JPH0414634A - 再生専用型光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的読み出しを行なう再生専用型光ディスク
に関する。

〔従来の技術とその課題〕

再生専用型光ディスクは低コストな大容量の記録媒体と
して既に広く実用化されている。特に音楽再生用、画像
再生用として普及がめざましい。

再生専用型光ディスクの構成は記録信号に相当するピッ
ト（凹凸）を表面に形成した透明基板上に反射膜（通常
Ａｌ）を蒸着し、さらに樹脂による保護コートをしてな
る。

しかしながら、この構成には耐候性に問題が残っている
。例えば、温湿度の急激な変化を与えた場合の基板の膨
張、収縮に伴う反射膜の剥離または高温、高湿下での反
射膜の腐食等は直接エラーレートの増加とつながり、光
ディスクの信顛性を大きく低下させる。

特に高温、低温等の特殊環境下における使用をおこなう
場合、上記耐候性の問題は非常に重要になる。

〔課題を解決するための手段〕。

本発明者等は、上述の課題に鑑み、高耐候性を持った再
生専用型光ディスクを提供すべく鋭意検討した結果特定
の構造を選択することにより非常に耐候性に優れたディ
スクが得られることを見出した。

〔発明の構成〕

本発明の要旨は、凹凸情報が形成された円環状の合成樹
脂製透明基板上に反射層及び保護層を設けてなる再生専
用型光ディスクにおいて、反射層を円環状基板の外周縁
部と内周縁部との間の中間部にのみ設け、保護層を反射
層の上面部並びに基板の外周縁部及び内周縁部を覆うよ
うに設けてなり、反射層をＴａを含有したＡ２合金とし
たことを特徴とする再生専用型光ディスクに存する。

以下本発明の詳細な説明する。

本発明に用いられる基板は再生光を透過する為に透明な
ものであり、ポリカーボネートが好ましく用いられる。

ポリカーボネートは通常、溶融状態にして金型に射出す
る所謂、射出成形により基板に成形される。この際金型
中に予め凹凸情報が記録されたスタンパ−を設置してお
くことにより凹凸情報は基板に転写される。直径１３０
ｍｍφ又は８６ｍｍφの基板の場合、基板の厚さは１．
２ｍｍが標準である。

ポリカーボネートは射出成形した際の残留歪が大きすぎ
ると光学的に好ましくないので通常１３０００〜１６０
００程度の重量平均分子量のものを樹脂温３２０〜３８
０°Ｃ程度で射出成形するのが好ましい。

再にポリカーボネート上に設けられる反射層の腐食や劣
化の防止の上からポリカーボネート中に含有される残留
ハロゲンは２０ｐｐｌＩ以下、好ましくは５　ｐｐｍ以
下とされるのが良い。

ポリカーボネートは、ハロゲン化炭化水素を溶媒として
フェノール系化合物（ピースフェノールＡ）とホスゲン
を反応させて得るものであるが、この反応時に用いられ
るハロゲン（塩素）化合物はポリカーボネート中に残留
すると反射層を構成する金属と反応し反射層の腐食の原
因となる。

ハロゲン化合物の除去は製造されたポリカーボネート溶
液に、該樹脂の非溶媒を加え、温水中に噴霧するなどし
てゲル化させ溶媒を留去する方法等や水洗による精製が
採用される。

前記基板上に通常再生光を反射させる為の反射層を形成
するが、本発明においては反射層としてＴａを含有する
ＡＩ１合金を用いる。Ｔａを含有すするＡｌ合金はへ２
単体の膜に比べ耐食性に優れ、ディスクの高信顛性を確
保することになる。Ｔａの含有量としては好ましくは０
．１〜１５原子％（ａｔ％）さらに好ましくは０．５〜
１０ａｔ％である反射層の膜厚としては好ましくは３０
０Å以上１μｍ以下、さらに好ましくは５００Å以上３
０００Å以下である。

