ここに従来は検査対象を走査して得た画像信号
を予め設定されたしきい値と比較し、画像信号がこのし
きい値により決まる範囲外になると欠陥であると判断し
ていた。
このしきい値は検査対象の種類(鋼板、アルミ板、等)
や、検査対象の検査状態(例えば表面の乾燥、油の付着
、着色の有無、地合いの状態等)によって変更する必要
がある。例えば鋼板と紙とでは表面の光の反射率が異な
り、また表面に油が付着していたり濡れていたり、塗装
しである場合にも反射条件が太き(変化するからである
一方欠陥判別の精度を向上させるために画像信号には種
々の信号処理が施される。例えばアナログ又はデジタル
の微分フィルタによるフィルタリング処理を行ったり、
画像信号の濃度分布範囲を変更する濃度変更処理などが
行われる。このような信号処理の最適条件もまた検査対
象の種類や状態によって変化する。
このように欠陥を精度よく検出するためには、検査対象
の種類や状態によって検査条件を種々に変更することが
必要である。しかしこの検査条件はしきい値だけでなく
信号処理の条件など多種に及ぶため、その設定が非常に
煩雑になり面倒であった。
(発明の目的) 本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、検
査対象の変更や検査条件の変化に対してしきい値や信号
処理などの検査条件の設定を非常に簡単に行えるように
した欠陥検査装置を提供することを目的とするものであ
る。
(発明の構成) 本発明によればこの目的は、検査対象を走査して得た画
像信号から、複数の検査条件を用いて、検査対象の欠陥
を検出する欠陥検査装置において、1つの検査対象の検
査に用いる複数項目の検査条件を1組として複数組の検
査条件をメモリするメモリ手段と、検査条件のいずれか
の組を選定する組選定手段とを備え、選定された前記検
査条件を用いて欠陥を検出することをメモリする欠陥検
査装置、により達成される。
ここに検査条件の組は検査対象の種類毎にメモリしてお
(もの、検査状態に応じて異なる組をメモリしておくも
の、検査対象の種類と検査状態との両方に応じて異なる
組をメモリするものが可能である。使用する検査条件の
組は操作者が手動で選択するように構成することができ
るが、検査対象の種類や状態を自動で判別し使用する検
査条件の組の選定を自動で行えるようにしてもよい。
(作用) 検査対象の種類あるいは検査状態によって対応する1組
の検査条件を選定することにより、検査に最適な検査条
件(設定値、データ)が全て一度の操作で入力すること
ができる。この選定された1組の検査条件を用いて一連
の信号処理を行い、また欠陥の検出を行う。
(実施例) 第1図は本発明の第1の実施例のブロック図、第2図は
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3〜5図は信号処理の説明図である。すなわち第3図
はデジタル方式の微分フィルタリング処理の説明図、第
4図は微分フィルタの一例を示す図、第5図は画像信号
の濃度変換特性の説明図である。
第1図において、符号10は鋼板、紙、プラスチックフ
ィルムなどの検査対象であり、この検査対象10は供給
ロール12から巻取りロール14に送られる。この巻取
りロール14は巻取りモータ16により駆動される。モ
ータ16により巻取られる検査対象1oの走行速度(送
り速度)は速度検出器(パルスジェネレータ)18によ
り検出される。この検査対象1oの送り中にフライング
スポット方式による画像検出手段20によって表面の画
像が読取られる。この画像検出手段20は、レーザー光
源22から射出されるレーザ光からなる走査ビームρを
、モータ24により回転される回転ミラー(ポリゴナル
ミラー)26によって検査対象10の幅方向に走査(主
走査)する−方、検査対象10の表面による反射光を受
光ロッド28によって一対の受光器30 (30a、3
゜b)に導いて受光するものである。すなわち受光ロッ
ド28は走査ビームβの主走査ライン32に近接してこ
れに平行に配設され、反射光を受光すると受光ロッド2
8の内面で反射させてその両端に導き、フォトマルチプ
ライヤ(光電子増倍管)などの受光器30により受光量
が検出される。各受光器30が出力する画像信号はプリ
アンプ、メインアンプで増幅され、また波形整形されて
アナログ画像信号a1%a冨となる。
各信号a r 、a zは走査ビーム2の主走査ライン
32上の走査位置から遠くなるとレベルが低下し、反対
に走査位置に近くなるとレベルが上昇するように変化す
る。そこでこの実施例では、両信号a ls a 2は
加算手段34で加算され、主走査ライン32上の走査位
置の変化による影響が除去されて信号a、となる。