反射層は基板の外周縁部及び内周縁部には設けず、その
両開縁部の中間部にのみ設ける。これは、反射層をスパ
ッタリング等で設ける際、基板の外周縁部及び内周縁部
をカバーで覆っておくこと等によって行なわれる。

この反射層の形成前に基板の表面を処理し、反射層の密
着性、経時安定性を向上させることも考えられる。

表面処理の方法としてはプラズマ処理、紫外線照射処理
等が考えられるが、いずれにしても腐食や剥離の原因と
なる基板の表面に吸着された水分や基板の表面に付着し
た有機物等を除去する程度の処理、すなわち、水分除去
処理とでも云う処理で良い。

処理の程度は処理の方法により一概に決定できないが、
プラズマ処理の場合は基板表面を水の接触角が６０°以
下のぬれ性となる程度、紫外線照射処理の場合も基板表
面を水の接触角が６０’以下のぬれ性となる程度処理す
るのが良い。

この基板の表面処理は、基板成形後、反射層を形成する
までの間に付着する水分や有機物を除去するための処理
であるから、基板成形後１２０分、好ましくは３０分以
内に反射層を形成し始める場合には、行なわなくても良
い場合もある。

反射層の上には更に保護層が設けられる。保護層は、例
えばエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等を
主成分とした系等の、エネルギー線（紫外ＮＩＡ）を照
射することによって硬化する所謂、硬化性樹脂或いはシ
リコン系等の熱硬化型樹脂が好適に用いられる。中でも
紫外線硬化型樹脂が好適である。

これらの硬化性樹脂からなる保護層は、通常反射層上に
直接スピンコード、バーコーター等の塗布法により塗布
され硬化されるものであるから、本発明のＡｆ−Ｔａ反
射層を腐食したり劣化させたりすることがないものであ
ることが必要とされ、また、基板の外周縁部及び内周縁
部の反射層の設けられていない部分では、基板と保護層
とが通常は直接接触するものであるから、基板との密着
が良いこと、基板を劣化させたりしないこと等の性質も
要求される。

従って、この硬化性樹脂としては反射層を劣化させる原
因となるＮａ、に、Ｃａ等のアルカリ金属又はアルカリ
土類金属及びＣＩ２、Ｂｒ、、Ｆ等のハロゲンの含有量
がアルカリ金属又はアルカリ土類金属として、すなわち
化合物中のＮａやＣａ等として１０ｐｐｍ以下、ハロゲ
ンとしては、すなわち化合物中のＣｌやＢｒ等として２
０ｐｐｍ以下のものを用いるのが良い。これらの樹脂を
得る方法としては製造工程中で洗浄を十分行う方法（水
又は溶媒洗浄）や、溶媒による結晶化（晶析）等により
行う方法がある。

保護層の厚さは（硬化後）１〜２０μ程度が好ましく、
これ以上厚くすると保護層の収縮等の影響による基板の
変形が起る場合があり、この対策を講じなければならな
いし、薄すぎれば耐久性が低下する。

硬化後の保護層としては、鉛筆硬度がＨＢ以上程度、硬
化時から硬化後にかけての収縮率がＯ〜１５％程度のも
のであることが外力に対する保護、基板の変形に対する
配慮、取扱い易さ等の点から好ましい。

〔実施例〕

以下に実施例をもって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定
されるものではない。

本明細書及び実施例中における含有量等の測定法は以下
の通りである。

１）　アルカリ金属含有量の測定 ・原子吸光分析法で測定。（化合物としてではなく、Ｎ
ａ、に等としての含有量。） ２）ハロゲン含有量の測定 ・試料３０■を酸化分解（酸素気流中で燃焼し、生成す
るハロゲン化水素を銀電極を用いて電量滴定する。含有
量は（１（クロル）換算とする。