出力調整手段36は、この画像信号a3が望ましい振幅
と出力レベルとなるようにゲインおよびオフセットの調
整を行う。この出力調整手段36での信号処理に用いら
れるデータすなわちゲインg、オフセットo2、その他
のデータなどからなる検査条件は、後記するメモリ手段
60から入力される。
この出力調整された信号a4はA/D変換手段38にお
いてデジタル信号a5に変換される。例えば256階調
の濃度信号a5に変換される。そしてバルクメモリ40
にメモリされる。ここにA/D変換の階調数に等のデー
タは後記メモリ手段60から入力される。
このバルクメモリ40は主走査ラインの画素数Nとモニ
タ上の画像表示エリアの走査線数nとの積(N x n
)に等しい記憶容量を持ち、検査幅ゲート信号に同期し
て一生走査毎にデジタル画像信号a、を記憶する。すな
わちバルクメモリ40の記憶領域が一杯になると最も古
いデータの上に順次上書きしてゆくリングバッファ構造
を持つ。
ここに検査幅ゲート信号は回転ミラー26の回転に同期
して一主走査内の検査幅を示すものである。
一方出力調整手段36で出力調整された信号a4は、信
号処理手段42において信号処理される。この場合はア
ナログ信号処理であるが、A/D変換手段38の出力a
4を信号処理手段42において信号処理するデジタル信
号処理でもよい。
この手段42は例えば微分フィルタによるフィルタリン
グ処理を行う。この微分処理を上記デジタル信号処理の
方法で説明すると例えば第3図に示すように処理対象画
像の各画素毎にこの画素を中心とした例えば3x3領域
に空間フィルタFを重ね合せ、対応する画素同志の積を
求め、それらの総和を出力値yとする。この操作を左上
の画素から右下の画素までラスク走査順に行うものであ
る。
このフィルタリング処理に用いる空間フィルタとしては
第4図に示す重み係数を持ったフィルタを採用すること
ができる。これは行方向微分用のフィルタ△、fと列方
向微分用のフィルタΔyfとの2つのフィルタを用い、
各フィルタの出力の絶対値の和、もしくは両フィルタの
出力のうち大きい方の値をもって最終的な出力値とする
ものである。
ここで微分フィルタの作用をデジタル信号処理の例で説
明したが、アナログ信号処理の場合は公知のアナログ微
分回路により、一走査毎の画像信号を微分処理すればよ
い。
このようなフィルタリング処理の結果、走査ビームβの
光路長の変化、入射角の変化又は検査対象表面の地合い
変化等による信号a3に含まれる周期的な変動〔低周波
成分)が除去され、また画像のχおよびy方向の少くと
も一方向の輪郭が強調され、その後の欠陥検出精度が向
上する。
この信号処理手段42においてはこの微分処理に加えで
あるいはこれに代えて濃度変換を行ってもよい。この濃
度変換に用いる変換テーブルは例えば第5図に示す特性
のものが用いられる。この第5図において横軸は微分処
理されて入力される濃度信号yの濃度を示し、縦軸は出
力される濃度変換後の濃度信号Yを示す。これら濃度信
号y、Yは例えば256階調とされる。またこのテーブ
ルは、背景濃度Cを挟む両側に一定濃度幅a内で一定濃
度(例えば中間の濃度127)とし、この幅aの外では
傾きbをもって最大(255)および最小濃度(0)に
変換するものである。この濃度変換により背景領域のノ
イズを消して欠陥検出精度を向上させることができる。
なおこの濃度変換に用いる設定値a、b、cは後記する
メモリ手段60から入力される。
以上のように微分フィルタでフィルタリング処理をした
信号yは、信号a4にあった低周波成分が除去されて欠
陥の部分が強調され、また濃度変換により背景のノイズ
が消されている。
欠陥検出手段44はこの信号a、を所定のしきい値(ま
たは範囲)と比較し、aaがこのしきい値により決まる
範囲外になった時に欠陥と判断する。この欠陥を示す信
号Zはアドレス判別手段46に送られ、この欠陥のアド
レスAdが求められる。
このアドレスAdは運転制御部48から得られる。すな
わちこの運転制御部48は、検査対象10の送り速度を
後記メモリ手段60から入力された指令速度v1に一致
させるようにモータ16を駆動する。またレーザビーム
氾の主走査方向の走査速度が、同様にメモリ手段60か
ら入力される指令速度Vxに一致するようにモータ24
を駆動する。運転制御部48は速度検出器18からの速
度パルスをカウントして副走査方向のY座標を求め、ま
たモータ24の回転速度および検査幅ゲート信号を基準
とする経過時間から主走査方向のX座標を求め、これら
の座標(X、Y)が走査位置の座標としてアドレス判別
手段46に出力されるものである。
このようにして欠陥のアドレスAdが求められると、前
記バルクメモリ4oはこのアドレスAdを含む領域すな
わち欠陥を含む領域をフレームメモリ50に移す。この
フレームメモリ5oには信号aIIと共に信号の座標(
X、Y)を同時にメモリしておいてもよい。。
このフレームメモリ50の内容はさらに必要に応じて信
号処理手段52において信号処理される。例えば後記メ
モリ手段60から入力された倍率(Xn)となるように
欠陥部分を拡大または縮小する。そしてこの画像はCR
Tなどのモニタ54に表示される。ここに欠陥のアドレ
スAdを欠陥の画像と共に表示してもよい。この画像や
アドレスAdは必要に応じてビデオ、光磁気ディスク、
フロッピーディスク、ハードディスク、メモリーテープ
などに記録してもよい。
一方アドレス判別手段46が欠陥のアドレスAdを求め
ると、次に信号処理手段56において例えば分類処理が
行われる。これは欠陥検出手段44で求めた欠陥の大き
さや広がりなどの欠陥の程度や種類などを判別し、欠陥
を分類するものである。この分類結果はプリンタやデー
タ回線で接続された外部のプロセスコンピュータなどの
出力手段58に出力される。この分類処理に用いるデー
タは後記メモリ手段60から入力される。
以上の処理に用いるデータすなわち検査条件は、メモリ
手段6oから供給される。このメモリ手段60は第2図
に示すように、用いる複数項目の検査条件(設定値など
のデータ)を1組として、検査対象の種類とその検査状
態ごとに別々の組合せをメモリする。例えば鋼板Aに対
しては、その表面が乾いた状態、油が付着している状態
、着色した状態等の状態に応じて別々の組工、■、■と
する。メモリする検査条件は、例えば前記出力調整手段
36で用いるゲインg1オフセッhorや、A/D変換
手段38で用いる階調数k、信号処理手段42で用いる
フィルタΔ8f、△、f、あるいは濃度変換の設定値a
、b、c、欠陥検出手段44で用いるしきい値υ、走査
速度V、、V、、倍率(Xn)、分類処理のデータなど
である。
これらの設定値は条件入力手段62から手動あるいは自
動で入力される。例えば検査者がモニタ54の画像や出
力手段58でプリントされた結果を見ながら好ましい設
定値を検査対象1oの検査条件毎にキーボードなどから
手動で入力する。また一部の設定値を自動で求めてもよ
い。例えば出力調整手段36の出力レベルが所定範囲に
入るようにゲインgおよびオフセット0.を自動で設定
するように構成することができる。
このようにメモリ手P!j60にメモリされ検査条件の
各組の中から、使用する組が組選定手段64により手動
あるいは自動で決められ、切換手段66はこの指定され
た組をメモリ手段60から読出して各部へ出力する。
以上の実施例はレーザを検査対象表面で反射させるフラ
イングスポット方式のものであるが、検査対象をその幅
方向に配置した棒状光源で照射し、その反射光を回転ミ
ラーを介して受光器で読取るフライングイメージ方式の
もの、あるいはラインセンサやエリヤセンサにより画像
を読取る方式のもの等であってもよい。
以上の各実施例では検査対象の表面に現われた欠陥を検
出するものとして説明しているが、本発明は表面を走査
することにより内部の欠陥を検出するものも包含する。
例えば鋼板の内部欠陥を磁気光学効果を用いて検出する
ものであってもよい。これは、検査対象を交流磁界で磁
化した時の欠陥からの漏れ磁界を反射光の偏光の変化と
して検出するものである。
(発明の効果) 本発明は以上のように複数項目の検査条件を1組として
、これを検査対象ごとに複数組メモリしておき、検査の
際に検査対象に対応する組を選定して検査を行うもので
あるから、検査対象が変わる度に複数の検査条件を別々
に設定し直す必要がなく、操作が非常に簡単になる(請
求項(1))。
ここに検査条件の組は、検査対象の種類だけでな(その
検査状態、例えば表面状態に対応して設けておいてもよ
く、この場合には検査状態の変化に対しても検査条件が
簡単に変更できる(請求項4゜ (2))。
またメモリする検査条件をキーボードなどから手動で入
力したり(請求項(3) ) 、使用する組を手動で選
定するようにすれば構成が簡単になるが、これらを自動
で行うようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例のブロック図、第2図は
メモリ手段にメモリされる検査条件の組の例を示す図、
第3図は空間フィルタリング処理の説明図、第4図は微
分フィルタの一例を示す図、第5図は画像信号の濃度変
換特性の説明図である。 10・・・検査対象、 20・・・画像検出手段、 60・・・メモリ手段、 62・・・検査条件入力手段、 64・・・組選定手段。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)検査対象を走査して得た画像信号から、複数の検