使用装置［三菱化成社製、塩素・硫黄分析装置、ＴＳＸ
−１０Ｊ ３）接触角の測定 ・協和界面科学■製 ＦＡＣＥ接触角計ＣＡ−３１５０型を用いて測定。

ρ　■ ％で得た値である。

ρＩ　＝硬化前（液体）の密度 ρ、：硬化後の密度 実施例１ 重量平均分子量１５，０００、残留塩素５１）ｐｌｎの
ポリカーボネートを用い、樹脂温３５０°Ｃでスタンバ
−を内蔵した金型に射出形成し、トラッキング用グルー
プ及び凹凸情報を持った１３０ｍｍφのポリカーボネー
ト基板を得た。

この基板をスパッタ装置内に導入し、８×１ＯＴｏｒｒ
以下まで排気した後、この基板の凹凸情報が形成された
側に５ｍｍＴｏｒｒ、１００Ｗ、３０秒間の条件でプラ
ズマ処理を行なった。次いで該基板上にＡｌｑ７Ｔａｓ
　　（ａｔ％）の組成を持った合金ターゲットをＡｒガ
スでＤＣスパッタリングした。基板上にはｔ＋ｉ：ｑｈ
Ｔａａ　　（ａｔ％）の組成を持った反射層が１０００
人形成された。組成の分析は蛍光Ｘ線分析を用いて行な
った。

反射層は基板の中心から半径２２ａｅの位置から６２閣
の位置まで設け、基板の内周縁には幅１４゜５１１Ｉ１
１、外周縁には幅３ｍの反射層を設けていない部分を形
成した。

この反射層を設けた基板にアルカリ金属含有量３ｐＩ）
＋１１、ハロゲン化合物含有量５　ｐｐｍのエポキシ系
紫外線硬化型樹脂をスピンコードし、紫外線を照射して
硬化させ５μの保護層を設けた。該保護層の硬度はＨ１
収縮率は８％であった。このようにして得られたディス
クを７０°Ｃ１９０％ＲＨの条件で１０００時間の加速
試験を行ない、経時的にドロップインエラーレートを測
定したところ増加は１．６倍に止まった。

実施例２ プラズマ処理に変えて紫外線照射処理を行ない、水の接
触角が４５°となるように処理した。他は実施例１と同
様にしてディスクを得た。

加速試験を行なったところドロップインエラーレートは
１．４倍に止まった。

実施例３．４．５ ＡｌｑｑＴａｓ　　（ａ　ｔ％ンのターゲット上にＴａ
チップ又はＡ！チップを置くことによりＡ１．ｑｑＴａ
＋、Ａ１２９１５Ｔａｚ、　ｓ、Ａ　ｌ　、、Ｔａ、の
反射層を形成した外は実施例１と同様にしてディスクを
得た。

加速試験を行なったところドロップインエラーレートは
それぞれ１．７，１．４及び１．２倍に止まった。

比較例１ 実施例１と同様にして、基板上にＡｌ単体の膜を１００
０人成膜したほかは実施例１と同様にしてディスクを得
た。このディスクを実施例１と同様に加速試験を行なっ
たところ全面に腐食が発生しエラーレートは測定不能だ
った。

〔発明の効果〕

本発明の光ディスクは耐候性に優れるので過酷な条件で
の使用、長期保存用の光ディスクとして好適である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）凹凸情報が形成された円環状の合成樹脂製透明基
   板上に反射層及び保護層を設けてなる再生専用型光ディ
   スクにおいて、反射層を円環状基板の外周縁部と内周縁
   部との間の中間部にのみ設け、保護層を反射層の上面部
   並びに基板の外周縁部及び内周縁部を覆うように設けて
   なり、反射層をＴａを含有したＡｌ合金としたことを特
   徴とする再生専用型光ディスク。
2. （２）前記反射層がＴａを０．１〜１５ａｔ％含有する
   Ａｌ合金であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の再生専用型光ディスク。
3. （３）保護層が硬化性の樹脂であり、残留するアルカリ
   金属又はアルカリ土類金属が１０ｐｐｍ以下、残留する
   ハロゲンが２０ｐｐｍ以下の樹脂であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の再生専用型光ディスク。