    査条件を用いて、検査対象の欠陥を検出する欠陥検査装
    置において、 1つの検査対象の検査に用いる複数項目の検査条件を1
    組として複数組の検査条件をメモリするメモリ手段と、
    検査条件のいずれかの組を選定する組選定手段とを備え
    、選定された前記検査条件を用いて欠陥を検出すること
    を特徴とする欠陥検査装置。
  2. (2)メモリ手段には検査対象の種類とその検査状態と
    の少なくとも一方に対応した検査条件の組をメモリする
    請求項(1)の欠陥検査装置。
  3. (3)メモリ手段にメモリする検査条件を手動で設定す
    るための条件入力手段を備える請求項(1)の欠陥検査
    装置。
JP26913790A 1990-09-14 1990-10-05 欠陥検査装置 Pending JPH04145349A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26913790A JPH04145349A (ja) 1990-10-05 1990-10-05 欠陥検査装置
EP19910115660 EP0475454A3 (en) 1990-09-14 1991-09-16 Defect inspection system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26913790A JPH04145349A (ja) 1990-10-05 1990-10-05 欠陥検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04145349A true JPH04145349A (ja) 1992-05-19

Family

ID=17468208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26913790A Pending JPH04145349A (ja) 1990-09-14 1990-10-05 欠陥検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04145349A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6118525A (en) Wafer inspection system for distinguishing pits and particles
US4448532A (en) Automatic photomask inspection method and system
US4488648A (en) Flaw detector
JPH0328749A (ja) オンライン式構造検査方式
US4253768A (en) Processing system for detection and the classification of flaws on metallic surfaces
US4841139A (en) Method for testing components of transparent material for surface irregularities and occlusions
JPH06148098A (ja) 表面欠陥検査装置
JP2577655B2 (ja) 欠陥検査装置
US4155012A (en) Discrimination circuit arrangements
JPH04145351A (ja) 欠陥検査装置
EP0475454A2 (en) Defect inspection system
JPH0454443A (ja) 欠陥検査装置
JP2691794B2 (ja) 欠陥検査装置
EP0519255A2 (en) Defect inspection system and inspection process
JPH04355353A (ja) 欠陥検査装置
JPH05126759A (ja) 欠陥検査装置
JPS61176838A (ja) 透明または半透明の板状体の欠点検査方法
JPH04355354A (ja) 欠陥検査装置
JPS6341102Y2 (ja)
JP2896215B2 (ja) 画像処理装置
JPS6321857B2 (ja)
JP2535257B2 (ja) ストリップの表面欠陥検査装置
WO2001040780A1 (en) Imaging system for detecting surface defects and evaluating optical density
JPH04122845A (ja) 欠陥検査装置
JPH04231851A (ja) 欠陥検査装置